公开(公告)号：CN110783231B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN201910700630.2

申请日：2019-07-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 古闲法久 ,  小西仪纪 ,  饭田成昭 ,  大石雄三 ,  竹下和宏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

Abstract: 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，在对基板的表面照射处理用的光的基板处理中能够有效地提高基板的表面内的光的照射量的均匀性。基板处理装置(1)具备：光照射部(30)，其向晶圆(W)的表面(Wa)的比处理对象区域(TA)小的照射区域(A1)内照射处理用的光；驱动部(15)，其使照射区域(A1)在沿着晶圆(W)的表面(Wa)的平面内沿彼此交叉的两个方向移动；以及控制器(100)，其控制驱动部(15)，使得照射位置按照移动图案沿两个方向移动，该移动图案是以向处理对象区域(TA)的整个区域照射光的方式设定的图案。

公开(公告)号：CN103177992B

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201210487648.7

申请日：2012-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧准之辅 ,  矢野光辉 ,  中野征二 ,  渡边刚史 ,  丰田康典 ,  榎木田卓 ,  饭田成昭 ,  原田浩树

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G06F17/00 ,  B25J13/085 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供一种搬送装置和搬送方法，在利用电机的旋转驱动力使装载有被搬送部件的被驱动单元移动从而搬送被搬送部件时，能够检测搬送时发生的异常。该搬送装置将被搬送部件装载于被驱动单元进行搬送，该搬送装置的特征在于，包括：驱动单元，利用电机的旋转驱动力使驱动侧传动轮旋转，从而使架设在该驱动侧传动轮的传动带移动，使连结于该传动带的被驱动单元在规定的方向上移动；和监视被驱动单元的搬送状态的搬送监视单元，搬送监视单元检测出使被驱动单元移动时所需的上述电机的转矩值，基于所检测的转矩值，计算出该转矩值的相对时间的转矩微分值，并利用所计算的转矩微分值检测搬送状态。通过具有上述特征的搬送装置能够完成上述课题。

公开(公告)号：CN103021915B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201210356691.X

申请日：2012-09-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 榎木田卓 ,  中原田雅弘 ,  木山秀和 ,  饭田成昭 ,  宫田亮

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明使基板处理系统的覆盖区域变小。本发明的基板处理系统（1）包括：处理站（3），其在上下方向上多层地设置有多个处理单元；盒式部件载置台（12），其载置收容多个晶片（W）的盒式部件；和配置在处理站（3）和盒式部件载置台（12）之间的晶片搬送机构（21），在该基板处理系统（1）中，在处理站（3）和晶片搬送机构（21）之间，配置有多层地设置有多个交接单元而构成的交接块（22），该多个交接单元暂时收容在盒式部件载置台（12）和处理站（3）之间被搬送的晶片和在各处理单元的各层之间被搬送的基板。晶片搬送机构（21）包括：在盒式部件载置台（12）和交接块（22）之间搬送晶片的第一搬送臂；和在交接单元的各层之间搬送晶片的第二搬送臂。

公开(公告)号：CN103177992A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201210487648.7

申请日：2012-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧准之辅 ,  矢野光辉 ,  中野征二 ,  渡边刚史 ,  丰田康典 ,  榎木田卓 ,  饭田成昭 ,  原田浩树

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G06F17/00 ,  B25J13/085 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供一种搬送装置和搬送方法，在利用电机的旋转驱动力使装载有被搬送部件的被驱动单元移动从而搬送被搬送部件时，能够检测搬送时发生的异常。该搬送装置将被搬送部件装载于被驱动单元进行搬送，该搬送装置的特征在于，包括：驱动单元，利用电机的旋转驱动力使驱动侧传动轮旋转，从而使架设在该驱动侧传动轮的传动带移动，使连结于该传动带的被驱动单元在规定的方向上移动；和监视被驱动单元的搬送状态的搬送监视单元，搬送监视单元检测出使被驱动单元移动时所需的上述电机的转矩值，基于所检测的转矩值，计算出该转矩值的相对时间的转矩微分值，并利用所计算的转矩微分值检测搬送状态。通过具有上述特征的搬送装置能够完成上述课题。

公开(公告)号：CN103021906A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210337344.2

申请日：2012-09-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 榎木田卓 ,  中原田雅弘 ,  宫田亮 ,  木山秀和 ,  饭田成昭

