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公开(公告)号：CN103375660B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201210118764.1
申请日：2012-04-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
IPC: F16F15/023
Abstract: 本发明提出一种辅助支撑装置，应用于光刻机的支撑装置。支撑装置包括支撑板、基座和洛伦兹电机。洛伦兹电机固定于基座并支撑支撑板。辅助支撑装置包括膜、气源和控制阀。膜连接于基座，与基座形成气室，用以承载支撑板。气源用以提供气体给气室。控制阀设置于气室的通气孔及气源之间，用以调节气室的气压。本发明在利用洛仑兹电机的同时，利用可移动的膜承载支撑板，通过气动控制气室的压力，以较低频率驱动支撑板，同时发热极小。由于采用气动驱动支撑板，降低洛仑兹电机的出力，从而洛仑兹电机的发热也会大大减少。本发明结构简单，易于控制。
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公开(公告)号：CN103192110A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201210005097.6
申请日：2012-01-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种二维钻孔的装置包括：加工单元，控制单元和二维机械手；所述控制单元包括信息输入器、运算器、第一信息输出器和第二信息输出器；所述第一信息输出器与所述加工单元连接；所述第二信息输出器与所述二维机械手连接。所述控制单元包括下述控制方法：在信息输入器中输入信息；在运算器内进行计算；在第一信息输出器输出信号至加工单元；第二信息输出器输出信号至二维机械手。本发明将CNC工件台和加工主轴所需的重复运动里程降低到了最低，同时通过二维机械手在刀具中心库和加工主轴间往返运动，以提供换刀的效率，使得CNC加工中心的加工效率达到最优，实现了针对不同规格的加工孔相互之间的转换和过渡，以及提高复杂零件的加工效率。
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公开(公告)号：CN101702404A
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200910198353.6
申请日：2009-11-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供了一种硅片交接装置及其硅片交接方法。所述装置包括硅片台和承载硅片台的基台，它还包括硅片接片手，基台设有硅片交接区；硅片接片手内置于基台，且位于硅片交接区的下方；硅片接片手包括若干可伸缩真空柱；硅片交接区表面对应于可伸缩真空柱的位置开有通孔；硅片台内设有若干柱孔，供可伸缩真空柱贯穿其中。交接硅片时，硅片台位于硅片交接区，可伸缩真空柱穿过硅片交接区的通孔后继续从硅片台的柱孔向上延伸，直至接触到硅片台上的硅片，开启真空，吸附硅片后将其升高至一定高度，传输机械手从真空柱上接过硅片。该交接装置利于减小硅片台的垂向尺寸和质量，提高硅片台的运动速度和同步运动精度。
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公开(公告)号：CN102866587A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201110191799.3
申请日：2011-07-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台，包括第一承片台、第一X向线缆、第一Y向线缆、第一Y向滑台、第二Y向滑台和第一线缆交换装置。第一X向线缆的一端固定在工件台上。第一Y向线缆的一端固定在第一承片台上。第一Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第二Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第一线缆交换装置连接第一X向线缆和第一Y向线缆的另一端，选择性地跟随第一Y向滑台或第二Y向滑台沿Y向运动。本发明提出的工件台可极大地减小电缆、管路等配套设施工作过程中产生的扰动对工件台运动定位精度的影响，缩短双台交换的时间，提高光刻生产效率。
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公开(公告)号：CN101614964B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200910056279.4
申请日：2009-08-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了一种硅片台双台交换曝光系统，包括基台、处于不同工位的2个硅片台、相互垂直设置的X梁和Y梁、分别对称设置于基台两侧的2个X向直线导轨和2个Y向直线导轨、及驱动与夹紧单元；X梁和Y梁沿直线导轨自由滑动，Y梁由错层结构的双侧直线导轨和连接架组成，X梁设置在连接架下方；直线导轨和双侧直线导轨在同一水平高度上；驱动与夹紧单元用于驱动并携带硅片台移动。本发明硅片台交换位置时，至少1个硅片台同时被X梁和Y梁上的驱动与夹紧单元承载，从而实现从X梁至Y梁的转移，或者从Y梁至X梁的转移。本发明流程简单，交换效率高，工位交换时硅片台没有脱离导轨，保证了其位置精度，且两硅片台也不会发生碰撞。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101552574A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910051056.9
