一种混合酸处理三聚氰胺制备g-C3N4 光催化剂的方法及其产品

    公开(公告)号:CN116159583A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202310176332.4

    申请日:2023-02-28

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种混合酸处理三聚氰胺制备g‑C3N4光催化剂的方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:1)取质量体积比范围为150g/L~252g/L的三聚氰胺和水混合获得混悬液Ⅰ,2)将混合酸中的第一种酸与混悬液Ⅰ混合后搅拌20min~60min,重复该步骤至混合酸中的全部酸加入并完成混合搅拌后获得混悬液Ⅱ;将混悬液Ⅱ干燥,研磨,获得改性三聚氰胺,所述混合酸选自硝酸、硫酸、磷酸中的至少两种;3)将步骤2)获得的改性三聚氰胺放入坩埚后置于加热装置中,隔绝空气加热,以4℃/min~5℃/min的升温速度升至500℃~550℃并维持3.5h~5h,待自然冷却至室温后取出并研磨,获得改性的g‑C3N4光催化剂。

    一种Fe/C60颗粒薄膜霍尔效应材料及制备方法

    公开(公告)号:CN110129736B

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN201910369713.8

    申请日:2019-04-30

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种Fe/C60颗粒薄膜霍尔器件材料及其制备方法。该霍尔器件材料为纳米金属Fe颗粒随机分布于有机半导体C60母体中构成的Fe/C60复合薄膜,薄膜采用共蒸发的方法制备,制备过程中通过调控Fe和C60蒸发源的输入电流来改变Fe和C60的体积比,通过改变沉积时间来调控颗粒薄膜的厚度。该方法制备出的Fe/C60颗粒薄膜具有很高的反常霍尔电阻率和反常霍尔系数,反常霍尔电阻率的温度稳定性好。

    一种Cu2O@Cu/AgBr复合光催化剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN105879887B

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201610382030.2

    申请日:2016-05-31

    Applicant: 南开大学

    Inventor: 程雅慧 贺婕 刘晖

    Abstract: 一种Cu2O@Cu/AgBr复合光催化剂及其制备方法,其特征在于所述复合光催化剂的制备方法包括以下步骤:1)首先采用液相还原的方法制备Cu2O@Cu核壳结构纳米颗粒,所述Cu2O@Cu核壳结构纳米颗粒中,Cu单质的质量百分比含量为0.5%~50%;2)采用液相沉淀法在将AgBr沉淀于步骤1)得到的Cu2O@Cu核壳结构纳米颗粒表面,得到Cu2O@Cu/AgBr复合光催化剂,其中Ag元素与Cu元素的摩尔比为1:0.1~20。

    一种调节多晶Fe3O4薄膜材料电阻率的方法

    公开(公告)号:CN101345287B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200810151233.6

    申请日:2008-09-03

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种调节多晶Fe3O4薄膜材料电阻率的方法,特别是一种通过退火控制多晶Fe3O4薄膜材料的电阻率升高或降低的方法。该方法解决了自旋注入过程中的电阻率不匹配问题,满足向各种具有不同电阻率的半导体材料中注入自旋的实际需要。该方法的优点是简单易行,容易有效地调节多晶Fe3O4薄膜材料的电阻率,并且所用方法实用性较好,易于工业化。

    晶粒大小可控的多晶Fe3O4薄膜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN100409379C

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200610013055.1

    申请日:2006-01-16

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明属于一种晶粒大小可控的多晶Fe3O4薄膜材料及其制备方法,它是在基片上形成多晶Fe3O4薄膜,Fe3O4晶粒粒径为19~42纳米,薄膜的室温磁电阻数值11~12%。本发明是采用直流磁控溅射技术,先在氩气和氧气的混合气氛中溅射成膜,然后通过对退火温度和退火时间的连续控制而制备的,所用基片材料为玻璃、石英、单晶硅、单晶砷化镓等,溅射时基片不加热。本发明制备得到的多晶Fe3O4薄膜材料与目前所存的同类材料相比,其晶粒大小可以连续控制,并且具有较高的室温磁电阻数值,制备工艺简单,适用于多种基片等优点。

    纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料的制备方法

    公开(公告)号:CN100387751C

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200510122237.8

    申请日:2005-12-08

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料的制备方法。该磁敏材料的通式为FexGe1-x,其中x为铁的金属颗粒所占的体积百分比,0.45<x<0.60,薄膜厚度在4~8纳米。先将高纯度的氩气通入真空室,然后将超高真空闸板阀的开启度降为20%。锗靶上加15瓦的射频功率,在铁靶上加以5~15瓦的直流功率,预溅射20分钟左右。基片以20转/分钟的速率均匀旋转。本发明制备的铁锗颗粒薄膜材料为纳米晶结构,霍尔电阻灵敏度在-250℃到+200℃的温度范围内达到125VA/T,并且具有小的热漂移、零磁场偏移。本发明的材料制备简单,成本低,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。

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