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公开(公告)号：CN116644570A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202310580874.8
申请日：2023-05-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06F30/20 , H01J37/32 , G06F30/10 , G06F119/12
Abstract: 本公开提供一种用于干法刻蚀的修正板的设计方法、修正板和高均匀性干法刻蚀方法，设计方法包括：S1，根据被刻蚀样品表面刻蚀深度分布H(ri)或刻蚀速度分布V(ri)，得到修正板在被刻蚀样品表面的投影形状；S2，根据修正板在被刻蚀样品表面的投影形状和修正板在被刻蚀样品和离子源之间的位置，得到修正板的第一形状。通过设计位于离子源与被刻蚀样品之间的修正板的第一形状，进而调整被刻蚀样品上刻蚀面的形状，对刻蚀面内各点的刻蚀速度进行控制，提高了干法刻蚀、尤其是大口径器件干法刻蚀的均匀性。
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公开(公告)号：CN112859215B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202011633992.3
申请日：2020-12-31
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种红外波段的准连续的超表面分束器件，包括基底部分和基底上的准连续超表面结构。该器件由传统的标量设计方法提供初始解再进行后续的矢量优化设计而成，其能将一束光束分为若干束传播方向不同的、能量分布可控的光束。其中，准连续超表面是具有特定面形的二元型结构，其高度为半个波长的光程差。这种准连续结构同时具有周期排布的特点，其周期的大小和具体的结构分布取决于分束需求。所述的准连续超表面分束器件具有结构简单、可集成性好等优势，所提出的设计方法能实现该类型器件的快速设计，适应不同的需求场景，可广泛应用于成像、光学制造、结构光等领域。
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公开(公告)号：CN110658695B
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201910905813.8
申请日：2019-09-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种基于无掩模直写光刻的光学窗口透射波前修正方法，包括以下步骤：步骤S1、提供一块光学窗口材料；步骤S2、基片预抛光：采用研磨抛光方法将基片进行预处理，使其透射波前接近加工指标要求，采用干涉仪检测光学窗口的透射波前分布；步骤S3、无掩模直写光刻：根据步骤S2的光学窗口透射波前检测结果，设计用于修正透射波前的无掩模曝光图案，采用设计图案通过无掩模直写光刻对光学窗口实现透射波前修正。该方法可以对光学窗口进行非接触、无应力、定点波前修正，具有加工效率高、修正精度高、成本低等优点。
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公开(公告)号：CN105954866A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610556663.0
申请日：2016-07-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法，其中，用于所述超分辨表层显微成像的照明器件从下到上依次包括：透明基底，光栅，金属/介质多层膜层；所述显微成像方法利用金属/介质多层膜层在光栅的激发下产生的深亚波长体等离子体(BPPs)模式，作为显微成像时的照明场，可在可见光及紫外光波段实现待测样品5nm‑300nm的表层超分辨成像。该方法有望应用于活细胞中细胞质膜的实时在线显微成像，应用广泛。本发明不仅可对待测样品进行纵向照明深度的调节，也可横向提高图像的空间分辨率，大大提高了样品表层成像质量。
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公开(公告)号：CN103969225A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410175832.7
申请日：2014-04-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种针对超衍射结构材料近场倏逝波光场透过率传输特性函数的远场检测方法，采用器件从上到下依次包括透明基底层、激发光栅层、超衍射结构材料层和检测光栅层。其中从透明基底背面入射的照明光通过激发光栅层激发出倏逝波级次，超衍射结构材料层可对倏逝波级次进行横向波矢的空间频率高通滤波从而形成一个具有特定横向波矢近场透过率的倏逝波光场，检测光栅层可将倏逝波级次转换为传输波级次传输至远场，最终在远场可接收到与倏逝波成份一一对应的检测光。该方法将可应用于对超衍射结构材料倏逝波光场横向波矢近场透过率传输特性函数的远场探测，实现对倏逝波光场的横向波矢近场分布及其相应波矢能量透过效率的定性分析以及定量检测。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103926707A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410165583.3
