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公开(公告)号：CN104808439A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510036077.9
申请日：2015-01-23
Abstract: 本发明提供了光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法。光致抗蚀剂组合物包含相对于约100重量份的丙烯酰基共聚物为约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、约1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：CN101618462B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN200910139847.7
申请日：2009-07-03
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: B22F9/24
Abstract: 金属纳米颗粒的制造方法，该方法将已有的2阶段的金属颗粒生成过程(首先生成氧化亚铜后，再通过还原剂生成铜颗粒)减少为1阶段，从而能够显著简化工序；能够在低温(15～60℃)下通过短时间的反应容易地取得金属铜颗粒；不需要经过二次水洗去除金属盐的复杂的水洗工序；粒度分布均匀且不要求分级工序，因此适于批量生产。所述方法包括：第1阶段，在含有二醇类溶剂的溶剂中溶解金属前体；第2阶段，向在所述第1阶段中制造出的溶液中添加有机胺，搅拌至溶液的颜色不发生变化为止；以及第3阶段，在所述第2阶段的添加了有机胺的溶液中慢慢添加从肼衍生物、连二磷酸钠、羟胺和硼氢化钠组成的组中选择出的一种以上的化合物，从而使金属还原析出。
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公开(公告)号：CN1955843B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200610137563.0
申请日：2006-10-25
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，所述感光性树脂组合物不仅显像后的均匀度、灵敏度、分辨率、耐热性、透明性等性能优异，特别是由于可实现低介电常数的有机绝缘膜，因而能够降低耗电、减少串扰，适合用于多种显示器工序中的有机绝缘膜。所述感光性树脂组合物含有：a)丙烯酸类共聚物；b)1，2-二叠氮醌化合物；以及c)溶剂，所述a)丙烯酸类共聚物是通过将下述化合物i)～iv)共聚得到的，i)下述化学式1或化学式2所示的含有POSS的不饱和化合物；ii)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物；iii)含有环氧基的不饱和化合物；以及iv)烯烃类不饱和化合物。[化学式1]？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？[化学式2]
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公开(公告)号：CN102246095B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN200980149593.5
申请日：2009-12-09
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及正型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物，具体涉及含有低聚硅氧烷化合物的正型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物，所述低聚硅氧烷化合物是使i)由下述化学式1表示的含有1-3个苯基的反应性硅烷和ii)由化学式2表示的4官能反应性硅烷的硅烷单体在催化剂存在下进行水解和缩聚而得到，所述低聚硅氧烷化合物的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为1,000至2,0000。根据本发明的正型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物，可以将现有的SiNx钝化/丙烯酸系感光性有机绝缘膜的双重结构形成为一层(layer)，从而能够带来工序的简化和生产费用的节约，不仅灵敏度、分辨率、工艺裕度、透明性、耐热变色性等性能优异，特别是使低介电常数绝缘膜成为可能，从而能够降低耗电，并消除残像、串扰、以及阈值电压的漂移现象。另外，使优异的耐热性带来的低释气成为可能，从而能够确保优异的面板可靠性。由此可以在各种显示器中不仅能够有用地适用于钝化绝缘膜、栅绝缘膜，而且还能够有用地适用于平坦化膜等。
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公开(公告)号：CN101362033B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN200810144922.4
申请日：2008-08-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: B01D21/26
Abstract: 本发明涉及半导体或显示屏制造工艺的试液再循环方法和装置，其能够在工序进行中除去半导体或显示屏制造工艺的试液(特别是在清洗或剥离工序中的清洗液或剥离液)所含有的渣，能够实现连续运转和实时运转，通过调节离心加速度、停留时间等而具有能够容易地实现对工序上难除去的颗粒状微粒进行固液分离至所期望的粒度范围的效果。所述方法的特征在于，其包含如下阶段：由半导体或显示屏工艺设备向外部供给使用过的试液的阶段；对所述试液进行离心分离，分离成i)渣和ii)试液的离心分离阶段；将在离心分离阶段中在离心力的作用下被分离排出的试液收集，再供给到工艺设备中的再循环阶段；和将由离心分离阶段分离出的渣收集的阶段。
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公开(公告)号：CN101093365B
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN200710123038.8
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。
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公开(公告)号：CN101424888B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200810174803.3
申请日：2008-10-31
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。
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公开(公告)号：CN101071267B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200710096934.X
申请日：2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。[化学式1]
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公开(公告)号：CN101042543B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200710086623.5
申请日：2007-03-23
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含，a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。
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公开(公告)号：CN1702560B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200510074042.0
申请日：2005-05-25
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，用于液晶显示设备中使用的玻璃基板及半导体制造时所用的晶片的周边和背面部分，短时间内可高效去除附着的没用的感光性树脂。本发明提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，其包含a)烷基酰胺；和b)乙酸烷基酯。上述稀释剂组合物优选含有a)烷基酰胺1～99重量份；b)乙酸烷基酯1～80重量份。此外，本发明提供使用上述稀释剂组合物的半导体元件及液晶显示装置的制造方法。
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