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发明公开
曝光装置、图案形成装置以及曝光方法无效

公开(公告)号：CN113495437A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110353498.X

申请日：2021-04-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 , 铃木彻 , 冢原刚 , 涉谷恭平

IPC: G03F9/00 , G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置、图案形成装置以及曝光方法。抑制MMG技术中的图案的形成精度降低。在基板上对第1图案进行扫描曝光的曝光装置具有：标记形成部，在基板上形成多个对准标记；第1测量部，测量由标记形成部形成的多个对准标记的位置；以及输出部，输出由第1测量部测量的对准标记的位置信息，使得能够在对第2图案进行曝光的另一个曝光装置中利用，标记形成部在第1基板位置形成包括至少2个对准标记的第1标记组之后，在使基板在包括与连接第1标记组的2个对准标记的直线垂直的分量的方向上移动后的第2基板位置形成包括至少2个对准标记的第2标记组，在使基板从第1基板位置向第2基板位置移动的方向上对第1图案进行扫描曝光。

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