公开(公告)号：CN101398639A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810211419.6

申请日：2008-09-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进世美肯株式会社

Inventor： 李智鲜 ,  朴弘植 ,  郑钟铉 ,  洪瑄英 ,  金俸均 ,  李炳珍 ,  金柄郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  辛成健 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够容易地剥离在基板上形成的颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜以当在基板上形成滤色片或有机绝缘薄膜过程中发现缺陷时重新使用该基板。在一种具体实施方式中，剥离组合物包括约0.5至约45wt％的氢氧化合物、约10至约89wt％的烷撑二醇烷基醚化合物、约5至约45wt％的链烷醇胺化合物、以及约0.01至约5wt％的无机盐化合物。有利地，剥离过程可以在不损坏下基板的薄膜晶体管同时除去颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜的情况下实施。

公开(公告)号：CN105717755B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201510924658.6

申请日：2015-12-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  赵泰杓 ,  金炳郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  韩莹圭 ,  沈载熙

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种稀释剂组合物。本发明中的稀释剂特别是对用于旋涂硬掩膜的难溶性光刻胶具有优异的溶解特性和适当的挥发性，可在短时间内有效去除在边缘光刻胶去除工序等中粘附的多余的光刻胶，并且还可以应用于半导体基板的预湿工艺等，使得以少量光刻胶或者旋涂硬掩膜也能有效形成感光膜。

公开(公告)号：CN104781732B

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201380058917.0

申请日：2013-10-28

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N‑二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。

公开(公告)号：CN101000467A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200710000702.X

申请日：2007-01-10

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN1799007A

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN200480015004.1

申请日：2004-05-17

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  全雨植 ,  朴熙珍

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/422

Abstract: 本发明涉及一种用于去除在半导体装置或液晶显示装置的制造过程中被使用的光致抗蚀剂的稀释剂组合物，并且更具体地涉及一种包括a)丙二醇单烷基醚；b)烷基乙酸酯；和c)环酮的稀释剂组合物。本发明的稀释剂组合物可以进一步包括选自包括d)基于聚环氧乙烷的表面活性剂和e)氟化丙烯酸共聚物的组的至少一种化合物。本发明的用于去除光致抗蚀剂的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除粘在制造液晶显示装置或有机EL显示装置中使用的玻璃衬底或晶片的边缘和背面的不需要的光致抗蚀剂，减小界面处的间隙，并且特别地，防止渗透到光致抗蚀剂的界面中。所以，该稀释剂组合物可以用于多种方法中以提供经济上的利益，简化制造工艺，并且提高生产率。

公开(公告)号：CN105717755A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201510924658.6

申请日：2015-12-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  赵泰杓 ,  金炳郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  韩莹圭 ,  沈载熙

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种稀释剂组合物。本发明中的稀释剂特别是对用于旋涂硬掩膜的难溶性光刻胶具有优异的溶解特性和适当的挥发性，可在短时间内有效去除在边缘光刻胶去除工序等中粘附的多余的光刻胶，并且还可以应用于半导体基板的预湿工艺等，使得以少量光刻胶或者旋涂硬掩膜也能有效形成感光膜。

公开(公告)号：CN1758144A

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN200510102849.0

申请日：2005-09-13

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。并且，本发明还提供一种包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。本发明光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有LCD模块制备中包括异丙醇(以下简称“IPA”)清洗阶段的一般工程时，而且在适用于最近省略IPA清洗阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，特别是可大大提高剥离能力。

公开(公告)号：CN1702560A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510074042.0

申请日：2005-05-25

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  朴熙珍 ,  郑宗铉 ,  金柄郁

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/42

Abstract: 提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，用于液晶显示设备中使用的玻璃基板及半导体制造时所用的晶片的周边和背面部分，短时间内可高效去除附着的没用的感光性树脂。本发明提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，其包含a)烷基酰胺；和b)乙酸烷基酯。上述稀释剂组合物优选含有a)烷基酰胺1～99重量份；b)乙酸烷基酯1～80重量份。此外，本发明提供使用上述稀释剂组合物的半导体元件及液晶显示装置的制造方法。

公开(公告)号：CN104969129B

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201480007310.4

申请日：2014-01-24

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  辛成健

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。

公开(公告)号：CN104781732A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201380058917.0

申请日：2013-10-28

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N-二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。