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公开(公告)号：CN104425308A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410455722.6
申请日：2014-09-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/66 , H01L21/677 , H01L21/02
CPC classification number: H01L22/12
Abstract: 本发明提供一种能够实现轻量化且廉价的测定装置、基板处理系统和测定方法。实施方式的一个方式所涉及的测定装置包括搬送部、拍摄部和测定部。搬送部搬送形成有图案的基板。拍摄部配置于搬送部的上方，对载置于搬送部上的基板的图案进行拍摄。另外，测定部根据由拍摄部所拍摄的图案的图像信息来测定图案的形状。
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公开(公告)号：CN101814424B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201010119645.9
申请日：2010-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供能高效顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上供给到被处理基板的第1处理液而替换为第2处理液的动作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。包括：基板输送路径，以平流输送被处理基板；第1处理液供给部件，向在基板输送路径中输送的被处理基板供给第1处理液；气体供给部件，朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向在基板输送路径中输送的、被供给第1处理液后的被处理基板吹规定的气流；第1冲洗液供给部件，以规定的流速向在基板输送路径中输送的、被气体供给部件吹过的气流后的被处理基板的基板表面供给第2处理液；第2冲洗液供给部件，以比第1冲洗液供给部件高的流速向被供给第2处理液后的、在基板输送路径中输送的被处理基板供给第2处理液。
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公开(公告)号：CN113741156A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202110539078.0
申请日：2021-05-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供能够抑制基片的产品缺陷的显影处理装置和显影处理方法。实施方式的显影处理装置包括运送机构、送入部、显影部和气体供给部。运送机构平流地运送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。送入部能够供基片送入。显影部具有显影液供给嘴，该显影液供给嘴对由运送机构从送入部运送的基片的表面供给显影液。气体供给部设置在送入部，向显影液供给嘴倾斜地供给气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101814424A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010119645.9
申请日：2010-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供能高效顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上供给到被处理基板的第1处理液而替换为第2处理液的动作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。包括：基板输送路径，以平流输送被处理基板；第1处理液供给部件，向在基板输送路径中输送的被处理基板供给第1处理液；气体供给部件，朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向在基板输送路径中输送的、被供给第1处理液后的被处理基板吹规定的气流；第1冲洗液供给部件，以规定的流速向在基板输送路径中输送的、被气体供给部件吹过的气流后的被处理基板的基板表面供给第2处理液；第2冲洗液供给部件，以比第1冲洗液供给部件高的流速向被供给第2处理液后的、在基板输送路径中输送的被处理基板供给第2处理液。
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公开(公告)号：CN104425308B
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201410455722.6
申请日：2014-09-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/66 , H01L21/677 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种能够实现轻量化且廉价的测定装置、基板处理系统和测定方法。实施方式的一个方式所涉及的测定装置包括搬送部、拍摄部和测定部。搬送部搬送形成有图案的基板。拍摄部配置于搬送部的上方，对载置于搬送部上的基板的图案进行拍摄。另外，测定部根据由拍摄部所拍摄的图案的图像信息来测定图案的形状。
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公开(公告)号：CN110634766A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910530951.2
申请日：2019-06-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , G03F7/30 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够缩短基片处理装置在基片输送方向的长度的技术。实施方式的基片处理装置包括可动工作台和工作台移动机构。可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构。工作台移动机构能够使可动工作台至少在上下方向移动。
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公开(公告)号：CN102540770B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201110401536.0
申请日：2011-12-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。
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公开(公告)号：CN102540770A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110401536.0
申请日：2011-12-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。本发明还提供一种显影方法和具备该显影装置的涂敷显影处理系统。
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