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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101398639A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810211419.6
申请日：2008-09-22
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/425
Abstract: 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够容易地剥离在基板上形成的颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜以当在基板上形成滤色片或有机绝缘薄膜过程中发现缺陷时重新使用该基板。在一种具体实施方式中，剥离组合物包括约0.5至约45wt％的氢氧化合物、约10至约89wt％的烷撑二醇烷基醚化合物、约5至约45wt％的链烷醇胺化合物、以及约0.01至约5wt％的无机盐化合物。有利地，剥离过程可以在不损坏下基板的薄膜晶体管同时除去颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜的情况下实施。
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公开(公告)号：CN104781732B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201380058917.0
申请日：2013-10-28
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N‑二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。
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公开(公告)号：CN101000468A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200710001267.2
申请日：2007-01-11
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种，为了再利用TFT－LCD彩色滤光片的制造过程中产生的不良基板，去除彩色抗蚀剂及涂层的薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物，具体涉及一种包括：(a)1－50w％的选自无机碱氢氧化物、烷基氢氧化铵及苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，所述烷基氢氧化铵包含C1－C4的烷基；(b)5－30w％的极性硫化物；(c)5－35w％的烷撑二醇醚，所述烷撑二醇醚包含C1－C4的烷基；(d)2－30w％的烷撑二醇二烷基醚，所述烷撑二醇二烷基醚包含C1－C4的烷基；(e)2－30w％的水溶性胺化合物；(f)残余量水的彩色抗蚀剂用剥离液组合物。
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公开(公告)号：CN104781732A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380058917.0
申请日：2013-10-28
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N-二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。
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公开(公告)号：CN101750916A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253786.7
申请日：2009-12-17
Inventor： 郑钟铉 , 金俸均 , 朴弘植 , 洪瑄英 , 崔永柱 , 李炳珍 , 徐南锡 , 金炳郁 , 尹锡壹 , 郑宗铉 , 辛成健 , 许舜范 , 郑世桓 , 张斗瑛 , 朴善周 , 权五焕
CPC classification number: G03F7/425 , H01L27/124 , H01L27/1288
Abstract: 根据一个或多个实施方法提供光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法。在一个或多个实施方式中，所述组合物包括约5-30重量％的链状胺化合物、约0.5-10重量％的环状胺化合物、约10-80重量％的二醇醚化合物、约5-30重量％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。
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