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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113267966A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110176658.8
申请日：2021-02-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及测量方法、曝光方法、物品的制造方法及存储介质。测量方法对形成于应转印原版图案的基板上的拍摄区域的多个测量标记进行测量，具有：针对至少1个基板，基于执行对形成于基板上的拍摄区域的多个测量标记中第1数量的测量标记进行测量的第1测量模式而得的第1数量测量标记的测量值，计算与拍摄区域的位置相关的第1位置信息；在设为测量比第1数量少的第2数量的测量标记时，基于第1位置信息针对计算与拍摄区域位置相关的位置信息的多个模型，预测第2位置信息；根据第2位置信息求出评价多个模型的各模型的多个第1评价值；基于与多个第1评价值中满足评价基准的第1评价值对应的模型，将测量模式从第1测量模式转变为第2测量模式。
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公开(公告)号：CN114859663A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210096981.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及信息处理装置、信息处理方法以及物品的制造方法。【课题】缩短装置中的异常的原因分析的时间。【解决手段】一种信息处理装置，累积对基板进行处理的基板处理装置中的日志，信息处理装置具有：累积部，累积日志；控制部，以从累积于所述累积部的日志中选择特定的日志的方式进行控制；以及发送部，将由所述控制部选择的日志发送给外部，所述控制部当在所述基板处理装置中发生了错误时，根据已学习模型，选择累积于所述累积部的日志中的相关度超过阈值的日志。
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公开(公告)号：CN113267966B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202110176658.8
申请日：2021-02-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及测量方法、曝光方法、物品的制造方法及存储介质。测量方法对形成于应转印原版图案的基板上的拍摄区域的多个测量标记进行测量，具有：针对至少1个基板，基于执行对形成于基板上的拍摄区域的多个测量标记中第1数量的测量标记进行测量的第1测量模式而得的第1数量测量标记的测量值，计算与拍摄区域的位置相关的第1位置信息；在设为测量比第1数量少的第2数量的测量标记时，基于第1位置信息针对计算与拍摄区域位置相关的位置信息的多个模型，预测第2位置信息；根据第2位置信息求出评价多个模型的各模型的多个第1评价值；基于与多个第1评价值中满足评价基准的第1评价值对应的模型，将测量模式从第1测量模式转变为第2测量模式。
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公开(公告)号：CN117170191A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310621576.9
申请日：2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光装置的控制方法以及物品制造方法，提供有利于同时达成重合精度以及生产率的曝光装置的基板载台驱动技术。具有基板卡盘、载台以及控制载台驱动的控制部，控制部通过并行地进行根据第1驱动数据配置朝扫描方向驱动载台的第1驱动和根据第2驱动数据配置朝非扫描方向驱动载台的第2驱动，进行在针对一个曝光单元区域扫描曝光前的载台的步进驱动。控制部确定第1驱动数据配置以及第2驱动数据配置，以便在并行地进行第1驱动和第2驱动时的载台的合成加速度不超过上限值，该上限值作为在载台与基板卡盘之间的锁定被解除的状态下不产生基板卡盘相对于载台的位置偏移的数值被预先确定。
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公开(公告)号：CN115343923A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210504569.6
申请日：2022-05-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了标记检测装置、标记学习装置和基板加工装置。标记检测装置，包括：成像单元，被配置成通过对物体上的对准标记成像来生成对准标记图像；检测单元，被配置成检测对准标记图像中的对准标记；以及调节单元，被配置成基于如下的学习模型来调节与成像相关的参数，所述学习模型是通过使用其中不能检测到对准标记的对准标记图像和作为用于对其中能够检测到对准标记的对准标记图像成像的参数的第一参数进行学习而生成的。调节单元取得作为基于学习模型的推断处理的结果的第二参数。成像单元在参数被调节为第二参数的状态下执行成像。
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