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公开(公告)号：CN1916747A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610113049.3
申请日：2006-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 非线性光学器件损伤检测装置，由激光器、入射光滤光片、样品承片台、被测样品、样品多自由度调整台、出射光滤光片、遮挡罩、激光功率计和信号探头组成，激光器射出的激光通过入射光滤光片滤光，射到被测样品的入射面上，经被测样品倍频后的倍频光，从样品的射出面射出，再经倍频光滤光片滤光，垂直射入激光功率计探头，被激光功率计接收并测量显示出倍频光的光强值，再与未放置被测样品和出射光滤光片时检测的光强值相比，可求得倍频转换效率，测得被测样品在使用前后的转换效率变化，则可判断被测样品的损伤或损坏情况。本发明的被测样品的位置由多自由度调整台准确迅速调整，调整结构简单方便，检测装置对环境条件要求低，而测量精度高，易于广泛应用。
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公开(公告)号：CN103968770B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410192906.8
申请日：2014-05-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/14
Abstract: 本发明提供一种基于表面等离子体共振的高精度纳米间隙检测结构及方法，属于纳米光学技术领域，可解决现有技术测量精度低，无法动态测量等问题。本发明中光源输出光经过准直镜、宽带偏振器入射到分束器；经过分束镜的透射光与纳米间隙检测结构及基底相互作用后，反射光回至分束器；经分束器反射并由透镜会聚后入射至光谱探测器，探测器将探测得到的数据传到计算机，经计算机处理得到间隙值，实现纳米间隙的检测。本发明采用光谱探测的方法可以实现纳米量级间隙的高精度动态检测，为纳米加工、纳米测量领域提供一种全新的测试技术；并有望在包括近场光学，近场物理在内的多个研究领域发挥重要作用。
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公开(公告)号：CN103969225B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410175832.7
申请日：2014-04-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种针对超衍射结构材料近场倏逝波光场透过率传输特性函数的远场检测方法，采用器件从上到下依次包括透明基底层、激发光栅层、超衍射结构材料层和检测光栅层。其中从透明基底背面入射的照明光通过激发光栅层激发出倏逝波级次，超衍射结构材料层可对倏逝波级次进行横向波矢的空间频率高通滤波从而形成一个具有特定横向波矢近场透过率的倏逝波光场，检测光栅层可将倏逝波级次转换为传输波级次传输至远场，最终在远场可接收到与倏逝波成份一一对应的检测光。该方法将可应用于对超衍射结构材料倏逝波光场横向波矢近场透过率传输特性函数的远场探测，实现对倏逝波光场的横向波矢近场分布及其相应波矢能量透过效率的定性分析以及定量检测。
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公开(公告)号：CN103984211B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410192957.0
申请日：2014-05-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基于双光束聚合引发以及抑制的高分辨成像光刻方法，主要步骤为：(1)选择或配置一种光刻胶，其含有对不同波长激光响应的聚合引发剂和聚合抑制剂；(2)选择对应的聚合引发激光器和聚合抑制激光器；(3)制作两个掩模版，其掩模图形形状和尺寸均相同或相似；(4)掩模版1和掩模版2在聚合抑制和聚合引发激光的作用下，通过二向色镜和透镜合束成像在同一个平面内，所成的像在空间上部分交叠；(5)将含有聚合引发剂，聚合抑制剂的光刻胶样品放置在成像平面上进行曝光及显影，得到高分辨的成像光刻图形。本发明具有光刻分辨率高，加工效率高等优点，在超越衍射极限的高效率，低成本纳米加工技术领域具有很大的应用前景。
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公开(公告)号：CN102636965B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201210107638.6
