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公开(公告)号：CN103926707B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201410165583.3
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法，采用器件主要由透明基底、纳米结构层和波导共振多层膜构成。对于确定波长的平面波照射透明基底，透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用波导共振多层膜的共振耦合特性，对于各级次平面波透射波导共振多层膜后将产生特定单一级次的表面等离子体光场，波导共振多层膜材料的虚部吸收小、激发产生的表面等离子体光场强度高，最终可以在波导共振多层膜的上表面形成纵向5nm～50nm范围内倏逝的表面等离子体光场。本发明的方法对波导共振多层膜的厚度误差、粗糙度要求低，有望用于超分辨显微的结构照明、表面等离子体干涉光刻、表层显微、表面等离子体生物传感等领域。
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公开(公告)号：CN103454866B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310438387.4
申请日：2013-09-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了基于表面等离子体波照明的光刻成像设备及光刻成像方法。一示例光刻成像设备可以包括：表面等离子体SP波照明场产生装置，被配置为接收以一定方向入射的远场照明光束，以产生特定传输波长的SP波照明场。SP波照明场可以通过掩模激发待成像的光场。远场照明光束的入射角度可以被设置为能够产生特定传输波长的SP波照明场，实现SP波通过掩模层的+1级或-1级衍射光与0级衍射光发生干涉。
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公开(公告)号：CN111272771B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202010150475.4
申请日：2020-03-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种高分辨颗粒检测装置，属于颗粒检测的创新技术领域。该装置包括用于隔离人员和空气等扰动与污染的隔离罩；用于支撑和定位连接各分系统的支架；用于承载测试样片、调节样片与成像系统共轴、检测区域定位和大面积检测步进拼接的工件台系统；用于物镜切换、自动聚焦、检测成像的成像系统；用于颗粒检测照明的照明系统；用于控制工件台系统精密定位、控制物镜切换与自动聚焦、图像采集与处理的控制系统。该装置基于暗场成像的原理，通过收集颗粒的散射光进行成像，进而实现获取样片上颗粒的尺寸与分布信息的能力。
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公开(公告)号：CN103399459B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310340709.1
申请日：2013-08-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种用于制备金属/介质纳米多层膜高质量断面的方法，其步骤为：在基底上制备平面或曲面金属/介质纳米多层膜；在多层膜上旋涂光刻胶，前烘，得到样片；用玻璃刀在样片背面划痕，掰断，得到多层膜粗糙断面；在断口边缘处进行掩模移动曝光；显影、坚膜，得到截面边缘平整的光刻胶掩蔽层；坚膜后的样片放入离子束刻蚀设备中，选择合适的离子束流和角度进行刻蚀；刻蚀后，取出样片，去除样片上剩余的光刻胶，金属/介质纳米多层膜高质量断面制作完成。基于离子束流刻蚀制备金属/介质纳米多层膜断面的方法，能得到边缘整齐、低缺陷的金属/介质纳米多层膜高质量断面。
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公开(公告)号：CN102862950B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201210365757.1
申请日：2012-09-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，首先确定入射波长，选取合适的透光基底材料，基底上再蒸镀一层金属膜，让入射光垂直于金属膜表面入射；利用纳米加工技术在金属膜上加工等宽度的狭缝或者环形缝阵列；对于预定焦点位置的光聚焦，计算光在焦点位置聚焦时光波在不同位置排布的狭缝或者环形缝的位相延迟分布，通过聚焦离子束引导沉积特定厚度的介质满足光波在不同位置排布狭缝或者环形缝的位相延迟要求，使金属聚焦透镜实现对入射光在预定焦点位置的聚焦。本发明根据预定的焦点位置来改变金属聚焦透镜的狭缝或者环形缝内介质厚度沉积以实现近场或者远场光聚焦，同时其透镜结构简单，可很方便的用于光路系统集成，具有广阔的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103926707A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410165583.3
申请日：2014-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法，采用器件主要由透明基底、纳米结构层和波导共振多层膜构成。对于确定波长的平面波照射透明基底，透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用波导共振多层膜的共振耦合特性，对于各级次平面波透射波导共振多层膜后将产生特定单一级次的表面等离子体光场，波导共振多层膜材料的虚部吸收小、激发产生的表面等离子体光场强度高，最终可以在波导共振多层膜的上表面形成纵向5nm～50nm范围内倏逝的表面等离子体光场。本发明的方法对波导共振多层膜的厚度误差、粗糙度要求低，有望用于超分辨显微的结构照明、表面等离子体干涉光刻、表层显微、表面等离子体生物传感等领域。
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公开(公告)号：CN111272771A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN202010150475.4
申请日：2020-03-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种高分辨颗粒检测装置，属于颗粒检测的创新技术领域。该装置包括用于隔离人员和空气等扰动与污染的隔离罩；用于支撑和定位连接各分系统的支架；用于承载测试样片、调节样片与成像系统共轴、检测区域定位和大面积检测步进拼接的工件台系统；用于物镜切换、自动聚焦、检测成像的成像系统；用于颗粒检测照明的照明系统；用于控制工件台系统精密定位、控制物镜切换与自动聚焦、图像采集与处理的控制系统。该装置基于暗场成像的原理，通过收集颗粒的散射光进行成像，进而实现获取样片上颗粒的尺寸与分布信息的能力。
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公开(公告)号：CN108037638A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711316112.8
申请日：2017-12-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于柔性铰链结构的超分辨光刻方法和装置，包括紫外曝光模块、检平模块、对准模块、柔性铰链光刻镜头、承片台模块和支撑架；紫外曝光模块、检平模块、对准模块和柔性铰链光刻镜头安装于上支撑板上，承片台模块安装于下支撑板上。本发明所提供的柔性铰链超分辨光刻装置中，承片台向上移动，使掩模和基片缓慢接触，接触过程中，在比较小的贴紧力作用在柔性铰链上，使掩模绕其通过几何中心的相互正交的两个轴旋转，完成贴平，避免产生横向位移。
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公开(公告)号：CN103076162B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201310042037.6
申请日：2013-02-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅周期的测量器件，由标准光栅和金属介质多层膜组成，金属-介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置；介质层的上层位于标准光栅的下方，金属层的底层位于待测光栅上方，将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上，标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波，并通过金属介质多层膜滤波；滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹；最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。
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公开(公告)号：CN109521657A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811509683.8
申请日：2018-12-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种表面等离子体光刻中小分子光刻胶的干法显影方法。样品特征结构包括激发层、光刻胶层、增强层。干法显影过程：样品首先在表面等离子体光刻机上曝光，获得超分辨率光刻图形记录在光刻胶层；基于感光与非感光区域光刻胶成分不同，可在胶表面进行有选择性的硅烷化掺杂处理；利用反应离子刻蚀技术，将硅烷化区域进行硬化处理，同时非硅烷化区域会被刻蚀去除，进一步以硬化层作为掩模，对非硅烷化区域进行彻底的刻蚀，实现干法显影，获得有一定厚度硬层的光刻胶图形。该方法优势：一是干法显影可避免湿法显影中容易出现的线条漂移、倒塌、断裂等问题；二是获得的有硬层的光刻胶图形，可提高表面等离子体光刻中薄胶的进一步刻蚀传递性能。
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