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公开(公告)号：CN111542782A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880083529.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方法，具有：在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，作为所述抗蚀剂组合物，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分、与由以通式(b1-1)表示的化合物构成的产酸剂，式(b1-1)中，Rb1为芳基，Rb2以及Rb3为脂肪族烃基。Rb2与Rb3可以相互键合而形成环结构。Lb1、Lb2以及Lb3为2价的连接基团或单键，X-是反荷阴离子。[化1]
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公开(公告)号：CN110673438A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910573761.9
申请日：2019-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂组合物，特别是在将厚膜的抗蚀剂膜成膜而形成抗蚀剂图案的情况下，光刻特性优异且涂布性良好，能够抑制在高温烘烤时来自抗蚀剂图案的发泡。本发明的抗蚀剂组合物，含有：高分子化合物，具有以式(a10-1)表示的结构单元以及包含酸分解性基团的结构单元；以式(b1)表示的产酸剂，抗蚀剂组合物中的固体成分浓度为30质量％以上。式(a10-1)中,R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价连接基团，Wax1为芳香族烃基，nax1是1～3的整数，式(b)中，R2011、R2021以及R2031分别独立地表示芳基，2个以上也可以相互键合而与式中的硫原子一起形成环，X-表示反荷阴离子。
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公开(公告)号：CN118613766A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202380018234.6
申请日：2023-01-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：树脂成分(A1)，具有包含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元(a1)、以通式(a10‑1)表示的结构单元(a10)、及以通式(a5‑1)表示的结构单元(a5)；树脂成分(Z)，具有以通式(z1‑1)表示的结构单元(z1)且不含酸解离性基团(式中，Wax1为芳香族烃基，Ra5为形成环骨架的一部分碳原子可被氧原子取代的酸非解离性的脂肪族环式基，Rz0为氢原子或不含酸解离性基团的烃基)。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111198479B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201911129096.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，Rz20为酸解离性基团，Rz30为氢原子或有机基团，n1为1～6的整数，n2为0～5的整数，其中，n1+n2＝6。【化1】#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111566562B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN201880083399.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 。本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10‑1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10‑1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN111566562A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880083399.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10-1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10-1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]
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公开(公告)号：CN111198479A
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201911129096.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，Rz20为酸解离性基团，Rz30为氢原子或有机基团，n1为1～6的整数，n2为0～5的整数，其中，n1+n2＝6。【化1】
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公开(公告)号：CN116670585A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202180087260.5
申请日：2021-12-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，包含：树脂成分(A1)，具有包含酚性羟基的结构单元(a10)；化合物(B0)，以通式(b0‑1)表示，所述树脂成分(A1)中的所述结构单元(a10)的比例相对于构成所述树脂成分(A1)的全部结构单元的合计(100摩尔％)为超过5摩尔％～小于45摩尔％，式中，Rb1为碳原子数为1以上30以下的烃基，n、m为0～3的整数，Ra1及Ra2为氢原子或有机基团，Q1及Q2为氟原子或碳原子数为1以上6以下的全氟烷基，L为酯键。
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公开(公告)号：CN112946998A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202011423839.8
申请日：2020-12-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有树脂成分(A1)与增塑剂成分(Z)，树脂成分(A1)具有包含酸分解性基团的结构单元(a1)、以式(a10‑1)表示的结构单元(a10)，增塑剂成分(Z)具有以式(z1‑1)表示的结构单元(z1)且不含酸解离性基团，增塑剂成分(Z)的含量相对于树脂成分(A1)100质量份为50质量份以下，固体成分浓度为25质量％以上。式中，Wax1是芳香族烃基。Vz0是单键或不含酸解离性基团的2价烃基。Rz0是氢原子或不含酸解离性基团的烃基。[化1]
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