一种覆锡纳米多孔铜低温键合的方法

    公开(公告)号:CN107195559A

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201710289171.4

    申请日:2017-04-27

    Inventor: 陈明祥 牟运 李超

    CPC classification number: H01L24/80 B82Y30/00 H01L21/3213 H01L2021/603

    Abstract: 本发明属于电子制造领域,并公开了一种覆锡纳米多孔铜低温键合的方法,包括:首先在初始衬底上通过超声清洗、溅射或电镀、热处理制备出铜合金薄膜;再通过选择性腐蚀工艺制备出纳米多孔铜结构;最后将锡沉积于纳米多孔铜结构表面,形成覆锡纳米多孔铜结构;利用该覆锡纳米多孔铜结构作为键合层,在低温低压下实现键合。本发明工艺简单,能实现低温低压键合,高温服役,降低键合工艺产生的热应力,具有广泛应用前景。

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