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公开(公告)号：CN113517416A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110346113.7
申请日：2021-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，使基片上的溶液中的溶剂在短时间干燥。在减压状态下使基片上的溶液干燥的该减压干燥装置包括：载置基片的载置台；溶剂收集部件，具有多个在厚度方向上贯通的贯通孔，以与载置于载置台的基片相对的方式设置，并暂时收集从该基片气化了的溶液中的溶剂；处理容器，其可减压且在内部设置上述载置台和上述溶剂收集部件，具有从厚度方向观察围绕载置台的侧壁；和围绕部件，其从厚度方向观察时以能够将处理容器内的侧壁与溶剂收集部件之间封闭的方式围绕溶剂收集部件，并与溶剂收集部件设置于同一平面上，围绕部件使处理容器内的气体通过从厚度方向观察比溶剂收集部件靠外侧的部分时的压力损失增加。
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公开(公告)号：CN107768278B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201710723809.0
申请日：2017-08-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , B41J29/393 , B41J2/07
Abstract: 本发明基于线传感器对检查排出的功能液的液滴的拍摄结果适当修正功能液的液滴的排出条件。液滴排出装置(1)用于使搭载有工件(W)的工件台(40)相对于液滴排出喷嘴在主扫描方向上移动，从液滴排出喷嘴将功能液的液滴排出到工件(W)上进行描绘，其包括线传感器，在工件(W)上预先形成有规定大小的标记，从液滴排出喷嘴将液滴检查排出到工件台(40)上的工件(W)，由线传感器(31)进行工件(W)上的被检查排出的液滴和上述标记的拍摄，基于所拍摄的标记在所述主扫描方向上的长度，修正上述液滴的拍摄结果，基于该修正后的液滴的拍摄结果修正来自液滴排出喷嘴的排出条件。
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公开(公告)号：CN111987241A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010390887.5
申请日：2020-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其使基片上的溶液在减压状态下干燥，溶液包含沸点相互不同的多种溶剂，减压干燥装置具有收纳基片的容器，在容器内具有：用于载置基片的载置台；溶剂收集部，其暂时收集从载置于载置台上的基片气化了的溶液中的溶剂；和使溶剂收集部在上下方向上移动的移动机构，容器在载置台的周边的比该载置台靠下侧的位置设置有排气口，该排气口与用于对该容器的内部进行排气的排气装置连接，溶剂收集部设置在俯视时比载置于载置台上的基片靠外侧的位置，且在比基片靠外侧的位置通过移动机构而在上下方向上移动。根据本发明，能够使包含沸点相互不同的多种溶剂的溶液的干燥时间在基片的面内均匀。
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公开(公告)号：CN111834553A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010263606.X
申请日：2020-04-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种使涂敷于基板上的溶液在减压状态下干燥的减压干燥装置，其包括暂时收集从所述基板气化了的所述溶液中的溶剂的溶剂收集部，所述溶剂收集部以与所述基板相对的方式配置，且被划分为多个区域，在所述多个区域各自形成有开口，所述溶剂收集部形成为所述多个区域各自的每单位面积的热容根据与该区域相对的基板中的部分而不同。由此，能够使基板上的溶液的干燥时间在基板的面内更加均匀。
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公开(公告)号：CN107650520B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201710611980.2
申请日：2017-07-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B41J25/24
Abstract: 本发明提供具有设置了多个排出功能液的喷头的滑架的功能液排出装置，其能够提高功能液的排出位置的精度。功能液排出装置(1)扫描工件(W)并将功能液排出到该工件(W)上进行描绘，其包括：设置有多个对工件(W)排出功能液的喷头(24)并具有使该喷头(24)在θ轴方向上旋转的旋转机构的滑架(23)；拍摄工件(W)的摄像部；和对每个喷头(24)控制旋转机构和排出时刻的控制部(150)。控制部(150)使功能液从相对于装置(1)对位并固定后的滑架(23)的喷头(24)排出到工件(W)上，基于该功能液的拍摄结果，控制该喷头的旋转机构和排出时刻，进行该喷头的θ轴方向的对位和扫描方向的功能液的排出位置的调整。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110444696A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910337488.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供辅助电极用的接触孔的数量最优化的有机EL显示器。本发明的一个方式的涂敷装置包括基片保持部、排出单元和移动机构。排出单元包括多个在第一方向排列地设置有多个喷嘴的喷头。移动机构使排出单元和基片保持部沿与第一方向交叉的第二方向相对地移动。基片包括：与多个副像素对应地设置的多个像素电极；堤，其覆盖多个像素电极并且形成有多个使至少一个像素电极露出的开口部；和用于将对置电极与辅助电极电连接的多个接触孔，其中该对置电极与多个像素电极相对。对每2个以上的副像素形成接触孔。排出单元从喷嘴向由基片保持部保持的基片的开口部排出有机材料的液滴。
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公开(公告)号：CN104043573B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201410096586.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供能够高效地且在短时间内除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且能够在基板的面内进行均匀的干燥处理的干燥装置及干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、用于朝向支承在载置台（3）的基板（S）上的有机材料膜喷射气体的气体喷射装置（5）、以及控制部（6）。干燥装置（100）还包括用于调节处理容器（1）内的压力的压力控制机构。多个喷嘴（51）构成为能够针对每个喷嘴（51）独立调节气体的喷射流量、气体的种类。
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公开(公告)号：CN104051673A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410096344.7
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , H01L51/524 , H01L51/5253 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供一种能够抑制水分浸入到有机EL元件的有机器件的制造方法、有机器件的制造装置以及有机器件。该有机器件的制造方法包括以下工序：输入工序，输入在第1密封层之上形成有中间层的基板，该第1密封层用于将一个或多个隔离壁部和阳极上的有机层密封；以及回蚀工序，对形成在上述基板上的中间层进行回蚀，执行上述回蚀工序，直至上述一个或多个隔离壁部中的至少一个隔离壁部上的第1密封层的至少一部分自上述中间层暴露到能够与在下一工序中成膜的第2密封层相接触的程度为止。
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公开(公告)号：CN101933120B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200980103595.0
申请日：2009-04-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/02041
Abstract: 本发明是一种环境气氛净化装置，其特征在于，具备：在被处理体所处的环境气氛中形成下降流的机构；多个离子发生器，它们位于被处理体的上方位置，且在从上方所见的布局中隔着上述被处理体对称地配置，对各上述下降流向横向供给正或负的任一方的离子；向上述被处理体施加与施加到上述多个离子发生器的电极的电压相同符号的直流电压的机构，上述对称地配置的离子发生器配置成相互面对。
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公开(公告)号：CN103080365A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040720.5
申请日：2011-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/544 , C23C14/545 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种蒸镀处理装置和蒸镀处理方法，能够在基板上形成薄膜的同时进行膜厚的控制。蒸镀处理装置利用蒸镀在基板上形成薄膜，其中，该蒸镀处理装置包括：自由减压的材料供给部，其用于供给材料气体；以及成膜部，其用于在上述基板上形成薄膜，上述成膜部具有用于对向上述基板喷射的材料气体的蒸气浓度进行测量的检测部件，该蒸镀处理装置设有控制部，该控制部根据上述检测部件的测量结果来控制成膜条件。
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