公开(公告)号：CN105047595B

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201510259676.7

申请日：2015-05-20

Applicant: 北京控制工程研究所

Inventor： 赵娜 ,  朱春英 ,  曾宪沪 ,  秦素然 ,  刘江 ,  赵晓雨 ,  石建民

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃基片上光刻狭缝。玻璃基片上的狭缝精度满足实际光刻的狭缝的中心线与半圆柱母线的距离偏差≤3μm。定位准确，且不在玻璃基片表面形成任何破坏性的标记，使基片的有效使用面积最大化。

公开(公告)号：CN105047595A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201510259676.7

申请日：2015-05-20

Applicant: 北京控制工程研究所

Inventor： 赵娜 ,  朱春英 ,  曾宪沪 ,  秦素然 ,  刘江 ,  赵晓雨 ,  石建民

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/682 ,  H01L21/67282

Abstract: 本发明涉及一种针对无定位标记的玻璃基片的光刻对准装置及对准方法。针对基片的形状设计专用的定位工装和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通过第一掩膜版在定位工装光刻标记；通过该标记实现第二掩膜版的定位，通过第二掩膜版的狭缝在玻璃基片上光刻狭缝。玻璃基片上的狭缝精度满足实际光刻的狭缝的中心线与半圆柱母线的距离偏差≤3μm。定位准确，且不在玻璃基片表面形成任何破坏性的标记，使基片的有效使用面积最大化。