应用于微波系统的电光调制组件及高能微波发射系统

    公开(公告)号:CN118867820B

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202410898552.2

    申请日:2024-07-05

    Abstract: 本说明书公开了一种应用于微波系统的电光调制组件及高能微波发射系统,涉及微波技术领域。其中,第一调制晶体的第一表面、第二表面以及第一近端端面、第一远端端面分别相对。第二调制晶体与之类似,且第二调制晶体的第三表面垂直于该第一表面。沿微波通路依次设置有微波信号发生器、微波连接件、镀在第一表面与第二表面外的行波电极、微波连接件、连接线、微波连接件、镀在第三表面与第三表面外的行波电极、微波连接件、匹配电阻。第一远端端面与该第二近端端面相对,使高能脉冲激光能穿过第一调制晶体与第二调制晶体,在该过程中被调制为调制脉冲簇激光。可见,电光调制组件能够直接对高能脉冲激光进行调制,可在调制前进行对激光的放大。

    光波导与碳化硅小尺寸界面异质键合方法

    公开(公告)号:CN116299845B

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202310136894.6

    申请日:2023-02-20

    Abstract: 本发明提供了一种光波导与碳化硅小尺寸界面异质键合方法,包括:选择SiC晶片,在SiC晶片上制备SiO2钝化层;在所述SiC晶片侧边连接SiO2光波导,所述SiO2光波导进光的一侧镀空气与SiO2增透膜,与SiC晶片连接的一侧镀SiO2与SiC增透膜;将SiO2光波导与SiC晶片进行对位;通过SiO2光波导对SiC晶片相对的两侧同时加热且施加压力,以键合SiO2光波导;通过热压实现SiC上SiO2钝化层与增透膜上SiO2的原子间扩散互连。本发明能解决小尺寸半导体界面异质键合问题,提高了半导体器件的耐击穿强度。

    应用于微波系统的电光调制组件及高能微波发射系统

    公开(公告)号:CN118867820A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410898552.2

    申请日:2024-07-05

    Abstract: 本说明书公开了一种应用于微波系统的电光调制组件及高能微波发射系统,涉及微波技术领域。其中,第一调制晶体的第一表面、第二表面以及第一近端端面、第一远端端面分别相对。第二调制晶体与之类似,且第二调制晶体的第三表面垂直于该第一表面。沿微波通路依次设置有微波信号发生器、微波连接件、镀在第一表面与第二表面外的行波电极、微波连接件、连接线、微波连接件、镀在第三表面与第三表面外的行波电极、微波连接件、匹配电阻。第一远端端面与该第二近端端面相对,使高能脉冲激光能穿过第一调制晶体与第二调制晶体,在该过程中被调制为调制脉冲簇激光。可见,电光调制组件能够直接对高能脉冲激光进行调制,可在调制前进行对激光的放大。

    光波导与碳化硅小尺寸界面异质键合方法

    公开(公告)号:CN116299845A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310136894.6

    申请日:2023-02-20

    Abstract: 本发明提供了一种光波导与碳化硅小尺寸界面异质键合方法,包括:选择SiC晶片,在SiC晶片上制备SiO2钝化层;在所述SiC晶片侧边连接SiO2光波导,所述SiO2光波导进光的一侧镀空气与SiO2增透膜,与SiC晶片连接的一侧镀SiO2与SiC增透膜;将SiO2光波导与SiC晶片进行对位;通过SiO2光波导对SiC晶片相对的两侧同时加热且施加压力,以键合SiO2光波导;通过热压实现SiC上SiO2钝化层与增透膜上SiO2的原子间扩散互连。本发明能解决小尺寸半导体界面异质键合问题,提高了半导体器件的耐击穿强度。

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