-
公开(公告)号：CN107871828B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
-
公开(公告)号：CN107872914B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
-
公开(公告)号：CN107872914A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
CPC classification number: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107871828A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , B05D3/0254 , H01L51/0026
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
-
公开(公告)号：CN113036066A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110263228.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
-
公开(公告)号：CN112974180A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011436834.9
申请日：2020-12-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的提供能够提高减压干燥处理的均匀性的减压干燥装置和减压干燥方法。本发明的一个方式的减压干燥装置进行使基片上的液体在减压状态下干燥的减压干燥处理。实施方式的减压干燥装置包括腔室、多个顶升销和工作台。腔室收纳基片，顶升销具有与基片的下表面接触的头部和与头部连接的杆部，能够在进行基片的交接时的上升位置与进行减压干燥处理时的下降位置之间升降。工作台具有多个供杆部插通的插通孔。此外，头部在上表面的至少一部分具有在下降位置与工作台的上表面成为一个面的平坦面。
-
公开(公告)号：CN114628279A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202111461609.5
申请日：2021-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供观察装置、减压干燥装置、显示方法和存储介质。本发明要解决的技术问题是提高减压干燥处理中的基片的拍摄结果的便利性。本发明的观察装置包括：拍摄部，其用于对减压干燥处理中的基片进行拍摄，所述减压干燥处理用于使所述基片上的溶液在减压下进行干燥；和获取部，其用于将所述减压干燥处理中的各时刻的、由所述拍摄部拍摄得到的基片图像和用于进行所述减压干燥处理的减压干燥装置的与所述减压干燥处理相关的状态，与该时刻的时刻信息一起获取。
-
公开(公告)号：CN113517416A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110346113.7
申请日：2021-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，使基片上的溶液中的溶剂在短时间干燥。在减压状态下使基片上的溶液干燥的该减压干燥装置包括：载置基片的载置台；溶剂收集部件，具有多个在厚度方向上贯通的贯通孔，以与载置于载置台的基片相对的方式设置，并暂时收集从该基片气化了的溶液中的溶剂；处理容器，其可减压且在内部设置上述载置台和上述溶剂收集部件，具有从厚度方向观察围绕载置台的侧壁；和围绕部件，其从厚度方向观察时以能够将处理容器内的侧壁与溶剂收集部件之间封闭的方式围绕溶剂收集部件，并与溶剂收集部件设置于同一平面上，围绕部件使处理容器内的气体通过从厚度方向观察比溶剂收集部件靠外侧的部分时的压力损失增加。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.018 seconds)
