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公开(公告)号：CN107180775B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201710337989.9
申请日：2012-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供基板处理系统和基板搬送方法。在具有处理站(3)和交接站(5)的涂敷显影处理系统中，交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元(141)、至少对清洗后的晶片的背面，在搬入到曝光装置之前检查能否进行该晶片的曝光的晶片检查单元(101)、具有在清洗单元(141)和检查单元(142)之间搬送晶片的臂的晶片搬送装置(120)。清洗单元(141)和检查单元(142)在交接站(5)的正面侧，在上下方向设置有多层，晶片搬送装置(120)设置于与清洗单元(141)和检查单元(142)相邻的区域。
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公开(公告)号：CN109482381A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811057063.5
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开涉及供给异物更少的处理液的处理液供给装置以及基板处理系统。抗蚀液供给装置(200)经由配设了用于去除抗蚀液中的异物的过滤器(206)以及用于送出抗蚀液的泵(207)的供给路径(202)，向涂布喷嘴(142)供给抗蚀液。在作为隔管泵的泵(207)以及过滤器(206)的上游侧配有设开闭阀(205)，在泵(207)以及过滤器(206)的下游侧配设有回吸阀(208)。控制部(U)进行使来自泵(207)的抗蚀液的送出停止的控制，以及进行在通过回吸阀(208)的动作使来自涂布喷嘴(142)的抗蚀液的喷出中断之后、将开闭阀(205)关闭以使所述喷出完全停止的控制。
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公开(公告)号：CN107492513A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710443443.1
申请日：2017-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , H01L21/02 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L2221/67
Abstract: 本发明提供一种液处理装置、液处理方法以及存储介质。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。
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公开(公告)号：CN102233989A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201110079737.3
申请日：2011-03-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B05B9/03 , B05B15/30 , Y10T137/314 , Y10T137/8593 , Y10T137/86332
Abstract: 本发明提供一种能够防止处理液残留在容器主体的处理液供给机构。该处理液供给机构包括：固定筒部，自盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，与该固定筒部同轴地螺合设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，相对于由固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，轴向的位置相对于移动筒部被固定；旋转操作部，具有与移动筒部同轴设置的环状部。在上述移动筒部及上述环状部分别设置有卡合部及被卡合部，在旋转上述旋转操作部时，卡合部及被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，当施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除。由此使处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部而被固定。
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公开(公告)号：CN110313060B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201880012674.X
申请日：2018-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 一种基板处理系统，其具备热处理装置等作为处理基板的处理装置，在该处理装置设置有用于输送晶圆的输送区域，在该基板处理系统中，具备声波辐射装置，该声波辐射装置辐射声波，防止输送区域内的浮游微粒向基板附着。声波辐射装置设置于例如输送区域的与热处理装置的晶圆的输入输出口相邻的区域、基板输送区域的与相对于盒载置部而言的基板输入输出口相邻的区域。另外，声波反射装置也可以安装于基板输送装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114631174A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202080073660.6
申请日：2020-10-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明能够防止从基片除去的颗粒再次附着于基片。本发明的基片清洗装置包括：保持基片的基片保持部；对基片保持部上的基片喷射清洗气体的气体喷嘴；和以包围气体喷嘴的方式设置的喷嘴罩。从气体喷嘴对喷嘴罩的减压室内喷射清洗气体，在减压室内生成除去基片上的颗粒的气体团簇。在基片保持部的保持部支承件将气帘用气体向喷嘴罩侧喷射，在喷嘴罩与保持部支承件之间形成气帘。
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公开(公告)号：CN107180775A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710337989.9
申请日：2012-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供基板处理系统和基板搬送方法。在具有处理站(3)和交接站(5)的涂敷显影处理系统中，交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元(141)、至少对清洗后的晶片的背面，在搬入到曝光装置之前检查能否进行该晶片的曝光的晶片检查单元(101)、具有在清洗单元(141)和检查单元(142)之间搬送晶片的臂的晶片搬送装置(120)。清洗单元(141)和检查单元(142)在交接站(5)的正面侧，在上下方向设置有多层，晶片搬送装置(120)设置于与清洗单元(141)和检查单元(142)相邻的区域。
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公开(公告)号：CN117836909A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280057369.9
申请日：2022-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明的基片处理装置包括：处理容器，其在内部包含能够被减压至比大气压低的压力的处理室；在上述处理室中保持基片的保持部；和喷嘴，其为了对由上述保持部保持的上述基片的第1主面照射气体团簇而喷射气体。上述处理容器具有：相对壁，其包括与上述基片的上述第1主面相对的第1相对面；板，其设置于上述相对壁的上述第1相对面的一部分；和贯通孔，其贯通上述相对壁和上述板。上述板具有与上述基片的上述第1主面相对的第2相对面。上述贯通孔是上述气体的通路，并在上述板的上述第2相对面具有出口。在上述相对壁与上述基片之间形成有第1间隙，在上述板与上述基片之间形成有第2间隙，上述第2间隙比上述第1间隙窄。
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公开(公告)号：CN114787714A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080082981.2
申请日：2020-12-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种直线运动机构，其包括：内部移动体，设置在内部可被排气的壳体内，进行直线移动并且使与从上述开口部向该壳体的外部伸出的连接部连接的壳体外部的外部移动体移动；密封带，其在上述直线方向上延伸，以封闭上述开口部的方式设置在壳体内，并且宽度方向上的两端部的一面侧的部位与该开口部的开口边缘部隔开间隔地相对；和变形抑制部，其为了抑制与所述内部移动体连接成随该内部移动体的移动而移动的上述密封带的变形，与该密封带的宽度方向上的两端部的另一面侧的部位相对地设置。
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公开(公告)号：CN114585454A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202080073722.3
申请日：2020-10-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明能够防止从基片除去的颗粒再次附着于基片。本发明的基片清洗装置包括：保持基片的基片保持部；气体喷嘴，其对基片保持部上的基片喷射清洗气体；和以包围气体喷嘴的方式设置的喷嘴罩。从气体喷嘴对喷嘴罩的减压室内喷射清洗气体，在减压室内生成除去基片上的颗粒的气体团簇。气幕用气体被从喷嘴罩的端部喷射向基片侧，在喷嘴罩的端部与基片之间形成气幕。
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