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公开(公告)号:CN108998763A
公开(公告)日:2018-12-14
申请号:CN201810816820.6
申请日:2018-07-23
Applicant: 桑德集团有限公司 , 桑顿新能源科技有限公司
CPC classification number: C23C14/085 , B22F1/02 , C23C14/223 , C23C14/228 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种粉体的包覆方法及其用途与溅射设备,涉及粉体制备领域,该粉体的包覆方法是将粉体悬浮于溅射工艺设备中的溅射腔内,通过溅射工艺在所述粉体表面制备包覆层。利用该方法能够缓解现有的包覆方法在粉体颗粒形成的包覆层均匀性差,无法在粉体表面形成360°的包覆层的技术问题,达到提高包覆层均匀性的效果。
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公开(公告)号:CN107847458A
公开(公告)日:2018-03-27
申请号:CN201680040287.8
申请日:2016-06-06
Applicant: 密执安州立大学董事会
IPC: A61K9/70 , A61K31/522 , A61K31/192 , A61K31/138 , B05D1/00 , C23C14/12 , C23C14/24
CPC classification number: A61K9/70 , A61K31/138 , A61K31/167 , A61K31/192 , A61K31/277 , A61K31/352 , A61K31/522 , A61K45/06 , A61L27/54 , A61L31/16 , B05D1/60 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/228
Abstract: 提供了固体膜和具有表面的制品,所述表面具有以沉积的低分子量有机化合物(例如药物活性物质和新化学实体)图案化的离散区域。所述有机化合物可以以≥约99质量%存在于一个或更多个离散区域中并且可以是结晶的或无定形的。沉积的有机化合物可被沉积为具有高表面积的膜。作为非限制性实例,沉积的有机化合物表现出提高的溶解度和生物利用度。还提供了惰性气体流中此类低分子量有机化合物的有机蒸气喷射印刷沉积法的方法。
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公开(公告)号:CN107686971A
公开(公告)日:2018-02-13
申请号:CN201710734643.2
申请日:2017-08-24
Applicant: 苏州鑫河镜业有限公司
Inventor: 杨晓燕
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/0652 , C23C14/0694 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/10 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/30 , G02B1/10
Abstract: 本发明公开了一种镜片多层高通光耐久镀膜工艺,包括步骤:选取镜片,确定折射率和镀膜膜系结构为A+(B+C)m+D+E;其中A层为SiO2,B层、C层为金属的氧化物或氟化物,D为内保护层,E为外保护层;使用溅射法镀上A层;蒸镀法镀上各层B层和C层;用电子束蒸镀法镀上D层和E层。本发明结合多种现有工艺对不同的膜层选择性处理,且合理设计膜系结构,使膜系的可靠性和光学性能的保持性得到本质上的保证,本发明所镀的膜具有较好的光学性能,对可见光透过率最高可达96.7%,并具有较长的使用寿命。
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公开(公告)号:CN104711514B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201510161261.6
申请日:2015-04-07
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Inventor: 井杨坤
IPC: C23C14/12
CPC classification number: H01L51/0002 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/542 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及方法,所述装置用于在基板的目标位置形成有机材料薄膜,所述装置包括气体输送机构、气体喷射机构,其中:气体输送机构:用于将有机材料的蒸汽和惰性气体的混合气体输送到气体喷射机构;气体喷射机构:用于将所述气体输送机构输送来的混合气体喷射到基板上的目标位置。所述方法通过本发明所提供的成膜装置将有机材料的蒸汽和惰性气体的混合气体输送到基板上的目标位置,使得所述有机材料在所述目标位置上沉积,沉积过程中,所述有机材料沉积过程初期的混合气体流速小于沉积过程中期的混合气体流速。本发明所提供的成膜装置和方法使得有机材料沉积成膜过程容易控制,适用大多数尺寸的目标基板。
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公开(公告)号:CN102428205B
公开(公告)日:2016-09-14
申请号:CN201080021167.6
申请日:2010-03-24
Applicant: 密执安州立大学董事会
IPC: B41J2/005
CPC classification number: C23C14/12 , B41J2/005 , C23C14/04 , C23C14/228
Abstract: 本发明提供第一器件。该器件包括打印头。该打印头还包括第一喷嘴,该第一喷嘴气密地密封到第一气体源上。第一喷嘴具有孔眼,该孔眼在与第一喷嘴的流动方向相垂直的方向上,具有0.5至500微米的最小尺寸。在从孔眼到第一喷嘴中的一定距离处——该一定距离是第一喷嘴的孔眼的最小尺寸的5倍,与流动方向相垂直的最小尺寸是第一喷嘴的孔眼的最小尺寸的至少两倍。
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公开(公告)号:CN104379804B
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201380034843.7
