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公开(公告)号：CN108265269B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201810140020.7
申请日：2018-02-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种提升多层激光薄膜元件环境稳定性的镀膜方法，该方法的实质是在电子束蒸镀技术的基础上结合离子束辅助沉积技术。根据所设计的膜系，利用电子束蒸镀技术沉积除最外层以外的多层膜，以获取高的抗激光损伤阈值；利用离子束辅助沉积技术沉积最外层，以获取致密的水汽阻隔层，阻止水分子迅速进出多层激光薄膜元件表面。本发明能在保持电子束蒸镀技术制备的多层激光薄膜元件较高的抗激光损伤阈值的同时，提升其环境稳定性。
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公开(公告)号：CN110079788A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910366232.1
申请日：2019-05-05
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/513
Abstract: 一种基于等离子体增强原子层沉积(PEALD)的紫外减反射薄膜的镀制方法，采用类似于熔石英体材料化学反应的原理沉积SiO2薄膜材料。本发明能够避免溶胶-凝胶技术(sol-gel)薄膜稳定性差、电子束沉积(E-beam deposition)薄膜纳米吸收性缺陷密度高的问题，获得同时具备高稳定性和高激光损伤阈值的高性能紫外减反射薄膜。
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公开(公告)号：CN108265269A
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201810140020.7
申请日：2018-02-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种提升多层激光薄膜元件环境稳定性的镀膜方法，该方法的实质是在电子束蒸镀技术的基础上结合离子束辅助沉积技术。根据所设计的膜系，利用电子束蒸镀技术沉积除最外层以外的多层膜，以获取高的抗激光损伤阈值；利用离子束辅助沉积技术沉积最外层，以获取致密的水汽阻隔层，阻止水分子迅速进出多层激光薄膜元件表面。本发明能在保持电子束蒸镀技术制备的多层激光薄膜元件较高的抗激光损伤阈值的同时，提升其环境稳定性。
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公开(公告)号：CN106835020B
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201710000723.5
申请日：2017-01-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种降低氧化铪‑氧化硅多层膜表面粗糙度的方法，使用HfO2‑SiO2混合膜层取代多层膜中每一层纯HfO2膜层，蒸镀完SiO2膜层后，电子束同时蒸发HfO2膜料和SiO2膜料，HfO2和SiO2膜料沉积速率的比例大于4:1。本发明能够大幅降低HfO2‑SiO2多层膜表面粗糙度，而且不会影响光谱和损伤阈值等性能。
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公开(公告)号：CN107099772A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710380376.3
申请日：2017-05-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/221 , C23C14/54
Abstract: 一种解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法，综合采用电子束沉积技术和离子束辅助沉积技术，采用离子束辅助沉积技术沉积应力临界层，采用电子束沉积技术沉积应力临界层之外的其他膜层。本发明能够解决电子束沉积较厚膜层时，因膜层张应力太大导致的膜层龟裂问题，且不会增加膜系设计难度和实际制备工艺难度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110441845A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910655317.1
申请日：2019-07-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于渐变界面纳米薄层技术提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射膜激光损伤阈值的方法，利用电子束蒸发技术交替沉积纳米厚度Al2O3和HfO2薄层作为高折射率膜层，取代常规多层膜中的纯HfO2或Al2O3膜层。本发明综合利用HfO2材料折射率高和Al2O3材料本征紫外激光损伤阈值高的优势，通过纳米薄层技术，不但增加了高折射率材料层等效折射率的调控能力，而且降低了膜层中的电场强度，在不影响薄膜反射率的前提下，提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射薄膜的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN106835020A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710000723.5
申请日：2017-01-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: C23C14/10 , C23C14/083 , C23C14/30 , C23C14/546
Abstract: 一种降低氧化铪‑氧化硅多层膜表面粗糙度的方法，使用HfO2‑SiO2混合膜层取代多层膜中每一层纯HfO2膜层，蒸镀完SiO2膜层后，电子束同时蒸发HfO2膜料和SiO2膜料，HfO2和SiO2膜料沉积速率的比例大于4:1。本发明能够大幅降低HfO2‑SiO2多层膜表面粗糙度，而且不会影响光谱和损伤阈值等性能。
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公开(公告)号：CN107099772B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201710380376.3
申请日：2017-05-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种解决电子束沉积多层膜龟裂的临界层应力的调控方法，综合采用电子束沉积技术和离子束辅助沉积技术，采用离子束辅助沉积技术沉积应力临界层，采用电子束沉积技术沉积应力临界层之外的其他膜层。本发明能够解决电子束沉积较厚膜层时，因膜层张应力太大导致的膜层龟裂问题，且不会增加膜系设计难度和实际制备工艺难度。
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公开(公告)号：CN110441845B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201910655317.1
申请日：2019-07-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于渐变界面纳米薄层技术提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射膜激光损伤阈值的方法，利用电子束蒸发技术交替沉积纳米厚度Al2O3和HfO2薄层作为高折射率膜层，取代常规多层膜中的纯HfO2或Al2O3膜层。本发明综合利用HfO2材料折射率高和Al2O3材料本征紫外激光损伤阈值高的优势，通过纳米薄层技术，不但增加了高折射率材料层等效折射率的调控能力，而且降低了膜层中的电场强度，在不影响薄膜反射率的前提下，提升HfO2/Al2O3/SiO2紫外反射薄膜的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN107838117A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201710931656.9
申请日：2017-10-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: B08B3/12 , B08B3/02 , B08B3/08 , B08B7/0071
Abstract: 采用热处理和超声清洗相结合的技术，提出一种提升基片表面及透射类薄膜元件激光损伤阈值的基片处理方法。利用热处理技术将基片亚表面的杂质颗粒析出至基片表面，然后通过超声清洗技术去除析出至基片表面的杂质颗粒。本发明能够在去除(亚)表面杂质颗粒的同时增加薄膜的附着力，提升基片表面及透射类薄膜元件的激光损伤阈值。
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