一种制备低反射率金属薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103265181A

    公开(公告)日:2013-08-28

    申请号:CN201310173072.1

    申请日:2013-05-10

    Abstract: 本发明涉及一种制备低反射率金属薄膜的方法,特别涉及一种在光学玻璃表面制备低反射率薄膜的方法,适用于航天器用光学零件如码盘、光栅等所采用的低反射率薄膜的制备,属于薄膜制备技术领域。本发明的方法制备的金属薄膜的反射率低≤10%,能够作为制备码盘、柱面镜、光学入射缝板等光学零件的低反射率薄膜;在制备过程中使用了反应气体,使膜层含气,不易氧化,容易刻蚀。

Patent Agency Ranking