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公开(公告)号:CN101182627A
公开(公告)日:2008-05-21
申请号:CN200710169464.5
申请日:2007-11-16
Applicant: 财团法人山形县产业技术振兴机构 , 三菱重工业株式会社 , 三菱日立制铁机械株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/542
Abstract: 本发明提供一种具有令基板的宽度方向的膜厚分布均匀的喷嘴构造的蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置。通过加热而令蒸镀材料气化或者升华而产生的蒸气从长条的喷嘴开口(2)带状地排出。另一方面,在与上述喷嘴开口(2)对置的状态下在垂直于该喷嘴开口的长度方向的方向上向箭头(A)方向输送被蒸镀基板(3)。上述喷嘴开口(2)的长度方向的每单位面积的蒸气的排出流量相比该喷嘴开口的中央部而言,与基板端部的位置相同的喷嘴宽度方向位置的部分处最大,并且在喷嘴开口(2)内配置对蒸气的流动赋予指向性的多个分隔板(4)。
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公开(公告)号:CN101440471A
公开(公告)日:2009-05-27
申请号:CN200810178118.8
申请日:2008-11-19
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/568
Abstract: 本发明公开一种线式膜形成装置,包括:淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料,并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室,并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧,限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而,防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。
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