公开(公告)号：CN104969129A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201480007310.4

申请日：2014-01-24

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  辛成健

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。

公开(公告)号：CN105717755B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201510924658.6

申请日：2015-12-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  赵泰杓 ,  金炳郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  韩莹圭 ,  沈载熙

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种稀释剂组合物。本发明中的稀释剂特别是对用于旋涂硬掩膜的难溶性光刻胶具有优异的溶解特性和适当的挥发性，可在短时间内有效去除在边缘光刻胶去除工序等中粘附的多余的光刻胶，并且还可以应用于半导体基板的预湿工艺等，使得以少量光刻胶或者旋涂硬掩膜也能有效形成感光膜。

公开(公告)号：CN104969129B

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201480007310.4

申请日：2014-01-24

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  辛成健

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。

公开(公告)号：CN105717755A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201510924658.6

申请日：2015-12-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 权五焕 ,  赵泰杓 ,  金炳郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  韩莹圭 ,  沈载熙

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种稀释剂组合物。本发明中的稀释剂特别是对用于旋涂硬掩膜的难溶性光刻胶具有优异的溶解特性和适当的挥发性，可在短时间内有效去除在边缘光刻胶去除工序等中粘附的多余的光刻胶，并且还可以应用于半导体基板的预湿工艺等，使得以少量光刻胶或者旋涂硬掩膜也能有效形成感光膜。