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公开(公告)号：CN107527633A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710439941.9
申请日：2017-06-12
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/82
CPC classification number: G11B5/1875 , G11B5/398 , G11B5/65 , G11B5/66 , G11B5/706 , G11B5/70615 , G11B5/716 , G11B5/73 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/8404 , G11B5/855
Abstract: 一种磁记录介质，包括：衬底；基底层，其形成在所述衬底上；以及(001)取向的L10磁性层，其形成在所述基底层上，并且包括第一磁性层和第二磁性层，其中，所述第一磁性层形成在所述基底层上，并且具有磁性晶粒和晶界部的粒状结构，所述晶界部包含C，并且所述第二磁性层形成在所述第一磁性层上，并且具有磁性晶粒和晶界部的粒状结构，所述晶界部包含氧化物或氮化物，所述第二磁性层还包含选自由Mg、Ni、Zn、Ge、Pd、Sn、Ag、Re、Au及Pb构成的组的一种以上的元素作为添加物。
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公开(公告)号：CN107492386A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710611689.5
申请日：2011-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯托弗·D·本彻 , 罗曼·古科 , 史蒂文·维哈维伯克 , 夏立群 , 李龙元 , 马修·D·斯科特奈伊-卡斯特 , 马丁·A·希尔金 , 皮特·I·波尔什涅夫
Abstract: 提供一种用于形成磁性介质衬底的方法和设备。图案化抗蚀层形成在具有磁化层的衬底上。共形保护层形成在图案化抗蚀层上，以免图案于后续处理期间降解。衬底经能量处理，其中能量物种依据形成于图案化抗蚀剂中的图案，穿透部分图案化抗蚀层和共形保护层而撞击磁化层及改变磁化层磁性。接着移除图案化抗蚀层和共形保护层而留下磁性衬底，所述磁性衬底具有形貌实质不变的磁性图案。
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公开(公告)号：CN105374373A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410818260.X
申请日：2014-12-24
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明得到具有设置有间距分散良好的凸图案的磁记录层的磁记录介质及其制造方法以及磁记录再现装置。实施方式涉及的磁记录介质包含：在基板上依次形成的、具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层、具有与凹部图案对应的包含多个孔的第1孔图案的非磁性基底层、和形成于非磁性基底层上并具有包含与该第1孔图案连通的多个孔的第2孔图案的磁记录层。
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公开(公告)号：CN102097103B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201010580691.9
申请日：2010-12-09
Applicant: HGST荷兰公司
Inventor： 布鲁斯.A.威尔逊
Abstract: 在此公开了具有使用相位型伺服图案的磁道标识的磁记录盘和盘驱动器。磁记录盘驱动器具有带有离散图案化伺服岛的多个圆周地间隔的V形图案的磁头定位伺服图案的盘。盘驱动器具有伺服电子装置，其对V形图案进行解码以确定磁头的绝对径向位置，而不需要单独的磁道标识字段。具有最小径向周期的V形图案具有径向周期P1，且其它V形图案中的每一个具有P1的唯一整数倍的周期。在一个实施例中，由磁头读取的第一V形图案具有周期P1，且由磁头读取的每一个相继的V形图案具有大于紧接在其之前的V形图案的周期的周期，以便每一个V形图案的周期渐进地增大。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104995333A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008492.7
申请日：2014-02-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 布赖恩·萨克斯顿·安德伍德 , 阿布海杰特·巴苏·马利克 , 妮琴·英吉 , 罗曼·古科 , 史蒂文·韦尔韦贝克
Abstract: 提供了用于形成图案化的磁性基板的方法和装置。将图案化的抗蚀部形成于基板的磁致激活表面上。通过可流动式CVD工艺将氧化物层形成在所述图案化的抗蚀部之上。蚀刻所述氧化物层，以使所述图案化的抗蚀部的部分暴露出来。随后，使用经蚀刻的氧化物层作为掩模来对所述图案化的抗蚀部进行蚀刻，以使所述磁致激活表面的部分暴露出来。随后，通过引导能量穿过经蚀刻的抗蚀层和经蚀刻的氧化物层，对所述磁致激活表面的暴露部分的磁特性进行改性，然后，将所述经蚀刻的抗蚀层和所述经蚀刻的氧化物层从所述基板去除。
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公开(公告)号：CN102334161B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201080009890.2
申请日：2010-02-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G11B5/82 , C23C14/48 , C23C14/50 , C23C16/00 , C23F1/00 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程，在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分，以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而不改变该基板的构形。在该经图案化的磁层上方沉积一保护层及一润滑层。该图案化经由将基板暴露于具有变动形式的能量的若干制程来实现。本文揭示的装置及方法使得能够同时处理一基板的两个主表面或藉由翻转相继处理一基板的两个主表面。在一些实施例中，该基板表面的磁性性质可藉由等离子体暴露来均匀地改变，且随后藉由暴露于经图案化的能量来选择性地复原磁性性质。
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公开(公告)号：CN104470701A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380037980.6
申请日：2013-07-15
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: G03F7/0002 , C09K13/00 , G03F7/40 , G11B5/746 , G11B5/855
Abstract: 这些实施例公开了用于电子固化反色调处理的方法，包括将抗蚀层沉积到图案化压印的抗蚀剂层上，该图案化压印的抗蚀剂层被制造到硬掩膜层上，该硬掩膜层被沉积到衬底上，在压印图案特征进入硬掩膜并进入衬底的蚀刻过程期间利用电子束剂量来固化抗蚀层以及利用分析过程来量化减少的图案特征布置漂移误差并量化所蚀刻的压印图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性。
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公开(公告)号：CN104240731A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410437147.7
申请日：2009-11-13
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: G11B5/855 , B81C1/00111 , B81C2201/0154 , B81C2201/038 , Y10T428/2457 , Y10T428/26
Abstract: 本发明涉及用于二嵌段聚合物的超薄对准壁。根据本发明的一种方法包括提供具有厚壁阵列的预规则化衬底、在预规则化衬底上沉积共形层、从厚壁和壁之间的间隔的顶部蚀刻共形层，并蚀刻厚壁同时留下共形层的薄壁。
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公开(公告)号：CN101889325B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200880119457.7
申请日：2008-12-05
Applicant: 因特瓦克公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G11B5/84 , G11B5/855 , H01J37/3438
Abstract: 本发明公开一种用于蚀刻构图介质磁盘的系统。利用可移动电极执行溅射蚀刻。将电极移动到靠近衬底或者稍微接触衬底以将RF能量耦合到所述磁盘。将被蚀刻的材料可以是例如Co/Pt/Cr的金属或者类似金属。将衬底垂直保持在载体中并且按顺序蚀刻衬底的两侧。即，在一个腔中蚀刻一侧然后在下一个腔中蚀刻第二侧。在两个腔之间设置隔离阀并且磁盘载体在腔之间移动所述磁盘。所述载体可以是使用例如磁化轮和线性电机的线性驱动载体。
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