一种半导体功率器件及制备方法
    91.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112447832A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201910803935.6

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 本发明涉及检测的技术领域,公开一种半导体功率器件及制备方法,该半导体功率器件,包括:衬底、形成于衬底内的结构层、形成于衬底一侧表面的金属连接层;其中:衬底包括沿衬底厚度方向排列的P型层和位于P型层背离金属连接层一侧的N型层以形成P‑N结,衬底形成有开口位于P型层背离N型层一侧表面的电阻沟槽;金属连接层包括测温电阻引出端;结构层包括测温电阻,测温电阻位于电阻沟槽内,测温电阻朝向金属连接层的一端与测温电阻引出端连接、且远离金属连接层的一端伸入至N型层内,且测温电阻与P型层和N型层之间绝缘,能够解决现有技术中对功率器件工作时温度不准确的技术问题。

    一种终端结构制造方法
    92.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112447821A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201910824911.9

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本发明涉及半导体器件领域,具体而言,涉及一种终端结构制造方法,包括在半导体衬底表面设置场氧化层,所述场氧化层厚度范围为1微米至2微米;在所述场氧化层表面沉积氧化硅薄膜,所述氧化硅薄膜厚度范围为10纳米至50纳米;采用湿法刻蚀工艺对所述场氧化层及氧化硅薄膜进行刻蚀,根据所述场氧化层及氧化硅薄膜之间的刻蚀速率差使所述场氧化层形成斜面台阶结构;在所述斜面结构进行离子注入掺杂、热扩散激活及PN结推进,本方案通过在场氧化层表面设置氧化硅薄膜,根据场氧化层及氧化硅薄膜之间的刻蚀速率差使场氧化层形成斜面台阶结构,有利于终端扩散结的边缘渐变,有利于调节PN结表面的电场,提高PN结的耐压和击穿特性。

    二极管及其制备方法
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112397388A

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN201910760385.4

    申请日:2019-08-16

    Abstract: 本发明涉及一种二极管及其制备方法。该二极管的制备方法包括以下步骤:提供表面形成有外延层的衬底,所述外延层的表面包括主结区和包围所述主结区的非主结区;在所述非主结区的表面形成隔离层,并形成与所述主结区位置对应的主结槽;对所述主结槽的底面进行扩铂处理;在所述扩铂处理后的所述主结槽的底面形成电阻层,得到中间器件;其中,所述电阻层在所述主结区的投影面积小于所述主结区的面积;在所述中间器件的正面形成与所述主结区连接并与所述电阻层绝缘设置的阳极,和位于所述电阻层的表面且与所述阳极绝缘设置的电阻电极;在所述中间器件的背面形成阴极。利用该制备方法以解决主结区扩铂不完全,且电阻层电阻值难以控制的问题。

    快恢复二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112310226A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201910691503.0

    申请日:2019-07-29

    Abstract: 本发明提供一种快恢复二极管,涉及二极管领域。该快恢复二极管,包括:衬底层;N型外延层,位于所述衬底层表面;P型注入区,位于所述衬底层表面,且设置于所述N型外延层的侧部;扩散区,位于所述N型外延层的顶部区域,与P型注入区分隔设置。利用该快恢复二极管能够解决现有技术中采用扩铂工艺降低快恢复二极管反向恢复时间时容易导致其正向导通压降高的问题,通过改变快恢复二极管的结构达到降低快恢复二极管反向恢复时间的目的。

    半导体功率器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN112086502A

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201910509312.8

    申请日:2019-06-13

    Abstract: 本发明提供了一种半导体功率器件的制造方法,所述半导体功率器件包括硅衬底晶圆,该方法包括:在所述硅衬底晶圆上形成元胞有源区和终端环区;在所述元胞有源区和所述终端环区上形成位于所述终端环区的正硅酸乙酯氧化层;在所述硅衬底晶圆的元胞有源区形成位于所述元胞有源区的沟槽;在所述元胞有源区形成栅极和发射极;在所述硅衬底晶圆的元胞有源区形成具有接触孔图形的层间介质氧化层;在所述硅衬底晶圆上依次形成金属层和钝化层。本发明在制造时在元胞有源区和终端环区同时光刻,相对于现有的采用不同光刻分别对硅衬底晶圆上的终端环区和元胞有源区进行制造的方式减少了光刻次数,从而大大的降低了成本。

    一种功率模块封装结构及制作方法

    公开(公告)号:CN110416200B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201910589440.8

    申请日:2019-07-02

    Abstract: 本发明涉及电子功率器件技术领域,特别涉及一种功率模块封装结构及制作方法。该功率模块封装结构包括绝缘外壳和基板组件,绝缘外壳封装于基板组件外以至少覆盖基板组件的功能结构部分;基板组件包括第一基板和第二基板;第一基板朝向第二基板的表面设置有功率因数校正开关芯片、功率因数校正二极管以及三相逆变芯片;第二基板朝向绝缘外壳的表面设置有功率因数校正驱动芯片、三相逆变驱动芯片以及自举二极管芯片,第二基板朝向第一基板的表面设置有电路层;电路层分别与功率因数校正开关芯片、功率因数校正二极管以及三相逆变芯片电性连接。在满足功能要求的基础上缩小了结构占板面积。

    一种IGBT芯片及其制备方法、IPM模块

    公开(公告)号:CN111834336A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201910321865.0

    申请日:2019-04-22

    Abstract: 本发明公开了一种IGBT芯片及其制备方法、IPM模块,IGBT芯片,包括衬底,衬底上设置截止环,衬底上表面分别设置第一发射极焊盘、第二发射极焊盘和栅极焊盘,第一发射极焊盘、第二发射极焊盘和栅极焊盘在截止环内侧,截止环外侧的衬底上设置热敏电阻,热敏电阻在IGBT芯片的制备过程中直接集成到衬底上;IGBT芯片的制备方法,在氧化物层淀积之后和氧化物层刻蚀之前,还包括热敏电阻材料层淀积和热敏电阻材料层刻蚀步骤;IPM模块,包括基板,在基板上设有IGBT芯片、FRD芯片和控制电路,IGBT芯片为集成有热敏电阻的IGBT芯片。本发明所述的IGBT芯片,将热敏电阻直接集成在IGBT上,热敏电阻能够直接采集IGBT芯片的温度,大大提升采样温度的准确性。

    低应力半导体芯片固定结构、半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111081671A

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201811222128.7

    申请日:2018-10-19

    Abstract: 本发明公开了一种低应力半导体芯片固定结构、半导体器件及其制造方法,包括芯片、引线框架、导电结合件、陶瓷基板,所述引线框架包括芯片座,芯片座用于承载固定陶瓷基板,陶瓷基板用于固定芯片,包括陶瓷层和金属层,所述陶瓷层面通过导电结合件固定在芯片座上,所述金属层面通过导电结合件与芯片连接。本发明在引线框架上设置陶瓷基板,陶瓷基板包括陶瓷层和金属层,陶瓷层面与引线框架芯片座接触、通过导电结合件将陶瓷基板固定在芯片座上,并将金属层面与芯片连接,利用陶瓷的高机械强度、低热膨胀系数缓冲芯片应力,芯片不易出现翘曲、损坏,提高半导体器件封装良率及可靠性,提高了半导体器件的使用寿命。

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