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公开(公告)号：CN118401895A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280081563.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：具有以通式(a10‑1)表示的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、鎓盐类产酸剂(B1)、交联剂(C)、具有5个以下的苯基的多核酚低分子化合物(Z)，其固体成分浓度为15质量％以上，式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基。Yax1为单键或2价连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN112987497A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011474716.7
申请日：2020-12-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种负型抗蚀剂组合物，含有：具有包含酚羟基的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、以下述通式(b0‑1)表示的产酸剂(B0)、交联剂(C)、在分子内具有1个或2个酚羟基且不具有羧基的芳香族化合物(Z)(式中，Rb1为有机基团，Rb2是以下述通式(b0‑r‑1)或下述通式(b0‑r‑2)表示的基团)。[化1]
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公开(公告)号：CN101313385A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200680043555.8
申请日：2006-11-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , C11D1/66 , H01L21/304 , C11D3/43
CPC classification number: C11D3/43 , C11D1/66 , C11D1/667 , C11D1/72 , C11D3/18 , C11D3/181 , C11D3/182 , C11D3/184 , C11D3/188 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70925 , G03F7/70983
Abstract: 本发明提供一种在浸液曝光过程中能够高效地洗涤除去因为从光致抗蚀剂溶出的成分而导致的曝光装置部位(特别是光学透镜部)的污染物、且废液处理简便、与浸液介质的置换效率高、不阻碍半导体制造生产率的光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法。本发明涉及光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法，其中，所述光刻法用洗涤液在用浸液介质充满于曝光装置的光学透镜部和置于晶片载物台上的曝光对象物之间进行曝光的浸液曝光过程中，用于上述曝光装置的洗涤，所述光刻法用洗涤液含有(a)表面活性剂、(b)烃溶剂及(c)水。
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公开(公告)号：CN101019075A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580025663.8
申请日：2005-07-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明在浸液曝光工艺中，能同时防止利用包括水在内的各种浸渍液的浸液曝光中的光刻胶膜的变质及所用的浸渍液的变质，且不会增加处理工序数，提高光刻胶膜的放置耐性，可形成利用浸液曝光的高分辨率的光刻胶图案。使用至少将可溶于碱的聚合物和交联剂及可溶解它们的溶剂作为构成成分的组合物在所使用的光刻胶膜表面上形成保护膜。
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公开(公告)号：CN116670585A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202180087260.5
申请日：2021-12-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，包含：树脂成分(A1)，具有包含酚性羟基的结构单元(a10)；化合物(B0)，以通式(b0‑1)表示，所述树脂成分(A1)中的所述结构单元(a10)的比例相对于构成所述树脂成分(A1)的全部结构单元的合计(100摩尔％)为超过5摩尔％～小于45摩尔％，式中，Rb1为碳原子数为1以上30以下的烃基，n、m为0～3的整数，Ra1及Ra2为氢原子或有机基团，Q1及Q2为氟原子或碳原子数为1以上6以下的全氟烷基，L为酯键。
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公开(公告)号：CN112946998A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202011423839.8
申请日：2020-12-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有树脂成分(A1)与增塑剂成分(Z)，树脂成分(A1)具有包含酸分解性基团的结构单元(a1)、以式(a10‑1)表示的结构单元(a10)，增塑剂成分(Z)具有以式(z1‑1)表示的结构单元(z1)且不含酸解离性基团，增塑剂成分(Z)的含量相对于树脂成分(A1)100质量份为50质量份以下，固体成分浓度为25质量％以上。式中，Wax1是芳香族烃基。Vz0是单键或不含酸解离性基团的2价烃基。Rz0是氢原子或不含酸解离性基团的烃基。[化1]
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公开(公告)号：CN112445067A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010859849.X
申请日：2020-08-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂组合物，其通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与重均分子量为400以上的聚醚化合物，所述聚醚化合物的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.8～32质量份，固体成分浓度为25质量％以上。
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公开(公告)号：CN101515112A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006470.8
申请日：2009-02-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/10 , C08L33/08
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物，它是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性增大的基材成分(A)和通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其特征在于，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，该高分子化合物(A1)具有下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，式中，R1是氢原子、低级烷基或卤代低级烷基，A是2价的连接基团，B是2价的连接基团，R2是酸解离性溶解抑制基团。
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公开(公告)号：CN118414582A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280083992.1
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，其含有树脂(A)、产酸剂(B)、以及交联剂(C)，所述树脂(A)为波长248nm的摩尔吸光系数为2000mo l‑1·L·cm‑1以下的碱可溶性树脂，交联剂(C)为从由三聚氰胺类交联剂、尿素类交联剂、亚烷基尿素类交联剂、甘脲类交联剂及环氧类交联剂构成的组中选择的至少1种交联剂。
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