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公开(公告)号：CN112034579B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202010790094.2
申请日：2020-08-07
Applicant: 北京控制工程研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向移动；码盘柱面镜粘接模具位于二维移动平台上，用于叠放码盘和柱面镜，能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向，调整码盘或者柱面镜相对于二维移动平台的位置；立柱垂直安装在底座上，显微镜光学系统和CCD相机安装在立柱上，显微光学系统用于对叠放的码盘和柱面镜成像，CCD相机的镜头对准显微光学系统的目镜，用于对显微光学系统所成的图像进行光电转换，并上传至计算机。
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公开(公告)号：CN112034579A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010790094.2
申请日：2020-08-07
Applicant: 北京控制工程研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明涉及一种基于非共面标记线的柱面镜与码盘玻璃粘接装置和方法，属于光电探测器技术领域。该装置以底座上表面为测量系统坐标系的XOY平面，垂直于XOY平面的坐标轴为测量坐标系的Z轴，二维移动平台位于底座上表面能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向移动；码盘柱面镜粘接模具位于二维移动平台上，用于叠放码盘和柱面镜，能够沿测量系统坐标系的X轴方向和Y方向，调整码盘或者柱面镜相对于二维移动平台的位置；立柱垂直安装在底座上，显微镜光学系统和CCD相机安装在立柱上，显微光学系统用于对叠放的码盘和柱面镜成像，CCD相机的镜头对准显微光学系统的目镜，用于对显微光学系统所成的图像进行光电转换，并上传至计算机。
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公开(公告)号：CN102096136A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010611624.9
申请日：2010-12-17
Applicant: 北京控制工程研究所
Abstract: 空间用光学石英玻璃耐辐照滤紫外薄膜及制备方法，包括石英玻璃基片和多层膜，多层膜通过真空热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法镀在石英玻璃基片上，所述的多层膜为L1层/H层/L2层结构，L1层为SiO2层或SiO层，L2层为SiO2层或SiO层，H层为CeO2层或ZnO层。本发明采用石英玻璃基片和多层膜复合结构，提高了材料的耐辐照性能，辐照试验结果表明：采用普通石英加薄膜的材料的耐辐照性能远远优于掺杂石英，经过5×108Rad(Si)累计剂量的辐照后在工作波段(400～1000nm)光谱透过率平均值T≥90％，掺杂材料为T≥70％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108303857B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201810073945.4
申请日：2018-01-25
Applicant: 北京控制工程研究所
Abstract: 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。
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公开(公告)号：CN105047595B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201510259676.7
申请日：2015-05-20
Applicant: 北京控制工程研究所
Abstract: 本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃基片上光刻狭缝。玻璃基片上的狭缝精度满足实际光刻的狭缝的中心线与半圆柱母线的距离偏差≤3μm。定位准确，且不在玻璃基片表面形成任何破坏性的标记，使基片的有效使用面积最大化。
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公开(公告)号：CN108303857A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201810073945.4
申请日：2018-01-25
Applicant: 北京控制工程研究所
Abstract: 一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质，研制非标的双面曝光机，采用了水平位置调整装置调整和固定工件的位置，减少曝光过程中的移动，引入了接触力的概念，采用接触力可调整的装置，解决了曝光过程中接触力较小的问题，并可使曝光时的接触力可调。本发明降低了双面曝光机使用时工艺重复性误差，改变了单面曝光机单面对准、单面曝光、中途翻转的方式，解决了小尺寸圆柱形光学零件双面光刻一致性较差的问题，使工件上下两面图形的同轴度≤0.03mm，峰峰值不对称度符合产品技术要求。使双面曝光的一致性误差由原来的不小于0.005mm降低到0.003mm以内。可有效提高双面光刻一致性。
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公开(公告)号：CN105047595A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510259676.7
申请日：2015-05-20
Applicant: 北京控制工程研究所
CPC classification number: H01L21/682 , H01L21/67282
Abstract: 本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃基片上光刻狭缝。玻璃基片上的狭缝精度满足实际光刻的狭缝的中心线与半圆柱母线的距离偏差≤3μm。定位准确，且不在玻璃基片表面形成任何破坏性的标记，使基片的有效使用面积最大化。
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