-
公开(公告)号：CN114807908A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210038157.8
申请日：2022-01-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/50 , C23C16/40 , C23C16/458 , H01Q1/22
Abstract: 本发明提供一种能够调整由等离子体产生的离子的供给量的等离子体处理装置。其具有：处理室；旋转台，其设于所述处理室内，并能够将基板沿着周向载置；处理气体供给喷嘴，其能够向所述旋转台供给处理气体；等离子体天线，其位于所述处理室上的、覆盖所述处理气体供给喷嘴的至少局部的位置；以及离子捕捉板，其设于比所述处理气体供给喷嘴靠上方的、所述处理室内的与所述等离子体天线的至少局部重叠的位置。
-
公开(公告)号：CN104103558A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410143740.0
申请日：2014-04-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67389 , H01L21/67379 , H01L21/67769 , H01L21/67772
Abstract: 本发明提供容纳容器内的气氛管理方法。其是处理装置中的容纳容器内的气氛管理方法，处理装置具有由分隔壁隔开的基板搬送区域和容器搬送区域，分隔壁具有利用开闭门进行开闭的搬送口；处理装置包括：容器保管架，其设于该容器搬送区域，用于暂时载置能够利用盖体的开闭而密闭容纳多个基板的容纳容器以供容纳容器待机；盖体开闭机构，其设于开闭门，能够一边拆卸容纳容器的与搬送口的口缘部密合的盖体一边用非活性气体对容纳容器内进行置换；气氛管理方法具有如下工序：利用盖体开闭机构来用非活性气体对容纳有未处理的基板的容纳容器内进行置换；将内部被非活性气体置换后的容纳容器搬送并载置到容器保管架上；以及使容纳容器在容器保管架上待机。
-
公开(公告)号：CN102290359A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110165910.1
申请日：2011-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67109 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造、处理容器构造及处理装置。该支承体构造在供处理气体从一侧朝向另一侧沿水平方向流动的处理容器构造内支承要处理的多张被处理体(W)，包括顶板部(92)、底部(94)和多个支承支柱(96)，多个支承支柱(96)将顶板部和底部连结起来，沿着其长度方向以规定的间距形成有用于支承被处理体的多个支承部(100)，并且，多个支承部中的最上层的支承部与顶板部(92)之间的距离以及多个支承部中的最下层的支承部与底部(94)之间的距离均被设定为支承部之间的间距以下的长度。由此，抑制了在支承体构造的上下的两端部侧产生气体的湍流。
-
公开(公告)号：CN102634773B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210028975.6
申请日：2012-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/405 , C23C16/4412 , C23C16/45546
Abstract: 本发明提供一种成膜装置。与分别形成有用于向反应管内供给Zr系气体、O3气体等处理气体的气体喷射口的第1体喷射器及第2气体喷射器相对独立地形成第3气体喷射器，在该第3气体喷射器上，沿着反应管的长度方向形成有狭缝，在切换处理气体时，通过从该狭缝向反应管内供给吹扫气体而该置换反应管内的气氛气体。
-
公开(公告)号：CN102286731B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201110168440.4
申请日：2011-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/45546 , C23C16/52 , H01L21/67303
Abstract: 本发明提供一种处理装置及成膜方法。本发明的处理装置用于对多张被处理体实施规定的处理，包括：处理容器构造，其具有处理容器，在处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域，并且在另一侧形成有排气口，该排气口用于排出由喷嘴容纳区域沿水平方向放出的气体；盖部，其用于堵塞处理容器构造的下端的开口部侧；支承体构造，其用于支承被处理体，并且能够插入到处理容器构造内或从处理容器构造内拔出；气体导入部件，其具有被容纳于喷嘴容纳区域内并用于导入气体的气体喷嘴；排气部件，其具有用于排出处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统；加热部件，其用于加热被处理体；控制部件，其用于控制整个装置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102286731A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110168440.4
申请日：2011-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/45546 , C23C16/52 , H01L21/67303
