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公开(公告)号：CN102556951A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210027093.8
申请日：2012-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种硅基悬空的金属纳米针孔及其加工方法，该纳米针孔制作于硅基悬空的金属薄膜上。其制作流程包括：选取双面抛光硅片，在硅片的上表面沉积金属膜，再在硅片的两个表面分别沉积氮化硅膜。然后在硅片上表面涂光刻胶进行光刻，刻蚀氮化硅层和金属层，获得粗定位标识图形。再在硅片下表面涂光刻胶、光刻、刻蚀氮化硅层、湿法腐蚀体硅，获得硅基悬空的金属膜。最后采用聚焦离子束在硅基悬空的金属膜上制备精对准标识和纳米针孔。本发明利用灵活有效、精密度高的聚焦离子束在金属膜上直接加工纳米针孔，实现纳米精度的操作，同时实现入射光点与纳米孔的精确对位，避免了电子束光刻和图形传递的繁琐工艺流程，具有工艺简单，精度高的优点。
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公开(公告)号：CN101604034A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200910089256.3
申请日：2009-07-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B3/00
Abstract: 一种亚波长高折射率介质孔金属结构透镜，确定入射波长λ，基底材料，填充材料，增透膜材料及金属板材料；确定基底材料口径为L，金属板的厚度为h，基底放置于xy平面且中心在原点处；通过在金属板上制作合适边长的孔，向其内填充入高折射率介质如锗，完成所需的该点处的相位调制；(4)由所设计的透镜焦距f，得到相位与位置以及入射波长之间的关系，使得位相Φ(x，y)处于0到2π之间；(5)在金属板上进行取样，根据取样位置计算得到每一个取样点的相位延迟，然后根据相位延迟计算得到每一取样点所对应的方孔大小，在金属板中嵌入不同大小的高折射率介质孔，透镜设计完毕后，在透镜两面镀上一层高透膜，本发明设计的透镜具有高衍射效率的优点。
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公开(公告)号：CN101144908A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710176014.9
申请日：2007-10-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种多波长多孔透镜的设计方法：(1)应用菲涅尔波带片进行多孔透镜的设计，菲涅尔波带片的第k环带半径为，相应的菲涅尔环带宽度wk＝ρk－ρk－1，为第一环带半径，其中f为焦距，λ为入射光的波长，多孔透镜小孔的中心位置，即小孔中心到透镜中心的距离放置于对应的第k个波带的中心，小孔中心半径为；(2)对于某焦距，采用步骤(1)的方法分别对M种不同波长的光进行多孔透镜的设计，得到M块多孔透镜；(3)采用分区设计的方法，将空白圆平面以中心为原点，等角度间隔的分割成N个区域，N为M的整数倍，同时将M块多孔透镜也分割成N个区域；再以M为周期轮流在空白平面插入M块多孔透镜对应的设计部分，组合得到多波长多孔透镜。本发明使多孔透镜能够在多个波长照明下具有相同的焦距和成像质量，极大的拓展了多孔透镜成像带宽，并进一步扩大了其应用范围。
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公开(公告)号：CN1670564A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200510011241.7
申请日：2005-01-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 同轴对称型微反射镜阵实现半导体激光器光束整形方法，首先半导体激光器阵列准直光束在方向校正微反射镜阵列通光窗口位置处以线光斑的形式入射到光束分割微反射镜阵列，中间部分光束直接穿过光束分割微反射镜阵列窗口，左边的分割微反射镜将入射到该反射镜上的光束向下和向中间反射，右边的分割微反射镜对入射到该微反射镜的光束向上向和向中间反射，在往回反射到方向校正微反射镜阵列的位置处，这两部分光束都与中间直接穿过部分形成线光束堆，经过方向校正微反射镜阵列后，所有的光束均沿原先光路的光轴方向传输，此时，快轴方向的光斑尺寸增大了N倍，慢轴方向的光斑尺寸减小到原来的1/N。这样就实现了线光束到圆光束或正方形光束的变换。本发明具有光束整形效率高、结构简单的优点。
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公开(公告)号：CN1180232C
公开(公告)日：2004-12-15
