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公开(公告)号：CN106066576B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201610249101.1
申请日：2016-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种既能降低光刻用组合物的粘度从而改善送液性、又能够形成作为目标的厚度均匀的厚膜的光刻用药液，并且提供包含该光刻用药液的抗蚀剂组合物。上述课题的解决手段为：以膜厚成为5μm以上的方式，利用旋涂法涂布含有具有规定范围内的饱和蒸气压及粘度的溶剂和树脂的光刻用药液。
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公开(公告)号：CN101198906B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200680003206.3
申请日：2006-02-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106
Abstract: 本发明涉及一种薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物，其特征在于该薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物包含：具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱溶解性增加的树脂成分(A)、通过照射放射线产生酸的酸产生剂成分(B)和具有放射线吸收能力的化合物(C)，其中，所述树脂成分(A)具有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)和所述结构单元(a1)的羟基的氢原子被酸解离性溶解抑制基团取代的结构单元(a2)，所述酸解离性溶解抑制基团含有下述通式(II)表示的酸解离性溶解抑制基团(II)为主要成分。式中，X表示脂肪族环式基团、芳香族环式烃基或碳原子数为1～5的烷基，R1表示碳原子数为1～5的烷基，或X和R1也可以各自独立地表示碳原子数为1～5的亚烷基且X的末端与R1的末端键合，R2表示碳原子数为1～5的烷基或氢原子。
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公开(公告)号：CN119654597A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202380057509.7
申请日：2023-07-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F212/14 , G03F7/20
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：具有以通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)和以通式(a10‑1)表示的结构单元(a10)的树脂成分(A1)、以及具有以通式(d0‑r)表示的基团的化合物(D0)。式中，Rx01、Rx021～Rx028为氢原子等。Ra0为以通式(a01‑r‑1)表示的酸解离性基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN112445067A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010859849.X
申请日：2020-08-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂组合物，其通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与重均分子量为400以上的聚醚化合物，所述聚醚化合物的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.8～32质量份，固体成分浓度为25质量％以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112987497A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011474716.7
申请日：2020-12-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种负型抗蚀剂组合物，含有：具有包含酚羟基的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、以下述通式(b0‑1)表示的产酸剂(B0)、交联剂(C)、在分子内具有1个或2个酚羟基且不具有羧基的芳香族化合物(Z)(式中，Rb1为有机基团，Rb2是以下述通式(b0‑r‑1)或下述通式(b0‑r‑2)表示的基团)。[化1]
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公开(公告)号：CN101198906A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200680003206.3
申请日：2006-02-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106
Abstract: 本发明涉及一种薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物，其特征在于该薄膜植入法用正型抗蚀剂组合物包含：具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱溶解性增加的树脂成分(A)、通过照射放射线产生酸的酸产生剂成分(B)和具有放射线吸收能力的化合物(C)，其中，所述树脂成分(A)具有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)和所述结构单元(a1)的羟基的氢原子被酸解离性溶解抑制基团取代的结构单元(a2)，所述酸解离性溶解抑制基团含有上述通式(Ⅱ)表示的酸解离性溶解抑制基团(Ⅱ)为主要成分。式中，X表示脂肪族环式基团、芳香族环式烃基或碳原子数为1～5的烷基，R1表示碳原子数为1～5的烷基，或X和R1也可以各自独立地表示碳原子数为1～5的亚烷基且X的末端与R1的末端键合，R2表示碳原子数为1～5的烷基或氢原子。
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公开(公告)号：CN116583784A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202180083315.5
申请日：2021-12-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，其含有：具有包含酚性羟基的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、产酸剂(B)、从由三聚氰胺类交联剂、尿素类交联剂、亚烷基尿素类交联剂、甘脲类交联剂及环氧类交联剂构成的组中选择的至少1种交联剂(C)、聚醚化合物(Z)，所述聚醚化合物(Z)的含量相对于100质量份所述高分子化合物(A1)小于50质量份。
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公开(公告)号：CN106066576A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610249101.1
申请日：2016-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/004 , G03F7/0048 , G03F7/09
Abstract: 本发明的课题在于提供一种既能降低光刻用组合物的粘度从而改善送液性、又能够形成作为目标的厚度均匀的厚膜的光刻用药液，并且提供包含该光刻用药液的抗蚀剂组合物。上述课题的解决手段为：以膜厚成为5μm以上的方式，利用旋涂法涂布含有具有规定范围内的饱和蒸气压及粘度的溶剂和树脂的光刻用药液。
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公开(公告)号：CN1696831A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510070085.1
申请日：2005-05-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种正性抗蚀剂组合物，它包括：其碱溶性通过酸的作用而改变的树脂组分(A)、酸生成剂组分(B)、和聚丙二醇，其中所述组分(A)包括含有由通式(I)表示的构成单元(a1)、由通式(II)表示的构成单元(a2)和具有酸解离溶解抑制基团的构成单元(a3)的树脂组分(A1)，其中R表示氢原子或甲基，而m表示1～3的整数，其中R表示氢原子或甲基，R1表示具有1～5个碳原子的烷基，而l表示0～3的整数。
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