Abstract: 本发明提供一种处理装置及成膜方法。本发明的处理装置用于对多张被处理体实施规定的处理，包括：处理容器构造，其具有处理容器，在处理空间的一侧设置有喷嘴容纳区域，并且在另一侧形成有排气口，该排气口用于排出由喷嘴容纳区域沿水平方向放出的气体；盖部，其用于堵塞处理容器构造的下端的开口部侧；支承体构造，其用于支承被处理体，并且能够插入到处理容器构造内或从处理容器构造内拔出；气体导入部件，其具有被容纳于喷嘴容纳区域内并用于导入气体的气体喷嘴；排气部件，其具有用于排出处理容器构造内的气氛气体的多个排气系统；加热部件，其用于加热被处理体；控制部件，其用于控制整个装置。
-
公开(公告)号：CN104103558B
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201410143740.0
申请日：2014-04-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67389 , H01L21/67379 , H01L21/67769 , H01L21/67772
Abstract: 本发明提供容纳容器内的气氛管理方法。其是处理装置中的容纳容器内的气氛管理方法，处理装置具有由分隔壁隔开的基板搬送区域和容器搬送区域，分隔壁具有利用开闭门进行开闭的搬送口；处理装置包括：容器保管架，其设于该容器搬送区域，用于暂时载置能够利用盖体的开闭而密闭容纳多个基板的容纳容器以供容纳容器待机；盖体开闭机构，其设于开闭门，能够一边拆卸容纳容器的与搬送口的口缘部密合的盖体一边用非活性气体对容纳容器内进行置换；气氛管理方法具有如下工序：利用盖体开闭机构来用非活性气体对容纳有未处理的基板的容纳容器内进行置换；将内部被非活性气体置换后的容纳容器搬送并载置到容器保管架上；以及使容纳容器在容器保管架上待机。
-
公开(公告)号：CN102290359B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201110165910.1
申请日：2011-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67109 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造、处理容器构造及处理装置。该支承体构造在供处理气体从一侧朝向另一侧沿水平方向流动的处理容器构造内支承要处理的多张被处理体(W)，包括顶板部(92)、底部(94)和多个支承支柱(96)，多个支承支柱(96)将顶板部和底部连结起来，沿着其长度方向以规定的间距形成有用于支承被处理体的多个支承部(100)，并且，多个支承部中的最上层的支承部与顶板部(92)之间的距离以及多个支承部中的最下层的支承部与底部(94)之间的距离均被设定为支承部之间的间距以下的长度。由此，抑制了在支承体构造的上下的两端部侧产生气体的湍流。
-
公开(公告)号：CN104681467A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201510023531.7
申请日：2011-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/458 , H01L21/673
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/405 , C23C16/45546 , C23C16/4583 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造及处理装置。该支承体构造用于在处理容器构造(42)内支承被处理体(W)，该处理容器构造(42)在收容有多个上述被处理体(W)的状态下供处理气体从一端朝向另一端流动而进行规定处理，该支承体构造包括顶板部(48)、底部(50)和多个支承支柱(60)，多个支承支柱(60)将上述顶板部和上述底部连结起来，沿着其长度方向形成有用于支承上述被处理体的多个支承部(88)，并且，上述支承部的在上述处理气体的流动方向的下游侧的间距被设定得大于上述支承部的在上述处理气体的流动方向的上游侧的间距。由此，能够提高被处理体的膜厚的面内均匀性。
-
公开(公告)号：CN104681467B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201510023531.7
申请日：2011-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/458 , H01L21/673
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/405 , C23C16/45546 , C23C16/4583 , H01L21/67309
Abstract: 本发明提供支承体构造及处理装置。该支承体构造用于在处理容器构造(42)内支承被处理体(W)，该处理容器构造(42)在收容有多个上述被处理体(W)的状态下供处理气体从一端朝向另一端流动而进行规定处理，该支承体构造包括顶板部(48)、底部(50)和多个支承支柱(60)，多个支承支柱(60)将上述顶板部和上述底部连结起来，沿着其长度方向形成有用于支承上述被处理体的多个支承部(88)，并且，上述支承部的在上述处理气体的流动方向的下游侧的间距被设定得大于上述支承部的在上述处理气体的流动方向的上游侧的间距。由此，能够提高被处理体的膜厚的面内均匀性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.02 seconds)
