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公开(公告)号：CN103399459B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310340709.1
申请日：2013-08-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种用于制备金属/介质纳米多层膜高质量断面的方法，其步骤为：在基底上制备平面或曲面金属/介质纳米多层膜；在多层膜上旋涂光刻胶，前烘，得到样片；用玻璃刀在样片背面划痕，掰断，得到多层膜粗糙断面；在断口边缘处进行掩模移动曝光；显影、坚膜，得到截面边缘平整的光刻胶掩蔽层；坚膜后的样片放入离子束刻蚀设备中，选择合适的离子束流和角度进行刻蚀；刻蚀后，取出样片，去除样片上剩余的光刻胶，金属/介质纳米多层膜高质量断面制作完成。基于离子束流刻蚀制备金属/介质纳米多层膜断面的方法，能得到边缘整齐、低缺陷的金属/介质纳米多层膜高质量断面。
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公开(公告)号：CN103399461B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201310361799.2
申请日：2013-08-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于双层胶技术的掩模平坦化方法，其主要步骤为：在平面或者曲面基底上沉积铬膜层并制备掩模图形，之后在其上先后涂敷光刻胶A和光刻胶B，采用中心波长为365nm的紫外曝光光源从基底的背面入射，使光刻胶B感光，利用光刻胶A在光刻胶B显影液中的溶解速率大于光刻胶B在光刻胶B显影液中的显影速率的特性形成侧向沟槽，再利用电子束蒸镀沉积二氧化硅，厚度和掩模铬层厚度相等。将掩模浸泡于有机溶剂中去除A、B光刻胶，最后得到平坦化的掩模。该方法可以应用到一体式曝光器件的掩模平坦化工艺中，如Superlens和缩小Hyperlens器件的掩模平坦化工艺。
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公开(公告)号：CN103969225A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410175832.7
申请日：2014-04-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种针对超衍射结构材料近场倏逝波光场透过率传输特性函数的远场检测方法，采用器件从上到下依次包括透明基底层、激发光栅层、超衍射结构材料层和检测光栅层。其中从透明基底背面入射的照明光通过激发光栅层激发出倏逝波级次，超衍射结构材料层可对倏逝波级次进行横向波矢的空间频率高通滤波从而形成一个具有特定横向波矢近场透过率的倏逝波光场，检测光栅层可将倏逝波级次转换为传输波级次传输至远场，最终在远场可接收到与倏逝波成份一一对应的检测光。该方法将可应用于对超衍射结构材料倏逝波光场横向波矢近场透过率传输特性函数的远场探测，实现对倏逝波光场的横向波矢近场分布及其相应波矢能量透过效率的定性分析以及定量检测。
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公开(公告)号：CN103926707A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410165583.3
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法，采用器件主要由透明基底、纳米结构层和波导共振多层膜构成。对于确定波长的平面波照射透明基底，透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用波导共振多层膜的共振耦合特性，对于各级次平面波透射波导共振多层膜后将产生特定单一级次的表面等离子体光场，波导共振多层膜材料的虚部吸收小、激发产生的表面等离子体光场强度高，最终可以在波导共振多层膜的上表面形成纵向5nm～50nm范围内倏逝的表面等离子体光场。本发明的方法对波导共振多层膜的厚度误差、粗糙度要求低，有望用于超分辨显微的结构照明、表面等离子体干涉光刻、表层显微、表面等离子体生物传感等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103901629A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201410166064.9
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/58
Abstract: 本发明提供了一种实现远场超分辨成像的方法和装置。该方法首先将激发光和STED光同时耦合进入单模光纤以实现合束效果，然后将经过合束的激发光和STED光依次通过起偏器和双波长波片，调制成偏振方向相互垂直的线偏振光，再采用液晶偏振转换器，将激发光和STED光分别转换为径向偏振光和角向偏振光。实现该方法的装置包括：激发光源、STED光源、准直透镜、起偏器、双波长波片、液晶偏振转换器、二向色镜、高数值孔径物镜、三维纳米位移台、聚焦透镜以及光强探测器。本发明通过单模光纤的耦合作用以及高数值孔径下径向偏振光和角向偏振光不同的聚焦特性，使得聚焦于样品表面的圆形激发光斑和环状STED光斑自动重合，从而有效降低STED超分辨成像的实现难度。
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公开(公告)号：CN102621610B
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201210107598.5
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法，该方法选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让一定偏振态的单色光垂直于金属膜上表面入射；选取金属膜上表面的中心点为坐标原点，过中心点的坐标轴分别为x轴和y轴，垂直于金属膜的中心点连线为z轴；依据等光程原理，计算出金属膜的Fresnel各级环带位置；利用现有纳米加工技术，对金属膜的各环带区域开纳米小孔。环带区域内纳米小孔的周期或非周期排布位置由入射光的偏振态决定；紧接着交替蒸镀或溅射沉积纳米厚度的金属和介质平面多层膜结构。本发明所设计的透镜结构简单，可以用于纳米光刻和数据存储，大量提高电子器件的集成度，具有广阔的发展前景。
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公开(公告)号：CN103076646A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201310035344.1
申请日：2013-01-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种纳米尺度超分辨光学聚焦器件的制作方法，包括S1：选择入射光的工作波长选择能透光的基底；在表面蒸镀厚度为的金属膜，入射光垂直于金属膜的上表面入射；S2：根据工作波长选择金属薄膜与介质薄膜的材料，设计菲涅尔各级波带半径；S3：选择凹槽环带的位置即内环半径；步骤S4：根据焦斑强度需要调制凹槽环带的宽度与深度；S5：根据入射光偏振态选择凹槽环带的排列方向；S6：用加工技术获得菲涅尔波带环形条缝和凹槽的金属掩膜；S7：在金属掩膜后表面交替蒸镀纳米厚度的金属和介质多层膜结构，沉积多层膜的总厚度为透镜的焦距；S8：在多层膜结构后蒸镀一层纳米厚度的光刻胶及一层反射金属层，获得纳米尺度超分辨光学聚焦器件。
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公开(公告)号：CN1800975B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200510126215.9
申请日：2005-11-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模，也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。
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公开(公告)号：CN100582933C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200510086826.5
申请日：2005-11-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 加温闪光两用纳米压印装置，由双路CCD对准系统、Z向校正器、紫光照明系统、左右侧板、油压顶系统、承片加热台、倾斜校准机构和控制系统等组成，主机大底板位于电气控制系统的机台柜上，并安装了左右侧板和后板及上面安装了横板构成框架，在横板的下面悬挂有Z向校正机构和装有压模的倾斜校准机构，在主机大底板的中间正对压模的位置装了油压顶系统，使安于上面的XYθ微动工件台、承片加热台和基片上升压紧压模而压印出纳米图形结构，装于横板上的紫光照明系统可对压印层聚合物进行紫光照射使其固化，同时承片吸板可被加热升温和降温，使聚合物固化脱模，从而可实现闪光压印和加温大面积压印。本发明发挥出了两种压印方法的优点，以利于推广应用。
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