公开(公告)号：CN116607126A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202310086844.1

申请日：2023-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 林伊吹 ,  竹内靖 ,  本间学 ,  田口纯之介

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够抑制被供给到处理容器内的处理气体绕到载置台的下表面侧。基板处理装置具备：处理容器；旋转台，其可旋转地设置于处理容器的内部；载置台，其在与旋转台的旋转中心分离的位置处能够与旋转台相对地旋转；处理气体供给部，其用于向载置于载置台的基板供给处理气体；分离气体供给部，其向与被供给处理气体的处理区域相邻的多个区域供给分离气体，来形成多个分离区域；以及气体排气部，其经由与处理容器的内部连通的1个以上的排气口对气体进行排气。排气口配置于多个分离区域之间的处理区域、且比旋转台靠铅垂方向上侧的位置。

公开(公告)号：CN116598223A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202310054570.8

申请日：2023-02-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 林伊吹

IPC: H01L21/67 ,  C23C16/458 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/687

Abstract: 本公开涉及基板处理装置。提供一种能够调整顶部构件与基板之间的间隙的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备：真空容器；载置部，其设置于所述真空容器的内部，该载置部具有载置基板的载置面；以及顶部构件，其设置于所述载置部的上方，所述顶部构件具有：固定构件，其固定于所述真空容器；可动构件，其安装于所述固定构件，该可动构件具有与所述载置面相对的第1相对面；间隔件，其被夹在所述固定构件与所述可动构件之间；第1密封构件，其设置于所述固定构件与所述间隔件之间；第2密封构件，其设置于所述可动构件与所述间隔件之间；以及多个调整螺栓，其贯穿所述可动构件并拧入所述固定构件。