涂布装置及涂布方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119768899A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202380061904.2

    申请日:2023-03-08

    Abstract: 根据实施方式,提供一种能够形成均匀的涂布膜的、用于通过弯月面法来形成涂布膜的涂布装置和涂布方法。该涂布装置具备:涂布棒;基材输送部件,输送所述基材;多个喷嘴,向所述涂布棒的表面供给所述涂布液;以及涂布液供给部件,向所述喷嘴供给所述涂布液,在所述喷嘴各自的上游侧具备涂布液供给量调整部件,所述涂布液供给量调整部件调整向所述喷嘴供给的涂布液的供给量。

    检查装置以及检查系统
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104459806A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410460945.1

    申请日:2014-09-11

    Abstract: 本发明提供小型、高增益且高指向性的天线。实施方式的检查装置的特征在于,发送天线装置和接收天线装置分别相对于被测量物对置,所述发送天线装置与发送微波的具有发送装置的发送部连接,所述接收天线装置与具有接收装置的接收部连接,接收天线装置接收由发送天线装置发送并透射了被测量物的微波、相位延迟了的微波和在被测量物中蔓延的微波中的至少某一个微波,接收部是指向性天线。

    凹凸图案形成方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102428544A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200980159359.0

    申请日:2009-05-20

    CPC classification number: G11B5/855 H01L21/0337 H01L21/31116 H01L21/31122

    Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法,能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于,具备以下工序:在形成有凹凸图案的基材(2,4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序;在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序,第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素,所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素;通过蚀刻形成层,仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序;除去导向图案的工序;以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材,由此在基材上形成凹凸图案的工序。

    制造光子晶体和光学元件的方法和设备

    公开(公告)号:CN1292288C

    公开(公告)日:2006-12-27

    申请号:CN00137034.0

    申请日:2000-09-22

    CPC classification number: G02B6/1225 B82Y20/00

    Abstract: 一种制造包括光子晶体的光学元件的方法和设备,所述方法包括:产生具有三维周期性结构的第一光场的步骤,其中光强度按照光波长数量级的第一周期在空间中变化,所述三维周期性结构具有点阵点,在点阵点中的光强度高于所述周围的光强度;将其折射率可由辐照光的强度或在光辐照后进行的预定处理而改变的光学介质,曝露于所述第一光场一个给定的周期的步骤;将该光学介质在第一光场中移动光波长数量级的微小距离的步骤;以及将该光学介质曝露于第二光场中,在该第二光场中,光强度按照光波长数量级的周期在空间中变化,以形成该光子晶体的三维点阵结构的第二部分的步骤。

Patent Agency Ranking