申请日：2009-05-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 秦磊
IPC: H02N1/00
Abstract: 本发明提出一种静电微电机包括转子和定子。转子包括一段薄壁圆柱和一段空心圆柱，转子的材料为金属。转子与定子同轴并包覆定子，二者之间具有空气层。定子包括大于两个的偶数个互相绝缘的金属导体，这些金属导体以定子的轴线为中心对称。定子的外表面具有电介质层。其中顺序地在一组相对的金属导体上加极性相反大小相等的电压，定子和转子之间产生静电场，转子在静电场的电场力的作用下发生变形，随着电场方向的转变，转子跟随电场旋转方向缓慢转动。本发明所揭露的微电机采用了径向和轴向磁浮轴承，微电机的轴运转平稳、无机械摩擦。利用了谐波传动原理，输出转速低、扭矩大，能够满足微小角度的旋转，可以用于光刻装置中元件位置的微调整操作。
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公开(公告)号：CN102866587B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110191799.3
申请日：2011-07-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台，包括第一承片台、第一X向线缆、第一Y向线缆、第一Y向滑台、第二Y向滑台和第一线缆交换装置。第一X向线缆的一端固定在工件台上。第一Y向线缆的一端固定在第一承片台上。第一Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第二Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第一线缆交换装置连接第一X向线缆和第一Y向线缆的另一端，选择性地跟随第一Y向滑台或第二Y向滑台沿Y向运动。本发明提出的工件台可极大地减小电缆、管路等配套设施工作过程中产生的扰动对工件台运动定位精度的影响，缩短双台交换的时间，提高光刻生产效率。
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公开(公告)号：CN103982587A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201310049276.4
申请日：2013-02-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明属于光刻机的柔性支撑装置及柔性支撑件。所述柔性支撑件包括与物镜相连的顶块、柔性连接机构和与主基板相连的底块，所述柔性连接机构包括两个柔性连接件，柔性连接件设在顶块和底块之间，构成人字型或倒T字型柔性支撑件，所述柔性连接件为设有内部梁的框结构或者设有柔性铰链的梁结构。所述柔性支撑装置包括三个柔性支撑件、第二柔性支撑件和第三柔性支撑件，三者分布在等腰三角形的三个交点，物镜设置在三角形中心位置。本发明提供技术方案通过所采用的柔性支撑件及其位置排布实现了物镜与主基板装配体整体模态小于30Hz。柔性支撑件具有超低刚性，足够的支撑强度同时避免了应力集中。
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公开(公告)号：CN103472681A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201210189442.6
申请日：2012-06-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机。光刻机运动台反力抵消装置包括反力框架、配重块、阻尼元件以及弹性元件。配重块设置于光刻机运动台电机定子的一端。阻尼元件一端连接于电机定子的一端，另一端连接于反力框架。弹性元件设置于电机定子的两端。电机定子设置在滑块上，滑块设置在运动台大理石之上的固定直线导轨上，滑块带动电机定子沿固定直线导轨做直线运动。当电机定子与滑块、配重块一起在电机驱动反力作用下沿导轨做直线运动时，电机定子将会沿反力方向运动，其动能在配重块与阻尼元件的作用下逐渐衰减。本发明公开的光刻机运动台反力抵消装置缓冲行程小，并可达到衰减运动台反力的效果。
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公开(公告)号：CN103375660A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201210118764.1
申请日：2012-04-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 华中科技大学
Abstract: 本发明提出一种辅助支撑装置，应用于光刻机的支撑装置。支撑装置包括支撑板、基座和洛伦兹电机。洛伦兹电机固定于基座并支撑支撑板。辅助支撑装置包括膜、气源和控制阀。膜连接于基座，与基座形成气室，用以承载支撑板。气源用以提供气体给气室。控制阀设置于气室的通气孔及气源之间，用以调节气室的气压。本发明在利用洛仑兹电机的同时，利用可移动的膜承载支撑板，通过气动控制气室的压力，以较低频率驱动支撑板，同时发热极小。由于采用气动驱动支撑板，降低洛仑兹电机的出力，从而洛仑兹电机的发热也会大大减少。本发明结构简单，易于控制。
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