公开(公告)号：CN116607126A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202310086844.1

申请日：2023-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 林伊吹 ,  竹内靖 ,  本间学 ,  田口纯之介

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够抑制被供给到处理容器内的处理气体绕到载置台的下表面侧。基板处理装置具备：处理容器；旋转台，其可旋转地设置于处理容器的内部；载置台，其在与旋转台的旋转中心分离的位置处能够与旋转台相对地旋转；处理气体供给部，其用于向载置于载置台的基板供给处理气体；分离气体供给部，其向与被供给处理气体的处理区域相邻的多个区域供给分离气体，来形成多个分离区域；以及气体排气部，其经由与处理容器的内部连通的1个以上的排气口对气体进行排气。排气口配置于多个分离区域之间的处理区域、且比旋转台靠铅垂方向上侧的位置。

公开(公告)号：CN104103558A

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：CN201410143740.0

申请日：2014-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  竹内靖 ,  浅利伸二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67389 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772

Abstract: 本发明提供容纳容器内的气氛管理方法。其是处理装置中的容纳容器内的气氛管理方法，处理装置具有由分隔壁隔开的基板搬送区域和容器搬送区域，分隔壁具有利用开闭门进行开闭的搬送口；处理装置包括：容器保管架，其设于该容器搬送区域，用于暂时载置能够利用盖体的开闭而密闭容纳多个基板的容纳容器以供容纳容器待机；盖体开闭机构，其设于开闭门，能够一边拆卸容纳容器的与搬送口的口缘部密合的盖体一边用非活性气体对容纳容器内进行置换；气氛管理方法具有如下工序：利用盖体开闭机构来用非活性气体对容纳有未处理的基板的容纳容器内进行置换；将内部被非活性气体置换后的容纳容器搬送并载置到容器保管架上；以及使容纳容器在容器保管架上待机。

公开(公告)号：CN101660138B

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN200910169417.X

申请日：2009-08-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤寿 ,  竹内靖 ,  牛窪繁博 ,  菊地宏之

IPC: C23C16/452 ,  C23C16/455 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32559 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/50 ,  C23C16/505 ,  C23C16/509 ,  C23C16/5093 ,  H01J1/00 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 本发明提供一种活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法。该活化气体注入装置被划分成气体活化室、气体导入室，包括：将这些空间互相连通的流路形成构件；用于将处理气体导入到气体导入室的气体导入件；在气体活化室内互相并列延伸地设置、施加用于使处理气体活化的电力的一对电极，为了将被活化的气体喷出到气体活化室内而沿着电极的长度方向设置的气体喷出口。

公开(公告)号：CN102443782A

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN201110306629.5

申请日：2011-10-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤寿 ,  竹内靖

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45551

Abstract: 本发明提供成膜装置和成膜方法。在真空气氛中反复进行多次将多种反应气体按顺序供给到基板上的循环，形成薄膜的成膜装置包括：载置台，设在真空容器内，具有用于载置基板的基板载置区域；多个反应气体供给部，沿真空容器的周向彼此分开地设置，将多种反应气体分别供给到载置在基板载置区域内的基板上；分离区域，设在各处理区域之间，将处理区域彼此的气氛分离；分离气体供给部，设在该分离区域内，向基板载置区域中的真空容器的中央侧和周缘侧分别供给分离气体且周缘侧的分离气体供给量比中央侧多；顶面，在分离区域内在其与载置台之间形成狭窄的空间，使分离气体遍布中央侧与周缘侧之间地从该分离区域流向处理区域侧；真空排气机构；旋转机构。

公开(公告)号：CN102134709A

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN201010621810.0

申请日：2010-12-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤寿 ,  本间学 ,  竹内靖

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68764 ,  C23C16/45538 ,  C23C16/45551 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。该成膜装置在真空容器内使载置有多个晶圆的旋转台旋转，晶圆依次与供给到第1和第2处理区域中的第1和第2反应气体接触，在晶圆的表面形成薄膜，设有进行使第1反应气体吸附于晶圆表面的处理的第1处理区域、及面积大于该第1处理区域的面积的、进行使第2反应气体与吸附在晶圆表面的第1反应气体发生化学反应的处理的第2处理区域，与吸附相比，能够将化学反应的处理时间确保得较长，即使提高旋转台的转速，也能够充分地进行与金属吸附相比需要更长时间的化学反应而进行良好的成膜处理。

公开(公告)号：CN101399173A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810161425.5

申请日：2008-09-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 井上久司 ,  松本俊一 ,  竹内靖

