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公开(公告)号：CN118401895A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280081563.0
申请日：2022-12-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：具有以通式(a10‑1)表示的结构单元(a10)的高分子化合物(A1)、鎓盐类产酸剂(B1)、交联剂(C)、具有5个以下的苯基的多核酚低分子化合物(Z)，其固体成分浓度为15质量％以上，式中，R为氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基。Yax1为单键或2价连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111198479B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201911129096.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，Rz20为酸解离性基团，Rz30为氢原子或有机基团，n1为1～6的整数，n2为0～5的整数，其中，n1+n2＝6。【化1】#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111566562B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN201880083399.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 。本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10‑1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10‑1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]
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公开(公告)号：CN118451370A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202280085974.7
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，具有碱可溶性树脂、化合物(B0)、以及交联剂，碱可溶性树脂具有以通式(a10‑1)表示的结构单元及以通式(a20‑1)表示的结构单元，LogP为2.8以下，化合物(B0)的波长248nm的摩尔吸光系数为10000mol‑1·L·cm‑1以下，该抗蚀剂组合物的固体成分浓度为15质量％以上。式中，Rx1及Rx2为氢原子等。Yax1及Yax2为单键或2价连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。Rax2为烃基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111542782A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880083529.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方法，具有：在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，作为所述抗蚀剂组合物，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分、与由以通式(b1-1)表示的化合物构成的产酸剂，式(b1-1)中，Rb1为芳基，Rb2以及Rb3为脂肪族烃基。Rb2与Rb3可以相互键合而形成环结构。Lb1、Lb2以及Lb3为2价的连接基团或单键，X-是反荷阴离子。[化1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112445067A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010859849.X
申请日：2020-08-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂组合物，其通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与重均分子量为400以上的聚醚化合物，所述聚醚化合物的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.8～32质量份，固体成分浓度为25质量％以上。
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公开(公告)号：CN110716390A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910574756.X
申请日：2019-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供一种抗蚀剂组合物以及提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法，所述抗蚀剂组合物能够形成膜厚5μm以上的厚膜抗蚀剂膜、并且维持较高灵敏度且形成良好形状的图案。该抗蚀剂组合物是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；叔单胺化合物(D0)，以下述通式(d0)表示，所述基材成分(A)的浓度为20质量％以上，所述化合物(D0)的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.01～0.05质量份，Rx1～Rx3分别独立地表示可具有取代基的烃基，Rx1～Rx3也可以2个以上相互地键合从而形成环结构。
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公开(公告)号：CN118414582A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280083992.1
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，其含有树脂(A)、产酸剂(B)、以及交联剂(C)，所述树脂(A)为波长248nm的摩尔吸光系数为2000mo l‑1·L·cm‑1以下的碱可溶性树脂，交联剂(C)为从由三聚氰胺类交联剂、尿素类交联剂、亚烷基尿素类交联剂、甘脲类交联剂及环氧类交联剂构成的组中选择的至少1种交联剂。
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公开(公告)号：CN111566562A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880083399.0
申请日：2018-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10-1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10-1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]
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公开(公告)号：CN111198479A
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201911129096.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，Rz20为酸解离性基团，Rz30为氢原子或有机基团，n1为1～6的整数，n2为0～5的整数，其中，n1+n2＝6。【化1】
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