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公开(公告)号：CN116400569A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202211695442.3
申请日：2022-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供使被处理基片的各产品区域周边的曝光分辨率提高的辅助曝光装置、曝光方法和存储介质。辅助曝光装置包括输送部、光源单元和聚光透镜。输送部在第一方向上输送包含多个产品区域和位于各产品区域的周边的周边区域的被处理基片。光源单元在与第一方向交叉的第二方向上排列地形成有多个光源，向在第一方向上被输送的被处理基片照射光。聚光透镜配置在光源单元与被处理基片之间，将利用光源单元向被处理基片的在第二方向上延伸的周边区域照射的光沿着第一方向聚光。
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公开(公告)号：CN110634766A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910530951.2
申请日：2019-06-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , G03F7/30 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够缩短基片处理装置在基片输送方向的长度的技术。实施方式的基片处理装置包括可动工作台和工作台移动机构。可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构。工作台移动机构能够使可动工作台至少在上下方向移动。
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公开(公告)号：CN104051674A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410097639.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 精工爱普生株式会社
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种更够高效地且在短时间除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且容易对用于收集溶剂的构件进行更新的干燥装置和干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、与支承在载置台（3）上的基板（S）相对地设置且用于收集自有机材料膜挥发的溶剂的溶剂收集部（5）、以及控制部（6）。溶剂收集部（5）还包括用于使收集的溶剂脱离的作为溶剂脱离装置的温度调节装置（7）。溶剂收集部（5）包括与载置在载置台（3）上的基板（S）相对且与该基板（S）的表面大致平行地配置的1张或者多张金属板的收集板（50）。在收集板（50）中形成有多个贯通开口（50a）。
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公开(公告)号：CN112925178A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011346508.9
申请日：2020-11-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供能够提高基片的电路图案的精度的基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括输送机构、改性装置和显影装置。输送机构平流地输送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。改性装置对由输送机构输送的基片进行抗蚀剂膜的改性处理。显影装置对进行了改性处理且由输送机构输送的基片进行显影处理。改性装置包括供给处理部、改性清洗处理部和改性干燥处理部。供给处理部将改性液供给到基片。改性清洗处理部对被供给了改性液的基片供给冲洗液，对基片进行清洗。改性干燥处理部从基片除去冲洗液，使基片干燥。
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公开(公告)号：CN104043573A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410096586.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 精工爱普生株式会社
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供能够高效地且在短时间内除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且能够在基板的面内进行均匀的干燥处理的干燥装置及干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、用于朝向支承在载置台（3）的基板（S）上的有机材料膜喷射气体的气体喷射装置（5）、以及控制部（6）。干燥装置（100）还包括用于调节处理容器（1）内的压力的压力控制机构。多个喷嘴（51）构成为能够针对每个喷嘴（51）独立调节气体的喷射流量、气体的种类。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110544752A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201910830977.9
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN106935734B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201610881393.0
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN104043573B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201410096586.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供能够高效地且在短时间内除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且能够在基板的面内进行均匀的干燥处理的干燥装置及干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、用于朝向支承在载置台（3）的基板（S）上的有机材料膜喷射气体的气体喷射装置（5）、以及控制部（6）。干燥装置（100）还包括用于调节处理容器（1）内的压力的压力控制机构。多个喷嘴（51）构成为能够针对每个喷嘴（51）独立调节气体的喷射流量、气体的种类。
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公开(公告)号：CN106935734A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201610881393.0
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN110544752B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201910830977.9
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板处理系统的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的基板处理系统包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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