公开(公告)号：CN1950755A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200580014564.X

申请日：2005-05-06

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  张锡唱 ,  郑宗铉

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/425 ,  G03F7/426

Abstract: 本发明涉及一种在制作电路或显示器件图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体地说，涉及一种含有胺、溶剂和防腐剂的光刻胶去除剂组合物，所述防腐剂为选自包括三唑化合物、巯基化合物、含有羟基的有机酚化合物及其混合物的组的至少一种化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物能够容易快速地去除光刻胶膜，并且能够使图形化的金属电路的腐蚀降低至最小。

公开(公告)号：CN1713077A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200510077285.X

申请日：2005-06-21

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金圣培 ,  尹锡壹 ,  张锡唱

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种组合物，该组合物用于去除电路或显示设备的金属布线构图所用的抗蚀剂。本发明组合物含有一种碳酸亚烃酯、并可任选地含有一种叔胺或一种氧化剂。本发明组合物可以高效去除残留在已构图的金属膜上的抗蚀剂，在高温下由蒸发引起的组成变化和化学疲劳小，并且能将已构图的金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN101017333A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200610003266.7

申请日：2006-02-06

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  朴熙珍 ,  辛成健 ,  张锡唱 ,  金玮溶 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10－50重量％的有机胺；b)占0－70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20－90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01－10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗，特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。

公开(公告)号：CN101000468A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200710001267.2

申请日：2007-01-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 张锡唱 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种，为了再利用TFT－LCD彩色滤光片的制造过程中产生的不良基板，去除彩色抗蚀剂及涂层的薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物，具体涉及一种包括：(a)1－50w％的选自无机碱氢氧化物、烷基氢氧化铵及苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，所述烷基氢氧化铵包含C1－C4的烷基；(b)5－30w％的极性硫化物；(c)5－35w％的烷撑二醇醚，所述烷撑二醇醚包含C1－C4的烷基；(d)2－30w％的烷撑二醇二烷基醚，所述烷撑二醇二烷基醚包含C1－C4的烷基；(e)2－30w％的水溶性胺化合物；(f)残余量水的彩色抗蚀剂用剥离液组合物。

公开(公告)号：CN1950754A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200580014563.5

申请日：2005-05-06

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  张锡唱 ,  郑宗铉

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/425 ,  C07D295/027 ,  C07D295/088

Abstract: 本发明涉及一种在制作电路或显示装置图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体而言，涉及一种含有胺和溶剂的光刻胶去除剂组合物，其中，所述胺为环胺化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物可容易并快速地去除光刻胶膜，并可使形成图形的金属电路的腐蚀最小化。