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公开(公告)号：CN1163797C
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN00126260.2
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀，恶臭的发生量少，从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮和4-丁内酯。
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公开(公告)号：CN1297169A
公开(公告)日：2001-05-30
申请号：CN00126840.6
申请日：2000-09-06
IPC: G03F7/16
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种阳性光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中,将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后,干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着,利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯,或者包括乙酸3－甲氧基丁酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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公开(公告)号：CN1288178A
公开(公告)日：2001-03-21
申请号：CN00126260.2
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀,恶臭的发生量少,从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3－甲氧丁基乙酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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公开(公告)号：CN1184534C
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN00126840.6
申请日：2000-09-06
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种正型光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中，将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后，干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着，利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3-甲氧基丁酯和γ-丁内酯，或者包括乙酸3-甲氧基丁酯、2-庚酮和γ-丁内酯。
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公开(公告)号：CN1158569C
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN00126263.7
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光化学品以及作为溶剂的乙酸3-甲氧基丁酯和4-丁内酯。该组合物具有良好的感光性和残膜率，且没有恶臭。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1289070A
公开(公告)日：2001-03-28
申请号：CN00126263.7
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光化学品以及作为溶剂的乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯。该组合物具有良好的感光性和残膜率,且没有恶臭。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN1550897A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、二叠氮光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN1241072C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN00817711.2
申请日：2000-12-08
Applicant: 三星电子株式会社 , AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/50
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/38 , G03F7/42 , G03F7/422 , H01L21/02052 , H01L21/0274 , H01L21/31133
Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量%的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。
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公开(公告)号：CN1288501C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT-LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
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