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有：承载区，其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部；处理区，其具有将多个层部分上下配置而成的层构造，并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件；塔单元，其含有多个基板载置部，该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置；第1基板移载机构，其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板；第2基板移载机构，其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。

公开(公告)号：CN114975203A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210152229.1

申请日：2022-02-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 井手康盛 ,  饭田成昭

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板输送机构和基板输送方法。在利用基板输送机构相对于层叠的处理组件交接基板时，能够抑制微粒向基板的附着，在较大的范围内输送基板。基板输送机构相对于用于处理基板且相互层叠的多个处理组件中的每个处理组件交接该基板，以如下方式构成：该基板输送机构包括：基部，其包括第1驱动装置：升降部，其使基部升降；第1臂部，其从基部的下侧沿横向延伸，利用第1驱动装置使该第1臂部的远端部相对于该基部绕纵轴线回转；第2臂部，其从第1臂部的远端部的上侧沿横向延伸，该第2臂部的远端部相对于第1臂部绕纵轴线与该第1臂部的回转一起回转；以及基板的保持部，其设于第2臂部的远端部的上侧，相对于该第2臂部绕纵轴线回转。

公开(公告)号：CN112071771A

公开(公告)日：2020-12-11

申请号：CN202010500958.2

申请日：2020-06-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原英树 ,  米光祐弥 ,  山中晋一郎 ,  水篠真一 ,  饭田成昭 ,  川上浩平 ,  东徹

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。

公开(公告)号：CN110137104A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910106647.5

申请日：2019-02-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 桾本裕一朗 ,  水篠真一 ,  羽山隆史 ,  饭田成昭

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理装置的示教方法，在使进行液处理用的喷嘴的卡合部与喷嘴搬送体的被卡合部卡合来搬送喷嘴的液处理装置中，能够容易且准确地设定用于形成卡合的被卡合部的位置。装置构成为，具备：摄像部，其设置于喷嘴搬送体，以分别检测喷嘴搬送体的被卡合部分别位于第一高度和第二高度时的被卡合部在横向上的第一位置和第二位置，并且所述摄像部在被卡合部分别位于第一高度和第二高度时拍摄设置于进行待机的所述喷嘴的目标物来获取图像数据；控制部，其基于用于在被卡合部与卡合部之间形成卡合的第三高度，求出用于形成所述卡合的横向上的第三位置，并且输出控制信号以在第三高度以及第三位置形成卡合。

公开(公告)号：CN103377966B

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201310093785.7

申请日：2013-03-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饭田成昭 ,  寺本聪宽

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 本发明提供基板交接装置、基板交接方法和存储介质，能够抑制基板交接装置的高度。基板交接装置，对于形成于间隔壁的开口部，使形成于基板搬送容器的前表面的基板取出口从该间隔壁的一面一侧与所述开口部相对，从所述间隔壁的另一面一侧取下所述基板搬送容器的盖体，进行基板的交接，该基板交接装置包括：门，其从所述间隔壁的另一面一侧对所述开口部进行开闭；进退部，其用于使所述门在封闭所述开口部的第一位置与从该位置向前方离开的第二位置之间进退；和转动机构，其使所述门在第二位置与偏离所述开口部的前方区域的第三位置之间，绕沿着该门的进退方向的转动轴转动。通过采用这样的结构，无需使门升降，能够抑制装置的高度。

公开(公告)号：CN103377966A

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201310093785.7

申请日：2013-03-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饭田成昭 ,  寺本聪宽

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 本发明提供基板交接装置、基板交接方法和存储介质，能够抑制基板交接装置的高度。基板交接装置，对于形成于间隔壁的开口部，使形成于基板搬送容器的前表面的基板取出口从该间隔壁的一面一侧与所述开口部相对，从所述间隔壁的另一面一侧取下所述基板搬送容器的盖体，进行基板的交接，该基板交接装置包括：门，其从所述间隔壁的另一面一侧对所述开口部进行开闭；进退部，其用于使所述门在封闭所述开口部的第一位置与从该位置向前方离开的第二位置之间进退；和转动机构，其使所述门在第二位置与偏离所述开口部的前方区域的第三位置之间，绕沿着该门的进退方向的转动轴转动。通过采用这样的结构，无需使门升降，能够抑制装置的高度。