申请号：CN01108756.0
申请日：2001-08-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种快速、简便的测量激光光束发散角的方法。本发明采用被检激光器、光阑、标准镜头、CCD相机和计算机组成的测量装置，用CCD相机接收激光器的光束在标准镜头的后焦面处形成的聚焦光斑的信号，通过计算机处理CCD相机输出的光斑信号，计算出激光器发出的激光光束的远场发散角2θ。本发明提供的方法操作简单，且能同时测量激光在各个不同方向的光束发散角，尤其适合测量小口径、小发散角、以及非径向对称的激光光束。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN1552589A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN03123580.8
申请日：2003-05-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 连续微透镜列阵放大显示防伪方法，涉及微光学元件显示技术。采用印刷、发片、激光打印、微细加工、微雕刻方法制作微细图形，采用微细加工的方法制作口径与微细图形相匹配的连续表面微透镜列阵，两者通过分离式、膜压组合式、粘贴组合式等结合，得到单一图形单一颜色、多图形多色彩等多种放大显示及三维立体效果，还具有强烈的动感，方便地观察到肉眼无法分辨的微图形，从而实现防伪目的。本发明组合方式灵活，效果独特，成本低廉，适用范围广，具有很好的市场前景。
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公开(公告)号：CN104865706A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510262764.2
申请日：2015-05-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
CPC classification number: G02B27/0955 , G02B27/0905 , G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种提高相干合束激光光束质量的装置。该装置包括一组衍射型望远系统阵列、一个聚焦透镜和一个CCD。所述衍射望远系统阵列由一组目镜阵列和一组物镜阵列组成，单个目镜和单个物镜组成衍射望远系统单元，单元结构采用伽利略望远系统，其组成透镜采用多阶相位型菲涅尔衍射结构。具体地，所述衍射望远系统阵列将入射的较为分散的阵列光束扩束成相切光束，然后经聚焦透镜聚焦，在其焦面处实现远场相干合束，并由CCD探测合束激光的能量分布。本发明具有易于加工、方便装调等优点，同时，所述衍射望远系统阵列具有高扩展性，可以实现不同排布、更多路高填充因子的激光相干合束。
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公开(公告)号：CN104330890A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410614452.9
申请日：2014-11-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B26/00
Abstract: 本发明提供一种长腔长微机电可调谐法布里－珀罗滤波器，滤波器的上基板由双面腐蚀后截面呈“W”形的体硅及其下表面的浓硼掺杂层构成，“W”形体硅上表面以透明薄膜作为支撑膜，其上的反射膜作为法布里－珀罗滤波器的前腔镜，“W”形体硅下表面不同区域的浓硼掺杂层可分别作为悬臂梁和上电极。滤波器的下基板由石英玻璃构成，其上表面与前腔镜和上电极对应的区域分别制作有后腔镜和下电极，下表面与后腔镜对应的区域刻有衍射光栅。该微机电滤波器可方便获得200μm以上的初始腔长，能在不同方向上实现单一波长的滤波，具有窄半峰全宽和宽自由光谱范围的优点，在光通讯，光信息读取，激光技术等领域中有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN102560565B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201210027790.3
申请日：2012-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面氮化硅膜层上制作一个开口，露出体硅表面；采用氢氧化钾湿法腐蚀，以氮化硅为掩蔽层将露出的体硅表面腐蚀完毕，露出二氧化硅表面；在SOI的上表面涂覆光刻胶，通过光刻和刻蚀制作纳米通孔；将具有纳米通孔的SOI器件电铸，获得掺杂硅包裹的金属线条；采用干法刻蚀将氮化硅去除，并用氢氟酸溶液去除二氧化硅，完成金属纳米线阵的制备。本发明不易损伤，且采用SOI片进行制作，避免了掺杂不均、掺杂层厚度难控制等缺点。
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