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公开(公告)号：CN107078074A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580060081.7
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F9/7003 , G03F7/70633 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN112698551B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN112698551A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN107078074B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201580060081.7
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN107111870A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580057887.0
申请日：2015-10-27
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00
CPC classification number: G01B11/00 , G03F7/70633 , G06T7/0002 , G06T2207/20056 , G06T2207/30168
Abstract: 本发明提供方法，所述方法通过以下操作估计计量目标的质量：计算从关于所述目标的周期性结构的周期性对经测量的核心应用傅里叶滤波器导出的其ROI核心的噪声度量；及使用所述计算得到的噪声度量指示所述目标质量。可关于所述周期性结构的垂直片段的周期性对所述经测量的核心垂直地应用额外傅里叶滤波器，且所述(2D)噪声度量可通过应用两个傅里叶滤波而导出。可在统计上分析所述经估计的噪声以提供关于所述目标的各种类型的信息。
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公开(公告)号：CN107111870B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201580057887.0
申请日：2015-10-27
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00
Abstract: 本发明提供方法，所述方法通过以下操作估计计量目标的质量：计算从关于所述目标的周期性结构的周期性对经测量的核心应用傅里叶滤波器导出的其ROI核心的噪声度量；及使用所述计算得到的噪声度量指示所述目标质量。可关于所述周期性结构的垂直片段的周期性对所述经测量的核心垂直地应用额外傅里叶滤波器，且所述(2D)噪声度量可通过应用两个傅里叶滤波而导出。可在统计上分析所述经估计的噪声以提供关于所述目标的各种类型的信息。
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