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/673 ,  F27D5/00

Abstract: 提供一种确保处理均匀性，并相比以往增加基板保持件搭载块数的热处理方法和热处理装置。多块被处理基板(w)沿着上下方向且以规定间隔搭载到基板保持件(10)上，将该基板保持件(10)搬入热处理炉(3)内，对被处理基板进行规定热处理。上述基板保持件(10)具有2个保持件构成体(10a)、(10b)，各保持件构成体(10a)、(10b)具备：配置在同一圆周上的多根支柱(28)、设置在各支柱(28)上且支撑被处理基板(w)周边部的基板支撑部(30)。在一个保持件构成体(10a)上搭载将表面作为上表面的被处理基板，在另外一个保持件构成体(10b)上搭载将背面作为上表面的被处理基板，由此，使上下相邻的被处理基板(w)背面对背面和表面对表面交替。

公开(公告)号：CN100403509C

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200580001445.0

申请日：2005-10-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 原木健次郎 ,  山本博之 ,  植村聪 ,  角田勇二 ,  竹内靖 ,  酒井裕史

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67769 ,  H01L21/67109 ,  Y10S414/14

Abstract: 一种立式热处理装置，包括：将收纳有多片被处理体(W)的搬运容器(2)搬入以及搬出该立式热处理装置用的至少一个搬入搬出部(3、4)；保管通过该搬入搬出部而搬入该立式热处理装置内的多个搬运容器的第一保管部(5)；收纳多段保持有多片被处理体的保持件(6)，并对被处理体实施规定热处理的热处理炉(7)；和为了在上述保持件与搬运容器之间移载被处理体而承载搬运容器的移载部(8)；其中，作为所述搬入搬出部，设置有上段的搬入搬出部(3)和下段的搬入搬出部(4)，同时，在上段和下段的搬入搬出部之间设置有保管搬运容器的第二保管部(20)。上述搬入搬出部(3，4)中的至少一个作为保管搬运容器(2)的第三保管部(30)。可实现在不增大占用面积的条件下增加搬运容器的保管数量，并实现生产率的提高。

公开(公告)号：CN104103558B

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：CN201410143740.0

申请日：2014-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  竹内靖 ,  浅利伸二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67389 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772

Abstract: 本发明提供容纳容器内的气氛管理方法。其是处理装置中的容纳容器内的气氛管理方法，处理装置具有由分隔壁隔开的基板搬送区域和容器搬送区域，分隔壁具有利用开闭门进行开闭的搬送口；处理装置包括：容器保管架，其设于该容器搬送区域，用于暂时载置能够利用盖体的开闭而密闭容纳多个基板的容纳容器以供容纳容器待机；盖体开闭机构，其设于开闭门，能够一边拆卸容纳容器的与搬送口的口缘部密合的盖体一边用非活性气体对容纳容器内进行置换；气氛管理方法具有如下工序：利用盖体开闭机构来用非活性气体对容纳有未处理的基板的容纳容器内进行置换；将内部被非活性气体置换后的容纳容器搬送并载置到容器保管架上；以及使容纳容器在容器保管架上待机。

公开(公告)号：CN102820247B

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201210187388.1

申请日：2012-06-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  菱谷克幸 ,  竹内靖

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772

Abstract: 本发明提供基板输送容器的开闭装置、盖体的开闭装置以及半导体制造装置。基板输送容器的开闭装置具备：设置成在基板的输送区域侧借助升降机构升降自如的升降基体；用于开闭壁部的开口部的罩部件；用于对该罩部件与该开口部的口边缘部之间进行密封的密封部件；设置于该罩部件，用于取下或安装盖体的盖体装卸机构；设置于该升降基体，并将该罩部件朝上引导以使该罩部件能够从后退位置朝壁部侧前进的引导部；设置于该壁部侧，并沿与该开口部的密封面正交的方向延伸的导向路；以及设置于该罩部件，并在该升降基体下降时边沿上述导向路滚动边下降的转动体。

公开(公告)号：CN102683252B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201210063579.7

申请日：2012-03-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山岸大祐 ,  小山胜彦 ,  佐藤正孝 ,  竹内靖

IPC: H01L21/677 ,  C23C16/56

CPC classification number: H01L21/67757 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板输送方法和基板输送装置。该基板输送方法用于对由背面彼此相对的第1基板和第2基板隔着隔离构件层叠而成的层叠体进行输送，其包括下述工序：利用设在第1叉状件的一侧的第1夹持机构，自第1基板的背面的下方夹持第1基板来承接第1基板，使第1叉状件上下翻转而将承接的第1基板载置于第2叉状件，其中，第1叉状件设在第2叉状件的上方；利用与第1夹持机构设在第1叉状件的同一侧的第2夹持机构自隔离构件的上方夹持该隔离构件来承接该隔离构件，将承接的隔离构件载置在第1基板上；利用第1夹持机构自第2基板的表面的上方夹持该第2基板来承接第2基板，将承接的第2基板载置在已载置于第2叉状件的隔离构件上。