积体超导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN105849888B

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201480071549.8

    申请日:2014-11-10

    Abstract: 本发明提供一种积体超导体装置及其制造方法。所述积体超导体装置可包含衬底基底,和安置于所述衬底基底上且包括较佳结晶定向的第一中间层。所述积体超导体装置可进一步包含安置于所述第一中间层上的第一定向超导体层,和安置于所述第一定向超导体层的一部分上的第一导电带。所述第一导电带可在其下方界定所述第一定向超导体层的第一超导体区,和邻近于所述第一超导体区的所述第一定向超导体层的第一暴露区。本申请的积体超导体装置制造的超导体结构类似于带材但直接形成于大面积衬底上,克服与独立式超导体带材的制造相关联的复杂性。

    太阳能电池用的逆掺杂
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102007601A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN200980113415.7

    申请日:2009-03-05

    Abstract: 提供了逆掺杂太阳能电池(特别是叉背接触(IBC)太阳能电池)的方法。在太阳能电池的一表面上,一些部分需要被N掺杂,而其他部分则是被P掺杂。传统上,会需要多道微影和掺杂的步骤以达成所希望的结构。另一方面,可经由进行一个导电率的一整体掺杂和相对的导电率的一罩幕图案化逆掺杂制程而省略一道微影步骤。在罩幕图案化布植中,被掺杂的区域会接收充分的掺杂量以完全逆转整体掺杂的影响,并达成相对于整体掺杂的一导电率。在另一实施例中,逆掺杂是以直接图案化的技术所进行,可省去多余的微影步骤。在本发明中提供多种直接逆掺杂的制程方法。

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