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种表面等离子体超分辨干法光刻方法，其步骤为：1)清洗基片；2)在基片上镀一层无机光刻胶TeOx；3)于TeOx膜层上镀一层金属薄膜；4)如此反复镀若干周期，最后一层为无机光刻胶；5)将多层膜置于一定图形的掩模板下进行曝光；6)曝光后的多层膜进行干法显影；7)去除残余的Ag层，制作完成。本发明利用干法对无机光刻胶进行显影，能得到边缘规则、陡直的图形，克服了传统有机光刻胶所存在的溶剂膨胀效应导致的图形边缘不规则，及后烘容易带来图形线条坍塌等问题；此外，金属层可以放大倏矢波的传播，降低在曝光过程中光的衍射效应。因此，可实现对SP光刻图形质量的提高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102149269B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201110100699.5
申请日：2011-04-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H05K9/00
Abstract: 利用传输波与倏逝波转换机制实现高效电磁吸收的方法，包括：选择频率f0；选择金属结构；选择金属结构尺寸参数；选择介质层及其厚度d；选择金属基底厚度；确定参数以后，对该结构进行电磁仿真，模拟反射率S11，提出公式反演等效阻抗，与理想吸收阻抗对比，进而改变参数，实现在频点f0处的高效电磁吸收。本发明为设计高效电磁吸收材料提供了一种快速准确的手段；在太阳能，生物传感，辐射探测等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN103149805A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310048542.1
申请日：2013-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种超衍射纳米光学探针，在锥形介质芯的外表面镀一层金属外包层，并在锥形针尖的表面沉积多层膜，该多层膜由交替排列的介质膜和金属膜层组成，当光垂直入射到介质膜的表面时，在金属膜与介质膜的界面激发表面等离极化激元，表面等离子体激元沿界面传播到锥形针尖时起到局域增强的效果，并进一步通过锥形针尖表面多层膜的的光学各向异性，对局域增强的光斑进行修饰，压缩和透射增强。依据相同的原理，本发明还包含一种表面沉积该多层膜材料的蝴蝶结结构的设计，其特征在于在其下表面沉积上述多层膜材料。本发明中还可以通过调整多层膜中金属介质的厚度比来改变透射的光强，并且结构较简单，可以很方便的应用到光刻中，提高光刻分辨力。
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公开(公告)号：CN102879360A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210325524.9
申请日：2012-09-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种超衍射定向传输材料结构制备后的测试分析方法，在透明基底上通过纳米加工方法得到纳米狭缝或孔结构掩模；在已平坦化的纳米狭缝或孔结构掩模上沉积金属介质交替多层膜结构材料；通过刻蚀或研磨的方法实现表层薄膜材料的粗糙化，完成结构制备；然后通过光源照明狭缝或小孔，激发表面等离子体倏逝波光场，并交替耦合到多层金属介质薄膜材料中，表面等离子体光场在金属介质膜层材料最外层形成特定分布，并被粗糙化表面散射到远场，通过物镜和CCD观测记录；最后计算得出超衍射材料的定向传输角度θ。本发明将高频倏逝波能量转化到远场进行探测和分析，可满足超衍射材料光学特性在远场范围的量化分析及表征需求。
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公开(公告)号：CN102621803A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210107639.0
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。
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公开(公告)号：CN102621602A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210107959.6
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种双平面超分辨成像透镜的制备方法，其步骤为：在紫外透明的基片上制备亚微米级深度的平底凹槽，凹槽平行于基片表面的截面形状为圆形、正方形、正八边形或长方形；在基片上涂布一层银的前驱体溶液，银的前驱体溶液在表面张力的作用下会在凹槽位置形成弧面膜层，经加热或紫外光照射后前驱体溶液固化为银膜；然后在银膜层上涂布一层溶胶状介质，溶胶状介质在表面张力的作用下会在凹槽位置形成另一个弧面膜层，经加热后溶胶状介质固化为介质膜；依此类推，直到将凹槽填平，就得到了物面和像面均为平面的缩放倍率超分辨成像透镜。本发明该双平面缩放倍率超分辨成像透镜能够二维或一维的缩小光刻或放大成像。
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