半导体器件
    2.
    发明公开
    半导体器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN112599519A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202010976010.4

    申请日:2020-09-16

    Abstract: 半导体器件可以包括在第一方向和与所述第一方向相交的第二方向上布置的标准单元。所述第一方向和所述第二方向均可以平行于所述衬底的上表面。每个所述标准单元可以包括半导体元件。所述半导体器件还可以包括位于两个标准单元之间的填充单元,并且每个所述填充单元可以包括填充有源区和连接到所述填充有源区且可以在所述第一方向上延伸的填充接触。所述半导体器件还可以包括电连接到至少一个所述半导体元件且可以在所述第二方向上延伸到至少一个所述填充单元中的下布线图案,并且所述填充接触可以包括低于所述下布线图案且连接到至少一个所述下布线图案的布线填充接触。

    半导体器件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112786584B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202011208930.8

    申请日:2020-11-03

    Abstract: 半导体器件包括:标准单元,设置在与衬底的上表面平行的第一方向和与第一方向交叉的第二方向上,每个标准单元包括有源区域、设置为与有源区域交叉的栅极结构、在栅极结构两侧在有源区域上的源极/漏极区域、以及电连接到有源区域和栅极结构的第一互连线;填充单元,设置在标准单元的至少部分之间,每个填充单元包括填充有源区域和设置为与填充有源区域交叉的填充栅极结构;以及布线结构,设置在标准单元和填充单元上,并且包括第二互连线,第二互连线将不同标准单元的第一互连线彼此电连接,其中第二互连线包括具有第一宽度的第一线和具有大于第一宽度的第二宽度的第二线。

    半导体器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112786584A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN202011208930.8

    申请日:2020-11-03

    Abstract: 半导体器件包括:标准单元,设置在与衬底的上表面平行的第一方向和与第一方向交叉的第二方向上,每个标准单元包括有源区域、设置为与有源区域交叉的栅极结构、在栅极结构两侧在有源区域上的源极/漏极区域、以及电连接到有源区域和栅极结构的第一互连线;填充单元,设置在标准单元的至少部分之间,每个填充单元包括填充有源区域和设置为与填充有源区域交叉的填充栅极结构;以及布线结构,设置在标准单元和填充单元上,并且包括第二互连线,第二互连线将不同标准单元的第一互连线彼此电连接,其中第二互连线包括具有第一宽度的第一线和具有大于第一宽度的第二宽度的第二线。

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