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公开(公告)号:CN115881839A
公开(公告)日:2023-03-31
申请号:CN202211473690.3
申请日:2022-11-22
Applicant: 西安工程大学
IPC: H01L31/028 , H01L31/109 , H01L31/18 , C23C14/18 , C23C14/28
Abstract: 本发明公开了柔性石墨烯/锗异质结的制备方法,以高纯Ge作为靶材,铜箔石墨烯作为衬底,激光作为粒子激发源,采用PLD法在铜箔石墨烯上沉积锗薄膜。本发明还公开了柔性石墨烯/锗异质结的转移方法,给制备好的柔性石墨烯/锗异质结旋涂PMMA支撑膜,然后用CuSO4溶液刻蚀掉铜箔,实现柔性石墨烯/锗异质结的整体转移。本发明提供的柔性石墨烯/锗异质结的制备方法及转移方法解决了石墨烯由于光吸收率低,导致石墨烯探测器的光响应度较低,石墨烯自身的光生载流子寿命短的问题,可以制备出近红外高响应、高速度的石墨烯基异质结。