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法，采用器件主要由透明基底、纳米结构层和波导共振多层膜构成。对于确定波长的平面波照射透明基底，透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用波导共振多层膜的共振耦合特性，对于各级次平面波透射波导共振多层膜后将产生特定单一级次的表面等离子体光场，波导共振多层膜材料的虚部吸收小、激发产生的表面等离子体光场强度高，最终可以在波导共振多层膜的上表面形成纵向5nm～50nm范围内倏逝的表面等离子体光场。本发明的方法对波导共振多层膜的厚度误差、粗糙度要求低，有望用于超分辨显微的结构照明、表面等离子体干涉光刻、表层显微、表面等离子体生物传感等领域。
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公开(公告)号：CN103901629A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201410166064.9
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/58
Abstract: 本发明提供了一种实现远场超分辨成像的方法和装置。该方法首先将激发光和STED光同时耦合进入单模光纤以实现合束效果，然后将经过合束的激发光和STED光依次通过起偏器和双波长波片，调制成偏振方向相互垂直的线偏振光，再采用液晶偏振转换器，将激发光和STED光分别转换为径向偏振光和角向偏振光。实现该方法的装置包括：激发光源、STED光源、准直透镜、起偏器、双波长波片、液晶偏振转换器、二向色镜、高数值孔径物镜、三维纳米位移台、聚焦透镜以及光强探测器。本发明通过单模光纤的耦合作用以及高数值孔径下径向偏振光和角向偏振光不同的聚焦特性，使得聚焦于样品表面的圆形激发光斑和环状STED光斑自动重合，从而有效降低STED超分辨成像的实现难度。
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公开(公告)号：CN105954866B
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201610556663.0
申请日：2016-07-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法，其中，用于所述超分辨表层显微成像的照明器件从下到上依次包括：透明基底，光栅，金属/介质多层膜层；所述显微成像方法利用金属/介质多层膜层在光栅的激发下产生的深亚波长体等离子体(BPPs)模式，作为显微成像时的照明场，可在可见光及紫外光波段实现待测样品5nm‑300nm的表层超分辨成像。该方法有望应用于活细胞中细胞质膜的实时在线显微成像，应用广泛。本发明不仅可对待测样品进行纵向照明深度的调节，也可横向提高图像的空间分辨率，大大提高了样品表层成像质量。
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公开(公告)号：CN103969225B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410175832.7
申请日：2014-04-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种针对超衍射结构材料近场倏逝波光场透过率传输特性函数的远场检测方法，采用器件从上到下依次包括透明基底层、激发光栅层、超衍射结构材料层和检测光栅层。其中从透明基底背面入射的照明光通过激发光栅层激发出倏逝波级次，超衍射结构材料层可对倏逝波级次进行横向波矢的空间频率高通滤波从而形成一个具有特定横向波矢近场透过率的倏逝波光场，检测光栅层可将倏逝波级次转换为传输波级次传输至远场，最终在远场可接收到与倏逝波成份一一对应的检测光。该方法将可应用于对超衍射结构材料倏逝波光场横向波矢近场透过率传输特性函数的远场探测，实现对倏逝波光场的横向波矢近场分布及其相应波矢能量透过效率的定性分析以及定量检测。
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公开(公告)号：CN103984211B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410192957.0
申请日：2014-05-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基于双光束聚合引发以及抑制的高分辨成像光刻方法，主要步骤为：(1)选择或配置一种光刻胶，其含有对不同波长激光响应的聚合引发剂和聚合抑制剂；(2)选择对应的聚合引发激光器和聚合抑制激光器；(3)制作两个掩模版，其掩模图形形状和尺寸均相同或相似；(4)掩模版1和掩模版2在聚合抑制和聚合引发激光的作用下，通过二向色镜和透镜合束成像在同一个平面内，所成的像在空间上部分交叠；(5)将含有聚合引发剂，聚合抑制剂的光刻胶样品放置在成像平面上进行曝光及显影，得到高分辨的成像光刻图形。本发明具有光刻分辨率高，加工效率高等优点，在超越衍射极限的高效率，低成本纳米加工技术领域具有很大的应用前景。
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