基于蒙卡-有限元的MEMS器件多物理场仿真方法

    公开(公告)号:CN119476160A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411466032.0

    申请日:2024-10-21

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于蒙卡‑有限元的MEMS器件多物理场仿真方法,用于在电子辐照环境下模拟MEMS器件的性能变化,通过Geant4对高能粒子辐照过程的能量沉积进行蒙特卡洛模拟,并将能量沉积数据导出为热源功率密度,再导入COMSOL,在COMSOL中构建多物理场模型,进行电‑热‑力多物理场耦合分析,全面评估MEMS器件在复杂环境中的性能变化。本发明方法针对多物理场相互作用对器件材料、结构及功能的综合作用,同时考虑辐射场对器件的电、热、力耦合影响,提供了更加精准的仿真分析手段,从而优化MEMS器件的设计,提高其在极端条件下的可靠性。

    一种多物理场作用下半导体器件热力特性仿真方法

    公开(公告)号:CN119849425A

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202411712242.3

    申请日:2024-11-27

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了一种多物理场作用下半导体器件热力特性仿真方法,涉及半导体仿真领域,通过获取半导体器件的工艺结构参数和材料参数,在仿真软件中构建二位元胞结构模型仿真模拟得到热源,然后根据半导体器件结构特点构建半导体器件的三维多栅指结构模型,将仿真对象从二维元胞结构扩展到更加复杂的三维多栅指结构,再将二维元胞结构仿真模拟得到的热源导入三维模型中进行多物理场仿真模拟,并对多物理场仿真结果进行热力学分析。通过本发明能够模拟热场、应力场等多个物理场的相互作用,用于复杂结构和环境下的多场耦合分析,可以更全面地分析半导体器件在多物理场作用下的热力特性,为优化器件设计、提升其在高压、高温和辐射环境下的性能和可靠性提供更为准确的仿真依据。

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