公开(公告)号：CN111542782A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201880083529.0

申请日：2018-12-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 河野绅一 ,  白木雄哲 ,  大野庆晃 ,  齐藤彩 ,  砂道智成

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方法，具有：在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，作为所述抗蚀剂组合物，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分、与由以通式(b1-1)表示的化合物构成的产酸剂，式(b1-1)中，Rb1为芳基，Rb2以及Rb3为脂肪族烃基。Rb2与Rb3可以相互键合而形成环结构。Lb1、Lb2以及Lb3为2价的连接基团或单键，X-是反荷阴离子。[化1]

公开(公告)号：CN111566562B

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN201880083399.0

申请日：2018-12-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 白木雄哲 ,  河野绅一 ,  大野庆晃 ,  砂道智成 ,  齐藤彩

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 。本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10‑1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10‑1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]

公开(公告)号：CN111566562A

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201880083399.0

申请日：2018-12-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 白木雄哲 ,  河野绅一 ,  大野庆晃 ,  砂道智成 ,  齐藤彩

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案，具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序，所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10-1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分，式(a10-1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基，Yax1为单键或2价的连接基团，Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基，nax1为1～3的整数。[化1]

公开(公告)号：CN119654597A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202380057509.7

申请日：2023-07-27

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 岩下勇介 ,  齐藤彩 ,  米村幸治 ,  中川裕介

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  G03F7/20

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有：具有以通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)和以通式(a10‑1)表示的结构单元(a10)的树脂成分(A1)、以及具有以通式(d0‑r)表示的基团的化合物(D0)。式中，Rx01、Rx021～Rx028为氢原子等。Ra0为以通式(a01‑r‑1)表示的酸解离性基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。#imgabs0#

公开(公告)号：CN112445067A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010859849.X

申请日：2020-08-24

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 砂道智成 ,  中川裕介 ,  米村幸治 ,  平野智之 ,  齐藤彩

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂组合物，其通过曝光产生酸并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与重均分子量为400以上的聚醚化合物，所述聚醚化合物的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.8～32质量份，固体成分浓度为25质量％以上。

公开(公告)号：CN110716390A

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：CN201910574756.X

申请日：2019-06-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 砂道智成 ,  河野绅一 ,  大野庆晃 ,  白木雄哲 ,  齐藤彩

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 提供一种抗蚀剂组合物以及提供使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法，所述抗蚀剂组合物能够形成膜厚5μm以上的厚膜抗蚀剂膜、并且维持较高灵敏度且形成良好形状的图案。该抗蚀剂组合物是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；叔单胺化合物(D0)，以下述通式(d0)表示，所述基材成分(A)的浓度为20质量％以上，所述化合物(D0)的含量相对于所述基材成分(A)100质量份为0.01～0.05质量份，Rx1～Rx3分别独立地表示可具有取代基的烃基，Rx1～Rx3也可以2个以上相互地键合从而形成环结构。