申请日:2013-06-12
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/48 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/562 , C23C16/4401 , C23C16/4409 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/545
Abstract: 本发明提供一种在真空槽内,一边运送薄膜一边以高的成膜速度在薄膜上形成均匀的膜厚的有机化合物膜的技术。在真空槽(2)内,将从原料卷材(41)上送出的薄膜(10)与中央滚筒(3)相接触地运送,在薄膜(10)上形成有机化合物膜。具有蒸汽排放装置(8)和能量线射出装置(9),所述蒸汽排放装置(8)配置在设在真空槽(2)内的成膜室(6)内,具有排放有机化合物单体的蒸汽并向中央滚筒(3)上的薄膜(10)吹喷的蒸汽排放部(82),所述能量线射出装置(9)相对于形成在中央滚筒(3)上的有机化合物单体层照射能量线,使有机化合物单体层硬化。蒸汽排放装置(8)以及成膜室(6)分别与能够独立控制的第5以及第3真空排气装置(80、60)相连,使蒸汽排放装置(8)内的圧力比成膜室(6)内的圧力大,且使蒸汽排放装置(8)内的圧力与成膜室(6)内的圧力的差为一定。
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公开(公告)号:CN102597299B
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201080049000.0
申请日:2010-09-02
Applicant: 通用显示公司
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/564
Abstract: 提供了一种装置。所述装置包括:喷嘴(310)、与所述喷嘴流体连通的载体气体源和有机分子源。所述装置还包括与所述喷嘴相邻设置的主动冷却系统(322)。优选地,所述装置还包括腔体,其中,所述喷嘴和所述主动冷却系统设置在所述腔体内。基底保持器也可以设置在所述腔体内,所述基底保持器适于将基底支承在所述喷嘴的下方,能够相对于所述喷嘴移动。优选地,基底由所述基底保持器保持,所述基底设置在距所述主动冷却系统0.1mm至10mm的距离处。优选地,所述装置还包括附接到所述喷嘴上的加热系统(350)。所述加热系统附接到所述喷嘴上的位置优选地包括距所述喷嘴的顶端为0至5mm的至少一个位置。
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公开(公告)号:CN104379797A
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201380034632.3
申请日:2013-06-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/228 , C23C14/562 , C23C14/58 , H01J37/32761 , H01J37/3277
Abstract: 本发明利用通过加热生成的有机化合物的蒸气以高成膜速率形成有机薄膜。将成膜室(43)配置到缓冲室(42)的内部,将中央辊(17)的一部分侧面从成膜室开口(54)插入到成膜室(43)内,使基材膜(23)一边紧贴在该部分的侧面上一边行进。从连接在成膜室(43)上的蒸气生成装置(26)将蒸气通过载气运输,通过冷却装置(30)将中央辊(17)冷却,将基材膜(23)冷却到蒸气的冷凝温度以下的温度,通过释放到成膜室(43)内的蒸气在基材膜(23)的表面上形成有机原料层(35),使中央辊(17)旋转,在硬化室(44)中照射能量线而使其硬化。缓冲室(42)真空排气到低压力,使得从成膜室开口(54)流出的载气和蒸气不流入到硬化室(44)及卷室(41)中。
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公开(公告)号:CN104204278A
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201380017086.2
申请日:2013-01-31
Applicant: 株式会社渥美精机
CPC classification number: B05D1/12 , B05D1/36 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/28 , C23C14/56 , C23C14/562
Abstract: 一种粒子膜层积装置及使用该装置的粒子膜层积方法。本发明的粒子膜层积装置(1)具有:生成金属材料(9)的纳米粒子(12)的纳米粒子生成室(2);生成树脂材料(11)的纳米纤维(13)的纳米纤维生成室(3);在基板(18)上将纳米粒子(12)及纳米纤维(13)成膜并层积的层积室(4);在成膜室(4)内将纳米粒子(12)成膜的纳米粒子成膜区域(15);在成膜室(4)内将纳米纤维(13)成膜的纳米纤维成膜区域(16);使基板(18)在纳米粒子成膜区域(15)与纳米纤维成膜区域(16)之间移动的移动单元(17);对层积室(4)进行排气的排气单元(5);将冷却气体分别导入纳米粒子生成室(2)及纳米纤维生成室(3)的冷却气体导入单元(8)。
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公开(公告)号:CN103906855A
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:CN201280054145.9
申请日:2012-10-01
Applicant: 波音公司
CPC classification number: C23C14/56 , C23C14/228 , C23C14/46 , H01J37/32357 , H01J37/32752 , H01J37/32761 , H01J37/32825 , H01J37/32889
Abstract: 一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间,其中,网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料,并且其中,穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。
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