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公开(公告)号：CN104698767B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201310671750.7
申请日：2013-12-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成与最后一片物镜的形状相匹配的腔体，挡块上设有：水平进液口，与最后一片物镜的侧边的位置相对应；水平出液口，与水平进液口对称设置；垂直进液口，通至挡块的底部；垂直抽取口，通至挡块的底部，且垂直抽取口与腔体的中心的距离大于垂直进液口与腔体的中心的距离；辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖衬底台，包括：气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；第一气腔与第二气腔间通过第一间隙导通。本发明能够有效防止浸液泄漏。
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公开(公告)号：CN104238277B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310245140.0
申请日：2013-06-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机及其流场维持方法，其结构包括主框架、从上至下依次固定于所述主框架上的照明系统、投影物镜以及硅片台，所述硅片台上放置有涂有感光光刻胶的硅片，所述投影物镜与所述硅片之间填充有浸液，所述投影物镜与所述硅片之间还设有浸没限制机构，所述浸没限制机构上设有浸液供给开口、抽取开口以及气密封气体进口，所述浸液供给开口为浸液提供补给；所述抽取开口连接至分立的负压源，为浸液提供抽排负压；所述气密封气体进口包括第一气密封气体进口和第二气密封气体进口，所述第一气密封气体进口和第二气密封气体进口分别连接至分立的正压源，为浸液提供供气正压。本发明通过两个气密封气体进口的配合，以减少曝光缺陷。
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公开(公告)号：CN102564299B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201010618443.9
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B9/02
Abstract: 本发明提供一种提高目标空间温度稳定性的实现装置及方法，所述实现装置包括：内壳，其内部为所述目标空间，所述目标空间中填充有第一介质；外壳，包围在所述内壳外部，与所述内壳之间形成环形空间，所述环形空间中填充有第二介质；静压腔体，设置于所述外壳的一端；过滤器，设置于所述外壳与所述静压腔体之间，所述静压腔体、过滤器及外壳三者连通。本发明所述提高目标空间温度稳定性的实现装置及方法，应用于干涉仪等需要高温度稳定性的装置，可以实现长时间的高温度稳定性。
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公开(公告)号：CN103091994B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201110341896.6
申请日：2011-11-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种气体温度控制装置，包括：气体侧管路，液体侧管路，以及控制器；所述液体侧管路由第一回路与第二回路组成，所述液体侧管路连接于所述热交换器；其中所述第二回路包括电动双通阀，手动调压阀，循环泵与温度传感器；所述第一回路则包括球阀，过滤器与温度传感器。本发明提出了气体温度控制装置，此装置采用两级液体循环控温系统，且对冷却或加热的循环液体无精度要求，通过控制进入回路内的液体流量，进行冷热补偿，可获得较高的气体温控精度，从而保证光刻机内温度的稳定性和均匀性指标。
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公开(公告)号：CN103000486B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201110266516.7
申请日：2011-09-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01J61/52
Abstract: 本发明提出一种气体射流冲击冷却装置，用于冷却汞灯的阳极。汞灯包括阳极和椭球碗，阳极容置在椭球碗中。气体射流冲击冷去装置包括偶数个喷嘴，对称设置在椭球碗的上端面。喷嘴包括接入口和喷口。接入口连接冷却介质。喷口用于喷出冷却介质至阳极。本发明提出的气体射流冲击冷却装置，包括对称设置在汞灯上的喷嘴，能够对圆柱体形的阳极进行有效冷却，其成本低廉，冷却效率高，适于产业上的广泛利用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104749893A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310737636.X
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置，包括腔体结构、气体供给装置、泵组以及监测装置，其中，气体供给装置可存放、净化处理气体，并调节控制气体质量流量；泵组可对腔体结构抽真空，维持腔体结构真空环境；监测装置用于监测腔体结构真空度、腔体结构内组分的分压，其特征在于：所述腔体结构包括主腔室、工件台腔室以及连接通道，所述各腔室之间相互隔离，连接通道两端分别采用可拆密封连接于主腔室和工件台腔室。本发明的极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置可运用于EUV辐射光刻设备中，有效控制光源腔、主腔室及工件台腔室的环境。采用气流隔离的方式，有效防止了不同设备区的交叉污染，起到保护设备的作用；同时，这种气流隔离的密封方式，可有效提高光束的透射率。
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公开(公告)号：CN103293271A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041162.0
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种污染测试装置及方法。污染测试装置包括进风管、静压腔、过滤器、工作腔体、固定孔板、回风孔板、回风腔和回风管，其中进风管一端连接外部气源，另一端连接静压腔，过滤器设置在静压腔和工作腔体之间，工作腔体的背面设置有开孔，固定孔板设置在工作腔体的底部，回风孔板设置在工作腔体和回风腔之间，回风管一端连接回风腔，另一端连接进风管。本发明的污染测试装置及方法可以实现多种污染测试，可同时测试材料和运动部件释放颗粒、分子污染物的特性，功能多样，结构简单。
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公开(公告)号：CN103000486A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201110266516.7
申请日：2011-09-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01J61/52
Abstract: 本发明提出一种气体射流冲击冷却装置，用于冷却汞灯的阳极。汞灯包括阳极和椭球碗，阳极容置在椭球碗中。气体射流冲击冷去装置包括偶数个喷嘴，对称设置在椭球碗的上端面。喷嘴包括接入口和喷口。接入口连接冷却介质。喷口用于喷出冷却介质至阳极。本发明提出的气体射流冲击冷却装置，包括对称设置在汞灯上的喷嘴，能够对圆柱体形的阳极进行有效冷却，其成本低廉，冷却效率高，适于产业上的广泛利用。
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公开(公告)号：CN102194529A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201010128759.X
申请日：2010-03-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G12B15/06
Abstract: 本发明提供了一种带有主动冷却的贴片式散热装置，包括形成流体回路的水冷贴片、主动制冷单元和泵。所述泵驱动循环冷却介质在所述回路中流通。所述水冷贴片与散热对象贴合，以通过所述循环冷却介质将所述散热对象中的热量转移到自身。所述主动制冷单元，其对循环冷却介质进行制冷，以使其达到预定温度。并且其中，所述水冷贴片中形成有蛇形管以供所述循环冷却介质流经。本发明的散热装置采用半导体制冷装置制冷，能够将水温稳定在很高精度范围内，并通过迅速散热的贴板结构能够将散热对象的温度稳定在与循环水温的相近温度，从而达到对象散热与温度稳定的功能。
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公开(公告)号：CN104950585B
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201410114022.0
申请日：2014-03-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸液限制机构，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道及供气通道，第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，供气通道连接至供气设备，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。本发明通过增设第二水平供液通道和第二水平出液通道，并对其位置和尺寸进行约束，改善主流场的流速及均匀性，并减小曝光场的压力波动，防止压力波动对浸液焦深及套刻的影响。
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