多级序构TiAl单晶的大尺寸键合方法

    公开(公告)号:CN119507056A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411715685.8

    申请日:2024-11-27

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 多级序构TiAl单晶的大尺寸键合方法,属于金属合金焊接技术领域。提供了一种大尺寸多级序构TiAl单晶的平行片层键合方法:样品表面粗糙度达到200nm以下;在高真空度下,通过调节温度、压力和保温时间进行平行片层取向键合。还提供了一种大尺寸多级序构TiAl单晶的原子级扩散键合方法,在上述平行片层取向键合后,再重复置于高真空度下,通过调节温度、压力和保温时间进行垂直片层取向键合,获得平行层和垂直片层均键合后的大尺寸多级序构TiAl单晶。本发明实现了大尺寸TiAl单晶的原子级扩散键合,满足了实际应用的尺寸要求。本发明操作方法简单、节能环保、可批量进行键合。

    纳米晶碳化硅超硬块材及其制备方法

    公开(公告)号:CN116693296A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202310555292.4

    申请日:2021-12-21

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本申请涉及一种纳米晶碳化硅超硬块材及其制备方法。该纳米晶碳化硅超硬块材的平均晶粒尺寸小于100nm,维氏硬度等于或高于40GPa。该制备方法包括以下步骤:A)预处理:称取一定质量的碳化硅纳米粉,酸洗处理,水稀释至接近中性后取出烘干;B)预压成型:将A)预处理后的原料进行预压,得到预压坯体;C)烧结:对步骤B)得到的预压坯体进行高温高压烧结;D)出料:对步骤C)中的高温高压烧结设备进行降温卸压,取出烧结后的碳化硅块体,进行任选的后处理,获得了纳米晶碳化硅超硬块材。

    sp2-sp3杂化的晶态氮化硼及其制备方法

    公开(公告)号:CN113526475B

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202010305181.4

    申请日:2020-04-17

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种新型sp2‑sp3杂化的晶态氮化硼及其制备方法。本发明以常见sp2或sp3杂化的氮化硼为原料,利用高温高压的合成方法制备出一种新型sp2‑sp3杂化的晶态氮化硼同素异形体,其基本结构单元由sp2杂化的类石墨结构单元和sp3杂化的类金刚石结构单元构成,并将其命名为—Gradia氮化硼。本发明所公开的Gradia氮化硼是一类新型sp2‑sp3杂化的晶态氮化硼同素异构体,其晶体结构可根据其内部sp2和sp3结构单元的尺寸和界面匹配关系而改变,具有可调的新奇物理性能。

    异质结构金刚石/立方氮化硼复合块材及其制备方法

    公开(公告)号:CN115340380A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202210581528.7

    申请日:2022-05-26

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种新型异质结构金刚石/立方氮化硼(cBN)复合块材及其制备方法,属于超硬复合材料领域。本发明以洋葱碳纳米颗粒和六方BN微米片为原料,通过静电自组装工艺精心制备了洋葱碳纳米颗粒包裹六方BN微米片的前驱体,然后结合高温高压条件下的结构相变,使洋葱碳纳米颗粒转变成了纳米孪晶金刚石,六方BN微米片转变成了细长片层状cBN,两者构筑成异质结构金刚石/cBN复合块材。合成的异质结构金刚石/cBN复合块材的努氏硬度为50‑180GPa,断裂韧性为15‑25MPa·m1/2。这种金刚石/cBN复合块材在精密机械加工、地质勘探及化石燃料开采等领域具有广阔的应用前景。

    纳米晶碳化硅超硬块材及其制备方法

    公开(公告)号:CN114315361A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202111574952.0

    申请日:2021-12-21

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本申请涉及一种纳米晶碳化硅超硬块材及其制备方法。该纳米晶碳化硅超硬块材的平均晶粒尺寸小于100nm,维氏硬度等于或高于40GPa。该制备方法包括以下步骤:A)预处理:称取一定质量的碳化硅纳米粉,酸洗处理,水稀释至接近中性后取出烘干;B)预压成型:将A)预处理后的原料进行预压,得到预压坯体;C)烧结:对步骤B)得到的预压坯体进行高温高压烧结;D)出料:对步骤C)中的高温高压烧结设备进行降温卸压,取出烧结后的碳化硅块体,进行任选的后处理,获得了纳米晶碳化硅超硬块材。

    一种制备铬掺杂单层二硫化钨二维晶体的方法

    公开(公告)号:CN112174211B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202011168522.4

    申请日:2020-10-28

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种制备铬掺杂单层二硫化钨二维晶体的方法,属于无机半导体纳米材料制备的技术领域,其包括以下步骤:以Cr、NaCl、WO3、S为原料,在多温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过S单质对WO3及Cr同时进行硫化,共同参与成键,使Cr取代部分WS2单层二维晶体中W的位置,通过化学气相沉积的方式制备得到Cr掺杂单层WS2二维晶体。本发明所述的方法步骤简单、操作方便,合成速度快且成本低廉,制备得到的Cr掺杂单层WS2二维晶体结晶性好,化学及热力学性能稳定。

    一种生长Fe掺杂单层WS2二维晶体的方法

    公开(公告)号:CN111218717B

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202010096253.9

    申请日:2020-02-17

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种生长Fe掺杂单层WS2二维晶体的方法,属于无机半导体纳米材料制备的技术领域,其包括以下步骤:以Fe2O3、NaCl、WO3、S为原料,在多温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过S单质对WO3及Fe2O3同时硫化,共同参与成键,使Fe取代部分WS2单层二维晶体中W的位置,通过化学气相沉积的方式制备得到Fe掺杂单层WS2二维晶体。本发明所述的方法步骤简单、操作方便,合成速度快且成本低,制备得到的Fe掺杂单层WS2二维晶体结晶性好,化学及热力学性能稳定。

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