显示装置、制造其的方法以及用于制造其的掩模

    公开(公告)号:CN1873530B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200610088744.9

    申请日:2006-06-05

    Abstract: 本发明提供了一种掩模。该掩模包括:掩模体、第一曝光部分和第二曝光部分。第一曝光部分在掩模体上。该第一曝光部分包括:第一透光部分和第二透光部分。该第一透光部分将对应于输出端子的光刻胶部分曝光于第一光量的光。另外,第二透光部分将与输出端子相邻的光刻胶相邻部分曝光于第二光量的光,第二光量小于第一光量。第二曝光部分在掩模体上。该第二曝光部分包括多个第三透光部分,用于将对应于存储电极的光刻胶部分曝光于第三光量的光,第三光量在第一光量和第二光量之间。根据本发明,通过存储电极图案和像素电极形成的存储电容器的电特性得到了提高,使得显示装置的闪烁和/或余像减少,由此还导致显示装置的图像显示质量的改善。

    显示装置、制造其的方法以及用于制造其的掩模

    公开(公告)号:CN1873530A

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200610088744.9

    申请日:2006-06-05

    Abstract: 本发明提供了一种掩模。该掩模包括:掩模体、第一曝光部分和第二曝光部分。第一曝光部分在掩模体上。该第一曝光部分包括:第一透光部分和第二透光部分。该第一透光部分将对应于输出端子的光刻胶部分曝光于第一光量的光。另外,第二透光部分将与输出端子相邻的光刻胶相邻部分曝光于第二光量的光,第二光量小于第一光量。第二曝光部分在掩模体上。该第二曝光部分包括多个第三透光部分,用于将对应于存储电极的光刻胶部分曝光于第三光量的光,第三光量在第一光量和第二光量之间。根据本发明,通过存储电极图案和像素电极形成的存储电容器的电特性得到了提高,使得显示装置的闪烁和/或余像减少,由此还导致显示装置的图像显示质量的改善。

Patent Agency Ranking