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公开(公告)号：CN109991179A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201910072640.6
申请日：2019-01-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于光学薄膜光谱测量的使用环境模拟装置及测量方法。该装置将光学薄膜样品置于装置腔室之中，并依据薄膜使用环境要求对腔室抽真空或充入不同种类的气体，同时监控装置内的温湿度，以实现对光学薄膜使用环境的模拟。将该装置与分光光度计配合使用，可以测量光学薄膜在所需使用环境状态下的光谱性能。本装置可利用商用分光光度计准确测量光学薄膜在不同使用环境、不同使用角度下的光谱，通用性强且使用方便。
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公开(公告)号：CN109141828A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201810798007.0
申请日：2018-07-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法，所述的测量装置包括探测激光器、第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜、样品台、第二半波片、第二偏振分光镜、功率计和计算机，该方法通过探测激光的功率变化在线实时测量连续激光作用下液晶器件相位调控特性变化。该方法简单易行，可以准确评估不同激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。
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公开(公告)号：CN108710164A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201810516821.9
申请日：2018-05-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11
Abstract: 一种红外宽波段减反射微结构，由下到上依次包括基底、纳米结构阵列层和低折射率层；所述的纳米结构阵列层具有垂直于所述基底表面的主轴，且截面为三角形、圆锥形、抛物线形或高斯形等渐变结构的纳米结构。本发明在纳米结构阵列上添加一层低折射率材料，该低折射率层由离子束溅射沉积技术或电子束蒸发离子束辅助沉积技术实现，以避免水吸收。通过调节低折射率层的厚度，使得纳米结构阵列层的宽带减反射效果得到提升，实现宽波段范围的高透，且透过曲线更加平坦。
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公开(公告)号：CN105887022B
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201610243008.X
申请日：2016-04-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种缝合基板凹陷结构缺陷获得高损伤阈值高反膜的方法，通过引入缝合层来降低基板微米级坑点/划痕导致的多层膜膜层形变，从而使高反膜横向力学均匀性提高，不易断裂，有效提高其抗损伤性能。其中缝合层采用等离子体辅助电子束蒸发方式来调控薄膜应力。本发明有效的隔离了基板凹陷缺陷对薄膜表面功能层的影响，可以极大程度地缝合基板坑点/划痕缺陷对薄膜抗激光损伤性能的影响，具有成本低，针对性强，效率高，简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN106835020A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710000723.5
申请日：2017-01-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: C23C14/10 , C23C14/083 , C23C14/30 , C23C14/546
Abstract: 一种降低氧化铪‑氧化硅多层膜表面粗糙度的方法，使用HfO2‑SiO2混合膜层取代多层膜中每一层纯HfO2膜层，蒸镀完SiO2膜层后，电子束同时蒸发HfO2膜料和SiO2膜料，HfO2和SiO2膜料沉积速率的比例大于4:1。本发明能够大幅降低HfO2‑SiO2多层膜表面粗糙度，而且不会影响光谱和损伤阈值等性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106378334A
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201610963031.6
申请日：2016-11-04
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种精密光学元件的超声清洗方法，所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺，所述的去离子水超声清洗是在40KHz-270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3-5分钟，清洗温度为50-60°；清洗时超声时间3-5min，温度为50-60°。本发明采用多频段超声加温清洗，利用不同频率的超声波所能清洗的最有效颗粒的对应关系，全面去除光学精密元件表面残留的污染物，提高了元件表面的清洁度，增强了光学元件的抗激光损伤等应用能力。
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公开(公告)号：CN103197367B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201310125985.6
申请日：2013-04-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/30 , C03C17/245
Abstract: 一种基于各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，由基底、各向同性的高低折射率膜层周期性交替组成的高反射膜层以及各向异性的位相延迟层一体构成，各向同性的高反射膜可以实现入射光高反射，各向异性薄膜层为反射位相延迟层，本发明在正入射条件下，可以实现两种入射偏振光波的偏振分离，获得特定的反射位相差。反射位相差通过调节各向异性薄膜层的倾斜沉积角度和厚度来实现，具有很高的设计灵活性。本发明中各向异性薄膜层的引入为反射式位相延迟片的设计提供了新方法。
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公开(公告)号：CN103540906A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310451684.2
申请日：2013-09-29
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于镀膜装置精确控制制备高性能光学薄膜的光控-晶控综合膜厚监控方法，该方法包括：镀膜前向计算机输入镀膜参数；计算机根据输入的镀膜参数给出所镀膜系的镀膜监控表，包括相应层膜的监控波长、理论极值数或晶控系数；镀膜等步骤。本发明综合了光电极值法和石英晶体振荡法的优点，能够克服两者单独使用时石英晶体振荡仪的工具因子易受膜层沉积参数影响，以及光电极值法监控非规整膜系误差大的缺点。该方法可对规整膜系和非规整膜系进行监控，有效降低了膜厚监控误差，提高了薄膜的光谱性能，具有良好的重复性。
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公开(公告)号：CN103225063A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310148760.2
申请日：2013-04-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种钕玻璃激活反射镜的制备方法，该激活反射镜具备以下光谱特征：1053nm处，57°水平偏振分量的反射率大于99.5%，0°入射550nm-900nm透射率大于90%，0°入射1053nm的透射率大于30%。该激活反射镜的制备方法包括真空室外清洗、离子束清洗、薄膜沉积等步骤。本发明激活反射镜的制备工艺简单，工艺重复性好，与传统的透射式使用相比，可以获得双倍增益，光路系统的排布更加灵活，完全可以应用于基于反射式包边钕玻璃的高功率激光系统。
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公开(公告)号：CN1696336A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510026448.1
申请日：2005-06-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种计算机控制镀膜装置，包括由光源发射系统、监控片、信号接收系统和锁相放大器四部分组成的光学膜厚监控系统，其特征在于还有带有控制程序的计算机、晶控仪、挡板开关控制电路；所述的控制程序部分包括参数设定模块和数据处理模块。本发明消除了由于人为因素导致的稳定性、重复性问题；采用光学监控和晶振监控结合的方法，既可以镀膜规整膜系，又可以镀制非规整膜系。
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