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公开(公告)号：CN101508846A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910007160.8
申请日：2009-02-13
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L33/02 , C08L35/00 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种可用作保护膜的有机－无机复合体树脂组合物，所述组合物的耐化学性、绝缘性、平坦性、耐热性、透光率、粘接性等性能优异，并且涂膜固化后在因工艺温度变化所导致的基板收缩、膨胀等热变形方面以及在抗龟裂性和粘接性方面优异，适于作为液晶显示元件的保护膜用绝缘材料。基于本发明的有机－无机复合体树脂组合物的特征在于，所述组合物包含：(a)含有烯键式不饱和基团和芳烃基的聚脂肪族芳族倍半硅氧烷；(b)丙烯酸类共聚物，该共聚物是不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物与一种以上丙烯酸类不饱和化合物共聚得到的；(c)具有两个以上烯键式不饱和键的单体化合物以及(d)具有环氧基或烯键式不饱和键的硅类化合物。
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公开(公告)号：CN101450384A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200810182426.8
申请日：2008-12-05
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明提供利用等离子体的金属纳米粉末的合成装置和方法，该合成装置和方法能够利用较简单的装备生成高产率的金属纳米粉末，并且能够生成颗粒均匀的纳米单位大小的金属颗粒。本发明的合成装置包括：等离子体产生装置，其具备电源供给部、电磁波产生部、导波管和产生等离子体的放电管；气体和粉末供给装置，其用于将经25～300℃预热后的i)金属氧化物粉末和还原气体或者；ii)金属还原物粉末和氧化气体供给到上述放电管的等离子体部位；和反应管，其与上述放电管的下端结合，在该反应管中，由上述气体和粉末供给装置供给的粉末变为气相，发生还原或氧化反应，然后被冷却，形成金属粉末。本发明的合成方法为利用了本发明合成装置的合成方法。
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公开(公告)号：CN101362033A
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200810144922.4
申请日：2008-08-07
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: B01D21/26
Abstract: 本发明涉及半导体或显示屏制造工艺的试液再循环方法和装置，其能够在工序进行中除去半导体或显示屏制造工艺的试液(特别是在清洗或剥离工序中的清洗液或剥离液)所含有的渣，能够实现连续运转和实时运转，通过调节离心加速度、停留时间等而具有能够容易地实现对工序上难除去的颗粒状微粒进行固液分离至所期望的粒度范围的效果。所述方法的特征在于，其包含如下阶段：由半导体或显示屏工艺设备向外部供给使用过的试液的阶段；对所述试液进行离心分离，分离成i)渣和ii)试液的离心分离阶段；将在离心分离阶段中在离心力的作用下被分离排出的试液收集，再供给到工艺设备中的再循环阶段；和将由离心分离阶段分离出的渣收集的阶段。
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公开(公告)号：CN101315521A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810109365.2
申请日：2008-06-02
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜，特别是能够实现高灵敏度的有机绝缘膜，由此通过缩短工序时间而能够提高生产率，不仅如此，同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高耐冲击性。本发明涉及感光性树脂组合物，特别是涉及一种感光性树脂组合物，其特征在于，该感光性树脂组合物包含0.1重量％～10重量％的选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2，2，4－三甲基－1，3－戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100429248C
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200510071269.X
申请日：2005-05-08
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: C08F220/04 , C08F212/08 , H01B3/44 , G02F1/136
Abstract: 本发明涉及TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法，特别是涉及包括对在溶剂下聚合i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)苯乙烯类单体、iii)环氧类单体、iv)异冰片基类单体和v)二聚环戊二烯类单体而制造的共聚物溶液进行精制的步骤的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法、用上述方法制造的TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂及适用了上述丙烯酸类共聚物树脂的TFT-LCD用层间有机绝缘膜。如果将通过本发明制造的丙烯酸类共聚物树脂应用于TFT-LCD用正电型层间有机绝缘膜，可以提高膜的显像性和耐热性，还具有可提高透过率的效果。
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公开(公告)号：CN101050922A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710095801.0
申请日：2007-04-04
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: F27D11/12 , H01J9/00 , G02F1/1343 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供一种热处理炉、平板显示元件制造装置、方法及平板显示元件，可在常压下以密闭和开放的结构应用，可连续地进行工序进程，减少待机时间，从而减少工序时间，具有提高效率和节约费用的效果，与使用现有方式的热处理工序相比，曝露在高温中的时间显著减少，所以可以减少高温工序时基板的热膨胀/收缩造成的损伤，在减少不良率的同时，具有增加形成在基板上的材料层的致密度的效果。所述热处理炉包括：产生微波的磁控管；对所述磁控管所产生的微波进行传导的波导管；以及放电管，其根据通过所述波导管传导的微波和气体供给装置供给的气体来形成微波等离子体，并放出所述形成的等离子体，使其照射到涂布有构造物形成材料层的面板上。
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公开(公告)号：CN101030047A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710086162.1
申请日：2007-03-05
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，所述再生方法和再生装置特别适于经济性较好地对使用含有各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。本发明的再生装置适用于该再生方法。本发明的抗蚀剂剥离废液的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物形成在有机溶剂蒸馏时不被蒸馏的胺－酸化合物；和(b)对上述(a)工序的反应产物进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。
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公开(公告)号：CN101017333A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200610003266.7
申请日：2006-02-06
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10－50重量％的有机胺；b)占0－70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20－90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01－10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗，特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。
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公开(公告)号：CN101000468A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200710001267.2
申请日：2007-01-11
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种，为了再利用TFT－LCD彩色滤光片的制造过程中产生的不良基板，去除彩色抗蚀剂及涂层的薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物，具体涉及一种包括：(a)1－50w％的选自无机碱氢氧化物、烷基氢氧化铵及苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，所述烷基氢氧化铵包含C1－C4的烷基；(b)5－30w％的极性硫化物；(c)5－35w％的烷撑二醇醚，所述烷撑二醇醚包含C1－C4的烷基；(d)2－30w％的烷撑二醇二烷基醚，所述烷撑二醇二烷基醚包含C1－C4的烷基；(e)2－30w％的水溶性胺化合物；(f)残余量水的彩色抗蚀剂用剥离液组合物。
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